【技术实现步骤摘要】
锍化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法
本专利技术关于锍化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、及图案形成方法。
技术介绍
近年来伴随LSI的高整合化与高速化,要求图案规则的微细化,于此当中,远紫外线光刻及极紫外线(EUV)光刻被视为有希望的次世代的微细加工技术。其中,使用ArF准分子激光的光刻于0.13μm以下的超微细加工是不可欠缺的技术。ArF光刻从130nm节点的器件制作开始有部分会使用,从90nm节点器件开始成为主要的光刻技术。作为下一45nm节点的光刻技术,起初使用F2激光的157nm光刻被视为有前景,但因为各种问题被指摘开发延宕,故通过在投影透镜与晶圆之间插入水、乙二醇、甘油等比起空气有更高折射率的液体从而可将投影透镜的开口数(NA)设计为1.0以上并能达成高分辨率的ArF浸润式光刻快速崛起(非专利文献1),并已处于实用阶段。为了进行该浸润式光刻,寻求不易溶出于水的抗蚀剂组成物。ArF光刻中,为了防止精密且昂贵的光学系材料劣化,寻求以较少曝光量即可发挥充分分辨率的高感度的抗蚀剂组成物。就实现方法而言,一般是选择在波长193nm为高透明者作为其各成分。例如针对基础树脂有人提出聚丙烯酸及其衍生物、降莰烯-马来酸酐交替聚合物、聚降莰烯及开环复分解聚合物、开环复分解聚合物氢化物等,在提高树脂本身的透明性方面已获得某程度的成果。近年来,利用碱水溶液显影的正调抗蚀剂和利用有机溶剂显影的负调抗蚀剂均受到关注。为了利用负调曝光将以正调无法达成的非常微细的孔图案予以解析,是以使用高分辨率的正型抗蚀剂 ...
【技术保护点】
1.一种锍化合物,以下式(A)表示;/n
【技术特征摘要】
20190405 JP 2019-0727571.一种锍化合物,以下式(A)表示;
式中,Q1及Q2各自独立地为氟原子或碳数1~6的氟化烷基;
Q3及Q4各自独立地为氢原子、氟原子或碳数1~6的氟化烷基;
a为1~4的整数;
b为1或2;
c为0~3的整数;
La1~La4各自独立地为单键、醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键;
XL1及XL2各自独立地为单键、或亦可含有杂原子的碳数2~40的2价烃基;
Ra为氢原子、或亦可含有杂原子的碳数1~20的1价烃基;
Rb及Rc各自独立地为亦可含有杂原子的碳数2~40的1价烃基,Rb与Rc亦可彼此键结并和它们所键结的氧原子及它们之间的碳原子一起形成环;
R1为亦可含有杂原子的碳数1~50的(a+1)价烃基;
R2为亦可含有杂原子的碳数1~50的1价烃基;
R3为亦可含有杂原子的碳数1~50的2价烃基;
又,b=1时,R1与R2或R2与R3亦可彼此键结并和它们所键结的硫原子一起形成环,b=2时,R1与R3或2个R1亦可彼此键结并和它们所键结的硫原子一起形成环。
2.根据权利要求1所述的锍化合物,以下式(A-1)表示;
式中,Q1~Q4、La1~La4、XL1、XL2、Ra、Rb、Rc、R2、R3、a、b及c与前述相同;Rd为亦可含有杂原子的碳数1~20的1价烃基;d为符合0≤d≤4且1≤a+d≤5的整数;d≥2时,各Rd可彼此相同也可不同,2个Rd亦可彼此键结并和它们所键结的原子一起形成环。
3.根据权利要求2所述的锍化合物,以下式(A-2)表示;
式中,Q1~Q4、La1~La4、XL1、XL2、Ra~Rd、a、b、c及d与前述相同;Re及Rf各自独立地为亦可含有杂原子的碳数1~20的1价烃基;e为0~5的整数;f为0~4的整数;e≥2时,各Re可彼此相同也可不同,2个Re亦可彼此键结并和它们所键结的原子一起形成环;f≥2时,各Rf可彼此相同也可不同,2个Rf亦可彼此键结并和它们所键结的原子一起形成环。
4.根据权利要求3所述的锍化合物,以下式(A-3)表示;
式中,Q1~Q3、La1~La4、XL1、XL2、Ra~Rf、a、b、d、e及f与前述相同。
5.一种光酸产生剂,是由根据权利要求1至4中任一项所述的锍化合物构成的。
6.一种化学增幅抗蚀剂组成物,含有:
根据权利要求5所述的光酸产生剂;及
含有下式(a1)或(a2)表示的重复单元的基础树脂;
式中,RA各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基;ZA为单键、亚苯基、亚萘基或(主链)-C(=O)-O-ZA1-,ZA1为亦可含有羟基、醚键、酯键或内酯环的碳数1~10的烷二基、或亚苯基或亚萘基;ZB为单键或(主链)-C(=O)-O-;XA及XB各自独立地为酸不稳定基团;R11为亦可含有杂原子的碳数1~20的1价烃基;n为0~4的整数。
7.根据权利要求6所述的化学增幅抗蚀剂组成物,其中,该基础树脂更含有下式(b1)或(b2)表示的重复单元;
式中,RA各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基;YA为氢原子、或含有选自羟基、氰基、羰基、羧基、醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键、内酯环、磺内酯环及羧酸酐中的至少1个以上的结构的极性基团;m为1或2。
8.根据权利要求6或7所述的化学增幅抗蚀剂组成物,其中,该基础树脂更含有选自下式(c1)~(c3)表示的重复单元中的至少1种;
式中,RA各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基;
Z1为单键、亚苯基、-O-Z11-、-C(=O)-O-Z11-或-C(=O)-NH-Z11-;Z11为碳数1~20的烷二基、碳数2~20的烯二基或亚苯基,亦可含有羰基、酯键、醚键或羟基;
Z2为单键、或-Z21-C(=O)-O-;Z21为亦可含有杂原子的碳数1~20的2价烃基;
Z3为单键、亚甲基、亚乙基、亚苯基、氟化亚苯基、-O-Z31-、-C(=O)-O-Z31-或-C(=O)-NH-Z31-;Z31为碳数1~6...
【专利技术属性】
技术研发人员:福岛将大,大桥正树,片山和弘,计良祐纪,
申请(专利权)人:信越化学工业株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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