形成浅沟渠结构的方法技术

本发明专利技术提供一种形成浅沟渠结构的方法，该方法包含：提供一基板；形成一图案化光阻层于所述基板上；以所述图案化光阻层为罩幕，进行蚀刻，形成浅沟渠结构于所述基板；及进行电浆处理，将四氟化碳及氧气的混合气体产生的电浆施加在具有所述浅沟渠结构的所述基板。所述方法还包含交替重复上述蚀刻与电浆处理的步骤，直到在基板形成具有预定深宽比的所述浅沟渠结构。上述方法可以使得堵塞于浅沟渠结构中的高分子残留物被移除，从而获得具有预定深宽比的浅沟渠结构。

【技术实现步骤摘要】
形成浅沟渠结构的方法
本专利技术是有关于一种半导体工艺中形成浅沟渠的方法，特别是涉及一种形成具有预定深宽比(aspectratio)的浅沟渠结构的方法。
技术介绍
在半导体组件制造的工艺中，为了使基板上的主动区域组件例如晶体管和晶体管之间的操作不会互相干扰，需要将每个集成电路上的晶体管与其他晶体管互相隔离，避免短路的情形发生，浅沟渠隔离(shallowtrenchisolation，STI)工艺因而产生。在半导体基板上进行图案化蚀刻工艺以形成浅沟渠结构的过程中，图案化光阻层的碳会转化成高分子并与蚀刻气体及蚀刻工艺副产物结合而形成高分子残留物，这些高分子残留物会堆积在浅沟渠的壁面，甚至造成对半导体基板实施的蚀刻工艺停止。在过去曾经使用含氧电浆移除这些高分子残留物，但并无法从浅沟渠的壁面完全移除这些高分子残留物，以致仍然会发生蚀刻停止的情况。随着半导体组件尺寸缩小和组件密度的增加，沟渠的深宽比(aspectratio)也随之增加，这些高分子残留物更容易堵塞于浅沟渠中，使得蚀刻停止(etchingstop)的问题更加严重，导致无法蚀刻浅沟渠至一定深度。
技术实现思路
本专利技术于是提供一种经过改良的浅沟渠工艺，以克服上述浅沟渠工艺所面临的问题。根据本专利技术提供的一实施方式，本专利技术的一种浅沟渠工艺包含：提供一基板；形成一图案化光阻层于所述基板上；以所述图案化光阻层为罩幕，进行蚀刻，形成浅沟渠结构于所述基板；及进行电浆处理，其中，所述电浆处理是施加四氟化碳及氧气的混合气体产生的电浆于具有所述浅沟渠结构的所述基板。在一实施例中，所述浅沟渠工艺还包含交替重复上述形成所述浅沟渠结构的步骤及电浆处理的步骤，直到在所述基板形成具有预定深宽比(aspectratio)的所述浅沟渠结构。在一实施例中，所述浅沟渠结构的预定深宽比在6:1到20:1之间。在一实施例中，所述四氟化碳及氧气的混合气体中四氟化碳与氧气的体积比例为1:3-1:30。在一实施例中，形成所述浅沟渠结构的步骤包含进行非等向性蚀刻工艺。根据本专利技术的一实施方式，所述非等向性蚀刻工艺包含反应性离子蚀刻工艺。在本专利技术提供的上述实施例中，对具有浅沟渠结构的基板施加四氟化碳及氧气的混合气体产生的电浆的电浆处理，可以使得堵塞于浅沟渠结构中的高分子残留物被移除，而可获得具有预定深宽比的浅沟渠结构。对于本领域一般技术人员而言这些与其他的观点与实施例在参考后续详细描述与附图之后将变得容易明白。附图说明图式所示的结构大小比例并不限制本专利技术的实际实施。图1为一种根据本专利技术的一实施例形成浅沟渠结构的方法步骤流程图；及图2-图7显示图1形成浅沟渠结构的方法中各步骤形成的半导体结构的剖面图。符号说明102、104、106、108、110、112步骤20基板22a光阻层22b图案化光阻层241、242浅沟渠结构261、262高分子残留物具体实施方式本专利技术提供一种应用于半导体工艺中的浅沟渠工艺，以形成具有预定深宽比(aspectratio)的浅沟渠结构。现在将参考本专利技术的附图详细描述实施例。在所述附图中，相同和/或对应组件是以相同参考符号表示。在此将提供各种实施例；然而，要了解到所提供的实施例只用于作为可体现各种形式的例证。此外，连接各种实施例所给予的每一范例都预期作为例示，而非用于限制。进一步的，所述图式并不一定符合尺寸比例，一些特征是被放大以显示特定组件的细节(且所述附图中所示的任何尺寸、材料与类似细节都将仅为例示而非限制)。因此，在此提供的特定结构与功能细节并不被理解为限制，而只是用于教导本领域一般技术人员实际操作所提供的实施例的基础。图1显示本专利技术一种形成浅沟渠结构的方法的步骤流程图，而图2至图7显示图1形成浅沟渠结构的方法的各步骤形成的半导体结构的剖面图。