石墨舟和化学气相沉积设备制造技术

技术编号:25955344 阅读:41 留言:0更新日期:2020-10-17 03:47
本实用新型专利技术提供一种石墨舟和化学气相沉积设备,包括沿第一方向间隔设置的多片舟片,且各舟片的用于接触被加工工件的第一面与第一方向相互垂直,多片舟片在第一方向上划分为内片组和位于该内片组两侧的两组外片组,其中,各外片组包括至少一片舟片,且为外片,内片组包括至少一片舟片,且为内片,并且各外片在第一方向上的厚度大于各内片在第一方向上的厚度。本实用新型专利技术提供的石墨舟,其不仅可以减小各舟片上被加工工件之间的温度差异,提高各舟片间的薄膜厚度均匀性,而且可以减少能源浪费,提高产能。

【技术实现步骤摘要】
石墨舟和化学气相沉积设备
本技术涉及光伏
,具体地,涉及一种石墨舟和化学气相沉积设备。
技术介绍
在晶硅太阳能电池片制备过程中,需要在硅片表面生长一层减反钝化薄膜,该薄膜通常采用等离子体增强化学气相沉积(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition,简称PECVD)设备制备,具体地,使用石墨舟将硅片载入石英管内进行镀膜。镀膜时,石墨舟与硅片同时处于被加热的石英管内,管内为真空状态,外部射频电源与石墨舟相连,以向石墨舟提供气体电离所需的能量。在工艺过程中,由于石墨舟的不同舟片与石英管内壁之间的距离不同,导致同一石墨舟内的电池片的镀膜厚度一般呈现出“边缘厚,中间薄”的规律。这是由于热场的滞后性导致的,外侧的舟片上的硅片由于距离石英管较近,受热较快,使得在镀膜时外侧的舟片上的硅片温度高于内侧的舟片上的硅片,从而造成各舟片上的硅片间具有温度差异,进而导致淀积速率不同。而且,随着单舟硅片搭载数量及硅片尺寸的持续增大,石墨舟的总重量也在不断增大。由于石墨舟在工艺过程中作为载具会参与吸热,而石墨舟的吸热对于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种石墨舟,包括沿第一方向间隔设置的多片舟片,且各所述舟片的用于接触被加工工件的第一面与所述第一方向相互垂直,其特征在于,所述多片舟片在所述第一方向上划分为内片组和位于所述内片组两侧的两组外片组,其中,各所述外片组包括至少一片舟片,且为外片,所述内片组包括至少一片舟片,且为内片,并且各所述外片在所述第一方向上的厚度大于各所述内片在所述第一方向上的厚度。/n

【技术特征摘要】
1.一种石墨舟,包括沿第一方向间隔设置的多片舟片,且各所述舟片的用于接触被加工工件的第一面与所述第一方向相互垂直,其特征在于,所述多片舟片在所述第一方向上划分为内片组和位于所述内片组两侧的两组外片组,其中,各所述外片组包括至少一片舟片,且为外片,所述内片组包括至少一片舟片,且为内片,并且各所述外片在所述第一方向上的厚度大于各所述内片在所述第一方向上的厚度。


2.根据权利要求1所述的石墨舟,其特征在于,各所述内片在所述第一方向上的厚度相同。


3.根据权利要求1所述的石墨舟,其特征在于,各所述外片在所述第一方向上的厚度为2-10mm。


4.根据权利要求3所述的石墨舟,其特征在于,各所述外片在所述第一方向上的厚度为4mm。


5.根据权利要求1所述的石墨舟,其特征在于,各所述内片在所述第一方向上的厚度为1-2.5mm。


6.根据权利要求5所述的石墨舟,其特征在于,各所述内片在所述第一方向上的厚度为2mm。


7.根据权利要求1所述的石墨舟,其特征在于,对于每组外片组,所述外片的数量为1片。


8.根据权利要求1-7任意一项所述的石墨舟,其特征在于,各所述内片的所述第一面均包括至少一个承片区,且在所述内片的与各所述承片区对应的位置处设置有沿所述第一方向贯通所述内片的通孔;并且,所述通孔的尺寸的设定满...

【专利技术属性】
技术研发人员:申震闫志顺薛宝达
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司
类型:新型
国别省市:北京;11

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