一种同步去除污染物并控制三卤甲烷生成的深度处理系统及工艺技术方案

本发明专利技术公开了一种同步去除污染物并控制三卤甲烷生成的深度处理系统及工艺，所述深度处理系统包括：原水池(1)、预氧化接触池(2)、沉淀池(3)、砂滤池(4)、中间集水池(5)、后臭氧接触池(6)、活性炭滤池(7)以及消毒池(8)，所述原水池(1)的原水经泵提升至所述预氧化接触池(2)，经臭氧预氧化处理后出水依次提升至所述沉淀池(3)和砂滤池(4)，经混凝沉淀砂滤常规处理后出水至所述中间集水池(5)，所述中间集水池(5)的水泵入所述后臭氧接触池(6)，经臭氧后氧化处理后出水经所述活性炭滤池(7)进一步处理后进入所述消毒池(8)，经所述消毒池(8)消毒后排出。

【技术实现步骤摘要】
一种同步去除污染物并控制三卤甲烷生成的深度处理系统及工艺
本专利技术涉及水处理
，特别是涉及一种同步去除针对性水源水中污染物并控制三卤甲烷生成的水源水的深度处理系统及工艺。
技术介绍
由于受到长江上游来水的影响，有些水库取水总氮、总磷含量偏高，水库面临水体富营养化和藻类暴发的风险，其中，藻类夏季以蓝藻为主，冬季则以硅藻为主，藻细胞大量增殖不仅会导致出现滤池堵塞、滤池穿透、藻毒素等问题，还会产生各类致嗅物质(土嗅素，2-甲基异莰醇、2-甲氧基-3-异丁基吡嗪等)从而引发臭和味等问题。经调研得知某水库水源水总磷在0.1～0.15mg/L，总氮在2～3mg/L，总藻密度为105～107个/L，致嗅物质主要为2-甲基异莰醇(2-MIB)且浓度基本在10～400ng/L。此外代表有机物的耗氧量CODMn在1.5～3mg/L，使得常规工艺处理三卤甲烷含量明显偏高，存在消毒副产物超标风险，因此有必要针对该水源原水水质，提出一种适合原水特征、经济有效的同步去除针对性水源水中污染物并控制三卤甲烷生成的水源水的深度处理技术。>专利技术内本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种同步去除污染物并控制三卤甲烷生成的深度处理系统，包括：原水池(1)、预氧化接触池(2)、沉淀池(3)、砂滤池(4)、中间集水池(5)、后臭氧接触池(6)、活性炭滤池(7)以及消毒池(8)，所述原水池(1)的原水经泵提升至所述预氧化接触池(2)，经臭氧预氧化处理后出水依次提升至所述沉淀池(3)和砂滤池(4)，经混凝沉淀砂滤常规处理后出水至所述中间集水池(5)，所述中间集水池(5)的水泵入所述后臭氧接触池(6)，经臭氧后氧化处理后出水经所述活性炭滤池(7)进一步处理后进入所述消毒池(8)，经所述消毒池(8)消毒后排出。/n

【技术特征摘要】
1.一种同步去除污染物并控制三卤甲烷生成的深度处理系统，包括：原水池(1)、预氧化接触池(2)、沉淀池(3)、砂滤池(4)、中间集水池(5)、后臭氧接触池(6)、活性炭滤池(7)以及消毒池(8)，所述原水池(1)的原水经泵提升至所述预氧化接触池(2)，经臭氧预氧化处理后出水依次提升至所述沉淀池(3)和砂滤池(4)，经混凝沉淀砂滤常规处理后出水至所述中间集水池(5)，所述中间集水池(5)的水泵入所述后臭氧接触池(6)，经臭氧后氧化处理后出水经所述活性炭滤池(7)进一步处理后进入所述消毒池(8)，经所述消毒池(8)消毒后排出。


2.如权利要求1所述的一种同步去除污染物并控制三卤甲烷生成的深度处理系统，其特征在于：所述原水池(1)的原水经泵提升至所述预氧化接触池(2)后，通过所述预氧化接触池(2)的预臭氧接触柱的臭氧预氧化处理后出水依次提升至所述沉淀池(3)和砂滤池(4)。


3.如权利要求1所述的一种同步去除污染物并控制三卤甲烷生成的深度处理系统，其特征在于：所述中间集水池(5)的水泵入所述后臭氧接触池(6)后，通过所述后臭氧接触池(6)的臭氧接触柱的后臭氧氧化处理后出水至所述活性炭滤池(7)。


4.如权利要求1所述的一种同步去除污染物并控制三卤甲烷生成的...

【专利技术属性】
技术研发人员：王铮，沈雪，夏萍，刘爽，叶辉，武珉辉，朱文滨，
申请(专利权)人：上海城市水资源开发利用国家工程中心有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31