【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种利用常压离子化质谱来分析气体组分，特别是超高纯气体中痕量组分的方法及系统。半导体工业需使用一些超高纯度(UHP)的气体。这种要求起因于要减少半导体器件行距尺寸的需求。当半导体器件上线距变得越来越小时，杂质量必须维持在十亿分之几(ppb)，甚至万亿分之几(ppt)的范围内，以确保器件的效能。供应纯度低于1ppb的超高纯气体的需求激励工业部门研制新的分析技术来测定气体杂质。常压离子化质谱(APIMS)是测定气体中痕量杂质达ppb和低于ppb级的已确认的技术。例如，氮或氩载气中的痕量水，甲烷，二氧化碳和氧可以低于ppb的灵敏度测定出来，因为这些气体可很有效地以在极少或没有分析干扰存在下的质量进行离子化。氢用于APIMS有其特殊问题，因为它不能有效地离解成它的母体离子(H2+，质量2)。在氮和含氮的气体中，一氧化碳也有其特殊问题，因为它的母体离子(Co+，质量28)与氮有相同质量。这使得用APIMS直接分析含量为ppb和低于bbp级的氢，甲烷，水，一氧化碳，氧和二氧化碳这六种关键性杂质成为十分因难。除APIMS外的各种分析方法都是利用催化技术来分析...
【技术保护点】
一种测定气体浓度的方法，该方法从包括氢的多种气体中测定至少一种选定的气体的浓度，所述方法包括用催化氧化剂将至少一种选定的气体转化成可测定气体，并用常压离子化质谱分析该可测气体，其灵敏度小于１ｐｐｂ。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：JB高达尔德，MM利特温，MH索尼克尔，AH马利克，
申请(专利权)人：普莱克斯技术有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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