一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统，包括壳体、设置在壳体外部的真空管路接口及设置在壳体内部的空腔、连通真空管路接口及空腔的侧流道、顶部流道、第一内流道及第二内流道；所述侧流道内部分布有三个单向阀；所述第一内流道与第二内流道分别独立与顶部流道及空腔相连通；本发明专利技术充分利用了壳体周围的有限空间和体积，设计成腔室结构，并在腔室内设置了由单向阀构建的三级稳压结构，从而构成真空源稳压系统，实现了一体化的结构设计，在结构上更加紧凑，并充分降低了零部件的种类和数量，可靠性更高。

【技术实现步骤摘要】
一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统
本专利技术涉及应用于真空污水连续收集、临时储存和周期性输送系统的气动控制器
，其中气动控制器用于与真空排污阀连接并控制真空排污阀工作，其具有通气、集水、排水及真空源稳压等功能，本专利技术则特别涉及一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统。
技术介绍
真空污水连续收集、临时储存和周期性输送系统(即：真空井)是一种收集生活污水并将其排放进行处理的系统，主要工作原理是凭借基于一端吸入空气，而另一端排出空气的真空或者负压气流输送力原理的管路，将来自建筑物的生活污水输送至较远的污水池或者真空收集输送管路系统中，而该过程中则需要采用一个临时污水储液罐，该污水罐具有与建筑物污水口相连的入口，以及与真空污水输送管路相连的排污吸入口，以及将排污吸入口和真空污水输送管路相连的真空排污阀；该真空排污阀具有一个控制装置，它的基本操作流程是当储液罐中污水水位达到第一预设值控制器对真空排污阀施加真空力而将污水吸走排空，直到污水罐中的污水水位降到另一个预设值时控制系统关闭真空排污阀，此装置即为本专利技术中涉及到的全自动气动控制装置。在液体或污水收集
，采用真空技术来收集液体或者污水是已公知的技术，国内的技术积累时间比较短，只在近几年来有较快速的发展，而相较于国外的长久发展而言，还具有广阔的发展空间，其中更加细分到该领域内的各个组成系统，包括全自动气动控制装置。全自动气动控制装置中涉及到真空管路的流通，而真空源的稳压效果直接影响整体设备的可控性和稳定性；目前，已公知的实现真空源稳压的技术方案是分体式真空源稳压和排水装置，即该装置是和真空排污阀、气控控制器装置独立开来的三个装置，并采用气管进行连接；参考美国专利号为US4171853的专利技术专利中的工作原理及结构设计，以及参考美国专利号为US5570715的专利技术专利中的实际应用，现有技术中主要有一种结构形式，即与真空排污阀下壳体独立的鸭嘴阀式排水技术方案，其存在如下缺陷：(1)独立结构设计方案，安装过程中容易碰坏；(2)鸭嘴型单向阀的密封效果差，容易受到污水影响；(3)稳压效果不佳；美国专利号为US4171853的专利技术专利中，当气控控制器和真空排污阀关闭或待机STAT-OFF时(关闭状态时)，经34下面的小管路联通管路3的34稳压腔室中的压力等于真空；气控控制器和真空排污阀打开时(由关闭转变为打开状态时)，管路3中的污水和空气混合体经过34的下面管路，此时34稳压腔室相连的管路3中的对用的管路入口处的压力由于污水和空气混合体的存在(抵消了一部分真空)而升高了真空值，这时34和管路3之间存在压力差，而且是34中的真空值更低，导致污水和空气迅速进入34稳压腔室，在进入冲击过程中，污水中的杂质会造成鸭嘴式单向阀组件38膜片39闭合的不良，造成在阀和控制器关闭状态时，有水汽进入阀体内部的情况；更重要的是鸭嘴式单向阀的不能有效闭合，造成了稳压器的稳压效果的大幅下降，收效甚微。因此本专利技术研制了一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统。以解决现有技术中存在的问题，经检索，未发现与本专利技术相同或相似的技术方案。
技术实现思路
本专利技术目的是：提供一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统，以解决现有技术中结构设计不合理而导致稳压可靠性及稳定性差的问题。本专利技术的技术方案是：一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统，包括壳体、设置在壳体外部的真空管路接口及设置在壳体内部的空腔、连通真空管路接口及空腔的侧流道、顶部流道、第一内流道及第二内流道；所述侧流道内部设置有单向阀；所述第一内流道与第二内流道分别独立与顶部流道及空腔相连通。优选的，所述壳体上端面盖设有密封盖板，所述真空管路接口设置在壳体下端面；所述侧流道沿壳体内部周向分布，并呈S型流通，由真空管路接口一端延伸至壳体上端面；所述顶部流道呈弧形设置在壳体上端面，并与侧流道通过第一真空出入口相连通；所述第一内流道沿壳体中轴线方向设置在壳体内部，上端与顶部流道通过第二真空出入口相连通，下端与空腔之间设置有水平流道，所述水平流道与第一内流道之间通过第三真空出入口相连通，与空腔之间通过第四真空出入口相连通；所述第二内流道沿壳体中轴线方向设置在壳体内部，上端与顶部流道通过第五真空出入口相连通，下端与空腔之间通过第六真空出入口相连通。