一种实验室用快速去水器皿柜制造技术

本发明专利技术涉及一种实验室用快速去水器皿柜，包括柜体，柜体内上下平行设置有多个层架板，层架板上设置放置槽，所述的放置槽为圆槽，放置槽的槽径自上而下依次增大；所述的放置槽上开圆口，所述的圆口与放置槽同心，且圆口的口径小于待放器皿的器径，所述的放置槽、圆口的表面光滑；所述的层架板的下面开设过液槽，过液槽的槽面光滑，所述的过液槽为两端低、中间高的弧口朝下的弧形槽，所述的过液槽的槽长沿层架板的板长方向布置，每组放置槽下面至少具有一组过液槽；上层的层架板的过液槽的槽长大于下层的层架板的板长，且上层的层架板的过液槽的槽端位于下层的层架板的板端的上方的外侧；柜体的底部设置集水槽。

【技术实现步骤摘要】
一种实验室用快速去水器皿柜
本专利技术涉及实验室用柜，具体涉及一种实验室用快速去水器皿柜。
技术介绍
实验室用器皿常用的主要包括量器、容器、烧器、滤器，器径大小不一。实验室器皿使用完后是要清洗干净，然后置于器皿柜中。现有的器皿柜具有根据器径大小不同供各器皿分层放置的层架板构成的器皿柜，洗净的器皿虽然倒置的、稳定的放于层架板的放置槽中，但是洗净的器皿置于层架板上有的还是具有清洗液，清洗液随器皿皿壁流置层架板的放置槽中自然干燥，但是自然干燥的干燥速度还是偏慢的，时间一长由于放置槽中存液，易滋生细菌，不利用器皿的洁净使用，特别是后期使用器皿需要长时、复杂的处理，很是麻烦。
技术实现思路
本专利技术目的在于提供一种实验室用快速去水器皿柜，得器皿快速去水，不易滋生细菌，利用器皿后期的洁净使用。为了解决以上技术问题，本专利技术通过以下技术方案得以实现：一种实验室用快速去水器皿柜，包括柜体，柜体内上下平行设置有多个层架板，层架板上设置放置槽，所述的放置槽为圆槽，放置槽的槽径自上而下依次增大；所述的放置槽上开圆口，所述的圆口与放置槽同心，且圆口的口径小于待放器皿的器径，所述的放置槽、圆口的表面光滑；所述的层架板的下面开设过液槽，过液槽的槽面光滑，所述的过液槽为两端低、中间高的弧口朝下的弧形槽，所述的过液槽的槽长沿层架板的板长方向布置，每组放置槽下面至少具有一组过液槽；上层的层架板的过液槽的槽长大于下层的层架板的板长，且上层的层架板的过液槽的槽端位于下层的层架板的板端的上方的外侧；柜体的底部设置集水槽，集水槽的长度大于最上层的层架板的板长，集水槽上方的两侧设置消毒灯。进一步的，所述的集水槽的外侧铰接于柜体靠近柜门一侧，该铰接端的铰接轴平行柜门的门宽方向，且该铰接端的铰接轴位于柜门内侧，所述的集水槽向柜门外可自由翻转。再进一步的，集水槽的底面设置防护软面垫。再进一步的，所述的消毒灯为固设于柜体内侧壁上的紫外线灯，柜体两内侧壁上的紫外线灯的间距大于集水槽的槽宽。再进一步的，消毒灯上沿灯长方向设置条形灯罩，条形灯罩的弧口方向朝向集水槽。与现有技术相比，本专利技术可以获得包括以下技术效果：洗净的器皿放置于放置槽的圆口上，由于放置槽的限位作用，器皿稳定的放于放置槽中，由于洗净的器皿存在的清洗液较少，而圆口的表面光滑且过液槽的槽面光滑，器皿的清洗液随器皿皿壁聚集流至圆口形成液珠，液珠会沿过液槽向其低位顺流，即顺流至过液槽端部流出，而上层的过液槽的槽端是位于下层的层架板的板端的上方的外侧，这样清洗液顺利滴落至集水槽中，这样使得器皿快速去水，不易滋生细菌，利用器皿后期的洁净使用。且对于集水槽，其侧设置消毒灯定期消毒处理，集水槽中的清洗液自然干燥或者定期清理即可。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本专利技术的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1是本专利技术的下方柜门关闭状态结构图；图2是本专利技术的下方柜门打开状态结构图；图3是本专利技术的上层层架板与下层层架板布置状态的结构对比图；图4是本专利技术的放置槽的局部纵剖图。具体实施方式：以下将配合附图来详细说明本专利技术的实施方式。一种实验室用快速去水器皿柜，包括柜体10，柜体10内上下平行设置有多个层架板20，层架板20上设置放置槽21，所述的放置槽21为圆槽，放置槽21的槽径自上而下依次增大；所述的放置槽21上开圆口，所述的圆口与放置槽21同心，且圆口的口径小于待放器皿的器径，所述的放置槽21、圆口的表面光滑；所述的层架板20的下面开设过液槽22，过液槽22的槽面光滑，所述的过液槽22为两端低、中间高的弧口朝下的弧形槽，所述的过液槽22的槽长沿层架板20的板长方向布置，每组放置槽21下面至少具有一组过液槽22；上层的层架板20的过液槽22的槽长大于下层的层架板20的板长，且上层的层架板20的过液槽22的槽端位于下层的层架板20的板端的上方的外侧；柜体10的底部设置集水槽30，集水槽30的长度大于最上层的层架板20的板长，集水槽30上方的两侧设置消毒灯40。