【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种对半导体晶片及液晶玻璃基片等表面的膜厚不均匀、污迹、图形的垂直错位、伤痕等宏观缺陷进行检测的缺陷检测装置。
技术介绍
现有技术对半导体晶片液晶玻璃基片等基片进行自动检查的装置，有特开平9-61365号公报中公开的表面缺陷检测装置。该装置对被检测体面进行照明，并对其正反射光、衍射光、散射光进行受光摄像，通过图像处理可以检测膜厚不均匀、抗蚀剂图形的周期紊乱、抗蚀剂垂直错位等断而形状的差异等。但是这样构成的表面缺陷检测装置在对衍射光等进行摄像时，不能使照明的角度等自动调整到最佳的状态。因此存在很难在最佳状态进行缺陷检查的问题。另一方面，现有技术考虑了为对半导体晶片及液晶玻璃基片等基片的衍射光进行摄像的照明进行自动调整的方法。例如在特开平10-339701号公报中公开的缺陷检测装置中，首先读取有关在基片上所形成的图形的信息，判断该图形是否是周期图形，如果是周期性图形，则接收衍射光，转到检查。例如如果是线与间隔图形，则该装置设定基片表面法线旋转的旋转角，以便使线方向与照明光的入射方向相直交。该装置通过式sinθd-sinθi＝mλ/p计算对图形间距的衍...
【技术保护点】
一种缺陷检测装置，其特征在于包括： 被检测体； 照明部，相对于该被检测体倾斜规定角度而配置，并照射照明光； 摄像部，相对于上述被检测体倾斜规定角度而配置，并对由上述照明部所照明的上述被检测体发出的衍射光进行摄像； 角度控制部，用于改变上述照明部及前述摄像部中至少一方的倾斜角度； 图像处理部，按由该角度控制部改变的各倾斜角度，通过上述摄像部取入从上述被检测体发出的衍射光，并且求出对应于该衍射光的各倾斜角度的亮度值； 判断部，根据由该图像处理部所求得的倾斜角度和亮度值的关系，判断最适合对衍射光进行观测的ｎ次光；及 角度控制部，根据该判断...
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：小室考广，辻治之，三浦靖忠，田中利彦，
申请(专利权)人：奥林巴斯光学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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