优选的，所述侧流道包括分别沿壳体中轴线方向设置的第一腔室、第二腔室、第三腔室、第四腔室、第五腔室、第六腔室及第七腔室，所述第一腔室下端与真空管路接口相连通，所述第一腔室、第二腔室、第三腔室、第四腔室、第五腔室、第六腔室及第七腔室相连通的位置依次上下错开设置；所述单向阀分别设置在第一腔室、第三腔室及第五腔室内。优选的，所述第一腔室、第三腔室及第五腔室内均具有与壳体呈一体结构设置的导流块，所述导流块上端面呈漏斗状，中部设置有导流孔，所述单向阀固定在导流块下端，包括阀座、固定在导流块与阀座之间的第一波纹膜片、贯穿阀座及第一波纹膜片并与导流块连接的若干螺杆；所述阀座沿竖直方向的截面呈山字形，中部形成一环形腔；所述第一波纹膜片中部呈水平状，并处在导流孔下端，且与导流块下端面相抵，侧边与环形腔相对的位置处沿环形呈下凹状；若干所述螺杆呈环形分布，并贯穿环形腔下端面及呈下凹状的第一波纹膜片，所述螺杆与第一波纹膜片非接触式贯穿，侧边形成第一通槽，所述螺杆与阀座贯穿位置两侧设置有第二通槽。优选的，所述空腔内设置有第二波纹膜片及与第二波纹膜片连接的阀杆，所述第二波纹膜片将空腔分隔为上腔室及下腔室，所述第四真空出入口与下腔室相连通，所述第六真空出入口与上腔室相连通。与现有技术相比，本专利技术的优点是：(1)本专利技术充分利用了壳体周围的有限空间和体积，设计成腔室结构，并在腔室内设置了由单向阀构建的三级稳压结构，从而构成真空源稳压系统，实现了一体化的结构设计，在结构上更加紧凑，并充分降低了零部件的种类和数量，可靠性更高。(2)真空源稳压系统内部的连通主要通过侧流道、顶部流道及相互独立设置的第一内流道及第二内流道实现，侧流道呈S型流通，增加了流通路径，并在该流通路径上设置三级稳压腔室结构，其中第一腔室为第一级稳压腔室结构、第三腔室为第二级稳压腔室结构、第五腔室为第三级稳压腔室结构，三级稳压腔室结构的设置优点在于：当第一级稳压腔室内受到来自真空管路接口处的打开动作时的压力波动，不会造成第三级稳压腔室结构内的压力波动，从而实现稳压的可靠性和稳定性。(3)本专利技术中侧流道、顶部流道、第一内流道及第二内流道主要用于通真空，实现真空管路的流通，同时也具有一定的集水与排水功能，由于全自动气动控制装置在使用时内部必然会出现冷凝水，此时冷凝水将能沿着连通的管路进行有效的排出。附图说明下面结合附图及实施例对本专利技术作进一步描述：图1为本专利技术所述的一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统的结构示意图；图2为本专利技术所述的一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统与侧流道相对应的局部剖视结构图；图3为本发本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统，其特征在于：包括壳体、设置在壳体外部的真空管路接口及设置在壳体内部的空腔、连通真空管路接口及空腔的侧流道、顶部流道、第一内流道及第二内流道；所述侧流道内部设置有单向阀；所述第一内流道与第二内流道分别独立与顶部流道及空腔相连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统，其特征在于：包括壳体、设置在壳体外部的真空管路接口及设置在壳体内部的空腔、连通真空管路接口及空腔的侧流道、顶部流道、第一内流道及第二内流道；所述侧流道内部设置有单向阀；所述第一内流道与第二内流道分别独立与顶部流道及空腔相连通。


2.根据权利要求1所述的一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统，其特征在于：所述壳体上端面盖设有密封盖板，所述真空管路接口设置在壳体下端面；所述侧流道沿壳体内部周向分布，并呈S型流通，由真空管路接口一端延伸至壳体上端面；所述顶部流道呈弧形设置在壳体上端面，并与侧流道通过第一真空出入口相连通；所述第一内流道沿壳体中轴线方向设置在壳体内部，上端与顶部流道通过第二真空出入口相连通，下端与空腔之间设置有水平流道，所述水平流道与第一内流道之间通过第三真空出入口相连通，与空腔之间通过第四真空出入口相连通；所述第二内流道沿壳体中轴线方向设置在壳体内部，上端与顶部流道通过第五真空出入口相连通，下端与空腔之间通过第六真空出入口相连通。


3.根据权利要求2所述的一种应用于全自动气动控制装置的真空源稳压系统，其特征在于：所述侧流道包括分别沿壳体中轴线方向设置的第一腔室、第二腔室、第三腔室、第四腔室、第五腔室、第六腔室及第七...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔利兴，邓永峰，黄森辰，
申请(专利权)人：清环拓达苏州环境科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32