参照附图，洗净的器皿放置于放置槽21的圆口上，由于放置槽21的限位作用，器皿稳定的放于放置槽21中，由于洗净的器皿存在的清洗液较少，而圆口的表面光滑且过液槽22的槽面光滑，器皿的清洗液随器皿皿壁聚集流至圆口形成液珠，液珠会沿过液槽22向其低位顺流，即顺流至过液槽22端部流出，而上层的过液槽22的槽端是位于下层的层架板20的板端的上方的外侧，这样清洗液顺利滴落至集水槽30中，这样使得器皿快速去水，不易滋生细菌，利用器皿后期的洁净使用。且对于集水槽30，其侧设置消毒灯40定期消毒处理，集水槽30中的清洗液自然干燥或者定期清理即可。此外，对于可能存在的洗净的器皿存在的清洗液较多问题，即清洗液前期形成的为液流，直接从圆口中滴落至下层的层架板20上，液流若不滴至过液槽22也就不对器皿造成影响，若滴至过液槽22或者过液槽22的器皿，同样的沿圆口滑落，形成液珠沿过液槽22流出。进一步的，所述的集水槽30的外侧铰接于柜体10靠近柜门一侧，该铰接端的铰接轴平行柜门的门宽方向，且该铰接端的铰接轴位于柜门内侧，所述的集水槽30向柜门外可自由翻转。参照图2，这样，清理集水槽30时，直接将集水槽30向外翻转，方便清洗。此外，在此结构上，再进一步的，集水槽30的底面设置防护软面垫31。清理时，对集水槽30上方放置的器皿起到误打落的防护作用。再进一步的，所述的消毒灯40为固设于柜体10内侧壁上的紫外线灯，柜体10两内侧壁上的紫外线灯的间距大于集水槽30的槽宽。这样，清理集水槽30时不会干涉到消毒灯40的布置，使用方便。再进一步的，消毒灯40上沿灯长方向设置条形灯罩41，条形灯罩41的弧口方向朝向集水槽30。这样，对消毒灯40防护的同时，保证消毒杀菌的紫外光集中于集水槽30处。以上显示和描述了本专利技术的基本原理、主要特征和本专利技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本专利技术不受上述实施例的限制，上述实例和说明书中描述的只是本专利技术的原理，在不脱离本专利技术精神和范围的前提下本专利技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本专利技术的范围内。本专利技术要求的保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种实验室用快速去水器皿柜，包括柜体(10)，柜体(10)内上下平行设置有多个层架板(20)，层架板(20)上设置放置槽(21)，所述的放置槽(21)为圆槽，放置槽(21)的槽径自上而下依次增大；其特征在于：所述的放置槽(21)上开圆口，所述的圆口与放置槽(21)同心，且圆口的口径小于待放器皿的器径，所述的放置槽(21)、圆口的表面光滑；/n所述的层架板(20)的下面开设过液槽(22)，过液槽(22)的槽面光滑，所述的过液槽(22)为两端低、中间高的弧口朝下的弧形槽，所述的过液槽(22)的槽长沿层架板(20)的板长方向布置，每组放置槽(21)下面至少具有一组过液槽(22)；/n上层的层架板(20)的过液槽(22)的槽长大于下层的层架板(20)的板长，且上层的层架板(20)的过液槽(22)的槽端位于下层的层架板(20)的板端的上方的外侧；/n柜体(10)的底部设置集水槽(30)，集水槽(30)的长度大于最上层的层架板(20)的板长，集水槽(30)上方的两侧设置消毒灯(40)。/n

【技术特征摘要】
1.一种实验室用快速去水器皿柜，包括柜体(10)，柜体(10)内上下平行设置有多个层架板(20)，层架板(20)上设置放置槽(21)，所述的放置槽(21)为圆槽，放置槽(21)的槽径自上而下依次增大；其特征在于：所述的放置槽(21)上开圆口，所述的圆口与放置槽(21)同心，且圆口的口径小于待放器皿的器径，所述的放置槽(21)、圆口的表面光滑；
所述的层架板(20)的下面开设过液槽(22)，过液槽(22)的槽面光滑，所述的过液槽(22)为两端低、中间高的弧口朝下的弧形槽，所述的过液槽(22)的槽长沿层架板(20)的板长方向布置，每组放置槽(21)下面至少具有一组过液槽(22)；
上层的层架板(20)的过液槽(22)的槽长大于下层的层架板(20)的板长，且上层的层架板(20)的过液槽(22)的槽端位于下层的层架板(20)的板端的上方的外侧；
柜体(10)的底部设置集水槽(30)，集水槽(30)的长度大于最上层的层架板...

【专利技术属性】
技术研发人员：奚光明，黄小飞，王赛，蒋宏伟，李园园，徐英，
申请(专利权)人：惠特环境科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34