流量控制器、气体供给系统以及流量控制方法技术方案

流量控制器具有：阀，其能够控制向处理装置供给的气体的流量；以及阀控制部，其在从处理装置发出指示开始进行气体的供给的指令的时间点，打开阀来开始控制气体的流量，从发出指令的时间点起以规定的周期将气体的流量进行累计来计算累计流量，并且在计算出的累计流量达到规定的目标累计流量的时间点，关闭阀来停止控制气体的流量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】流量控制器、气体供给系统以及流量控制方法
本公开涉及一种流量控制器、气体供给系统以及流量控制方法。
技术介绍
以往，已知一种通过处理气体的等离子体等对半导体晶圆等被处理体进行处理的处理装置。向处理装置供给的气体的流量由通过流量控制器控制。流量控制器例如具有开度可变且能够控制气体的流量的控制阀，在从处理装置发出指示开始进行气体的供给的指令的时间点，打开控制阀来开始控制气体的流量。从处理装置发出的指令包括用于指定应向处理装置供给的气体的目标流量和目标供给时间的信息。流量控制器对控制阀的开度进行控制以使气体的流量成为由从处理装置发出的指令指定的目标流量，直到经过由指令指定的目标供给时间为止。而且，在经过目标供给时间的时间点，流量控制器关闭控制阀来停止控制气体的流量。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-157578号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本公开提供一种能够实现高精度的流量控制的技术。用于解决问题的方案本公开的一个方式的流量控制器具有：阀，其能够控制向处理装置供给的气体的流量；以及阀控制部，其在从所述处理装置发出指示开始进行所述气体的供给的指令的时间点，打开所述阀来开始控制所述气体的流量，从发出所述指令的时间点起以规定的周期将所述气体的流量进行累计来计算累计流量，并且在计算出的所述累计流量达到规定的目标累计流量的时间点，关闭所述阀来停止控制所述气体的流量。专利技术的效果根据本公开，起到能够实现高精度的流量控制这样的效果。附图说明图1是表示第一实施方式所涉及的处理系统的一例的图。图2是表示第一实施方式所涉及的流量控制方法的一例的图。图3是表示第一实施方式所涉及的流量控制方法的其它例的图。图4是表示第二实施方式所涉及的处理系统的一例的图。图5是表示第二实施方式所涉及的流量控制方法的一例的图。具体实施方式下面，参照附图来详细地说明各种实施方式。此外，设为在各附图中对相同或相当的部分标注相同的标记。以往，已知一种通过气体的等离子体对半导体晶圆等被处理体进行处理的处理装置。向处理装置供给的气体的流量由流量控制器控制。流量控制器例如具有开度可变且能够控制气体的流量的控制阀，在从处理装置发出指示开始进行气体的供给的指令的时间点，流量控制器打开控制阀来开始控制气体的流量。从处理装置发出的指令包括用于指定应向处理装置供给的气体的目标流量和目标供给时间的信息。流量控制器对控制阀的开度进行控制以使气体的流量成为目标流量，直到经过由指令指定的目标供给时间为止。而且，在经过目标供给时间的时间点，流量控制器关闭控制阀来停止控制气体的流量。另外，流量控制器存在机器差异，因此从打开控制阀起至气体的流量达到目标流量为止的上升特性有时在每个流量控制器中出现偏差。例如，在每个流量控制器中，有时会发生气体的流量的过冲、下冲。因此，在流量控制器中，由于每个流量控制器的上升特性的偏差，向处理装置供给的气体的累计流量有时按每个流量控制器存在偏差。其结果是，可能会阻碍高精度的流量控制。[第一实施方式][处理系统的整体结构]首先，参照图1来说明第一实施方式所涉及的处理系统10a的整体结构的一例。图1是表示第一实施方式所涉及的处理系统10a的一例的图。处理系统10a具有气体供给系统100和处理装置101a。气体供给系统100具有流量控制器FD、初级侧阀FV1以及次级侧阀FV2，控制从气体供给源GS向处理装置101a进行的气体供给。处理装置101a例如为电容耦合型等离子体蚀刻装置。[处理装置101a的结构例]处理装置101a例如具有由表面被进行了耐酸铝处理(阳极氧化处理)的铝构成的大致圆筒形的腔室C。腔室C接地。在腔室C的内部设置有载置台120。载置台120用于载置作为被处理体的一例的半导体晶圆W。载置台120经由匹配器130a而与用于激励等离子体的高频电源130连接。高频电源130向载置台120施加适于在腔室C内生成等离子体的频率、例如60MHz的高频电力。另外，载置台120用于载置半导体晶圆W，并且还作为下部电极发挥功能。匹配器130a使负载阻抗与高频电源130的内部(或输出)阻抗匹配。匹配器130a当在腔室C内生成等离子体时发挥功能，以使高频电源130的内部阻抗与负载阻抗在表观上一致。在腔室C的顶部部分设置有喷淋头110。喷淋头110还作为上部电极发挥功能。来自高频电源130的高频电力被施加至载置台120与喷淋头110之间。气体从喷淋头110的气体导入口140被导入设置于喷淋头110的内部的缓冲空间110b，通过形成于喷淋头110的下表面的大量的气体通气孔110a后被喷出至腔室C内。处理装置101a通过被供给至腔室C内的期望的气体的等离子体来对半导体晶圆W实施精细加工。向腔室C内供给的气体的流量由流量控制器FD控制。在本实施例中，流量控制器FD例如为压力式的流量控制装置(FCS)。在后文中详细叙述流量控制器FD的结构。处理装置101a的动作由控制部102统一控制。控制部102例如具备CPU(CentralProcessingUnit：中央处理单元)，控制处理装置101a的各部。另外，在开始从气体供给源GS向处理装置101a供给气体时，控制部102向气体供给系统100发出指示开始进行气体的供给的指令(下面，称作“供给开始指令”)。供给开始指令包括用于指定应向处理装置101a(腔室C)供给的气体的目标流量和目标供给时间的信息。[流量控制器FD的结构例]流量控制器FD与用于从气体供给源GS向处理装置101a供给气体的气体供给管150连接。气体供给管150与处理装置101a的气体导入口140连接。在流量控制器FD的上游侧(气体供给源GS侧)配置有初级侧阀FV1，在流量控制器FD的下游侧(处理装置101a侧)配置有次级侧阀FV2。在从控制部102发出供给开始指令的时间点，初级侧阀FV1和次级侧阀FV2被控制为全开。流量控制器FD具有开度可变且能够控制气体的流量的控制阀201、控制控制阀201的开度的阀控制部202、压力计203、压力计204、节流阀205、配管206、配管207、配管208以及存储部209。在存储部209中保存用于在阀控制部202的控制下实现通过流量控制器FD执行的各种处理的控制程序、各种数据等。例如，在存储部209中保存有关系信息209a。关系信息209a为存储目标累计流量相对于应向处理装置101a(腔室C)供给的气体的目标流量和目标供给时间的关系的数据。应向腔室C供给的气体的目标流量和目标供给时间例如通过制程来规定。目标累计流量为将从自控制部102发出供给开始指令的时间点起实际供给至腔室C的气体的流量进行累计所得到的累计流量的目标值，是用于决定关闭控制阀201的定时的指标。关系信息209a例如为根据应向腔室C供给的气体的目标流量和目标供给时间计算目标累计流量的式本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种流量控制器，其特征在于，具有：/n阀，其能够控制向处理装置供给的气体的流量；以及/n阀控制部，其在从所述处理装置发出指示开始进行所述气体的供给的指令的时间点，打开所述阀来开始控制所述气体的流量，从发出所述指令的时间点起以规定的周期将所述气体的流量进行累计来计算累计流量，并且在计算出的所述累计流量达到规定的目标累计流量的时间点，关闭所述阀来停止控制所述气体的流量。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180702 JP 2018-126105;20190605 JP 2019-1049381.一种流量控制器，其特征在于，具有：
阀，其能够控制向处理装置供给的气体的流量；以及
阀控制部，其在从所述处理装置发出指示开始进行所述气体的供给的指令的时间点，打开所述阀来开始控制所述气体的流量，从发出所述指令的时间点起以规定的周期将所述气体的流量进行累计来计算累计流量，并且在计算出的所述累计流量达到规定的目标累计流量的时间点，关闭所述阀来停止控制所述气体的流量。