以下将配合图1至图7详细说明本专利技术形成浅沟渠结构的方法。首先，在步骤102，提供一基板20，例如硅基板或其他适合的半导体基板，在基板20上形成一光阻层22a，如图2所示。需注意的是，基板20上可以已经具备前段工艺的基本组件，本专利技术为了简化图形结构，位于基板20上例如金属氧化物半导体场效晶体管等基础组件，暂时忽略不予表示。接着，在步骤104，利用显影蚀刻技术形成一图案化光阻层22b于基板20上，如图3所示。接着，在步骤106，以图案化光阻层22b为罩幕，进行干蚀刻，例如非等向性蚀刻，形成浅沟渠结构241于基板20。在本专利技术的一实施方式中，非等向性蚀刻可以反应性离子蚀刻(RIE)工艺来执行。在步骤106的浅沟渠蚀刻过程中，图案化光阻层22b的碳会转化成高分子并与蚀刻气体及蚀刻的副产物结合形成高分子残留物261，而这些高分子残留物261会堆积在浅沟渠结构241的壁面，如图4所示。接着，在步骤108，对具有浅沟渠结构241的基板20进行电浆处理。所述电浆处理是施加四氟化碳(CF4)及氧气(O2)的混合气体产生的电浆于具有浅沟渠结构241的基板20，以移除堆积在浅沟渠壁面的高分子残留物261，如图5所示。在本专利技术的一实施方式中，本专利技术使用的四氟化碳及氧气的混合气体中四氟化碳与氧气的体积比例为1:3-1:30。在步骤108，对基板20实施电浆处理后，如果基板20上的浅沟渠结构241已经具有预定的深宽比(步骤110)，接下来，进行步骤112，从基板20移除图案化光阻层22b。如果基板20上的浅沟渠结构241未达到预定的深宽比，则回到步骤106，继续进行浅沟渠蚀刻工艺。请参见图6，在继续进行步骤106过程中，基板20上形成浅沟渠结构242，并且图案化光阻层22b的碳会转化成高分子并与蚀刻气体及蚀刻的副产物结合形成高分子残留物262，而这些高分子残留物262会堆积在浅沟渠结构242的壁面。因此，接下来对基板20进行步骤108的电浆处理，以移除堆积在浅沟渠壁面的高分子残留物262，如图7所示。如此一来，本专利技术通过交替重复步骤106及步骤108，可获得具有预定深宽比的浅沟渠结构(步骤110)。当获得具有预定深宽比的浅沟渠结构时，即进行步骤112，从基板20移除图案化光阻层22b。在本专利技术的实施例中，本专利技术的浅沟渠结构具有6:1的深宽比，亦可具有10:1的深宽比，亦可以具有20:1的深宽比。在一实施例中，浅沟渠结构可以是垂直侧壁或非垂直侧壁的浅沟渠结构，然而，上述的实施例并不用以限本制专利技术。虽然已经以一或多个实施例描述本专利技术浅沟渠的制造方法，但要了解到本专利技术提供内容并不限制于所提供的实施例。本专利技术涵盖在权利要求的精神与观点中所包含的各种修改与类似配置，应给予最广泛的诠释，以包含所有的修改与类似结构。本专利技术提供内容也包含权利要求中的所有任何实施例。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种形成浅沟渠结构的方法，该方法包含：/n提供一基板；/n形成一图案化光阻层于所述基板上；/n以所述图案化光阻层为罩幕，进行蚀刻，形成浅沟渠结构于所述基板；及/n进行电浆处理，其中，所述电浆处理是施加四氟化碳及氧气的混合气体产生的电浆于具有所述浅沟渠结构的所述基板。/n

【技术特征摘要】
20190404 US 16/375,2641.一种形成浅沟渠结构的方法，该方法包含：
提供一基板；
形成一图案化光阻层于所述基板上；
以所述图案化光阻层为罩幕，进行蚀刻，形成浅沟渠结构于所述基板；及
进行电浆处理，其中，所述电浆处理是施加四氟化碳及氧气的混合气体产生的电浆于具有所述浅沟渠结构的所述基板。


2.如权利要求1所述的形成浅沟渠结构的方法，其中，所述方法还包含交替重复上述形成所述浅沟渠结构的步骤及电浆处理的步骤，直到在所述基板形成具有预定深宽比的所述浅沟渠结构。


3.如权利要求2所述的形成浅沟渠结构的方法，其中，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄智霖，庄英政，
申请(专利权)人：南亚科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71