【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及含卤族、尤其是含氯非金属或最多是部分金属材料的激光发射光谱的分析方法及其装置。其中照射于材料的一束脉冲激光产生等离子体,由等离子体发出的光在扩展方向被光学聚焦成锥形,然后将其引入光谱仪,在激光束触发并经预设时间延迟后进行分析,其所用脉冲激光束的能量密度约在108和1012W/cm2之间。与其类似的方法和装置例如可见于利用光谱来分析钢材的专利EP-B-176 625,其中由准点状等离子体区发出的光经一层光学膜,由光二极管或是光倍增管一维收集进行分析估算。这种方法需要引入惰性气体来改善分析结果的精度。此种方法及其装置不宜用于卤族元素的光谱分析。原理上,光谱分析是基于这样的事实,谱线强度正比于材料在i态时发射的原子密度ni和玻尔慈曼因子e-Ei/KT,其中Ei为激活能,T为温度。因此在恒定密度和温度的气态或等离子态中,可利用该式进行定量分析。在脉冲激光束产生的等离子体中,情况要复杂一些,该等离子体的密度和温度在时间和空间上都具有大的梯度,是不均匀的,其梯度大小不仅取决于激发条件而且取决于相应的材料。本专利技术以改善上述背景下的激光诱导光谱分析方法及其 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:K·罗尔,J·艾希尔,N·米勒,
申请(专利权)人:埃姆特克磁化股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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