2.根据权利要求1所述的流量控制器，其特征在于，
还具有存储部，该存储部存储表示所述目标累计流量相对于应向所述处理装置供给的所述气体的目标流量及目标供给时间的关系的关系信息，
所述指令包括指定所述目标流量和所述目标供给时间的信息，
所述阀控制部使用所述关系信息来监视所述累计流量是否达到与由所述指令指定的所述目标流量及所述目标供给时间对应的所述目标累计流量，在所述累计流量达到该目标累计流量的时间点，关闭所述阀来停止控制所述气体的流量。


3.一种气体供给系统，向处理装置供给气体，所述气体供给系统的特征在于，具有：
所述气体的供给源；以及
流量控制器，其控制从所述气体的供给源向所述处理装置供给的所述气体的流量，
其中，所述流量控制器具有：
阀，其能够控制向所述处理装置供给的气体的流量；以及
控制部，其在从所述处理装置发出指示开始进行所述气体的供给的指令的时间点，打开所述阀来开始控制所述气体的流量，从发出所述指令的时间点起以规定的周期将所述气体的流量进行累计来计算累计流量，并且在计算出的所述累计流量达到规定的目标累计流量的时间点，关闭所述阀来停止控制所述气体的流量。


4.一种流量控制方法，其特征在于，包括以下工序：
在从处理装置发出指示开始向所述处理装置供给气体的指令的时间点，打开能够控制所述气体的流量的阀来开始控制所述气体的流量；
从发出所述指令的时间点起以规定的周期将所述气体的流量进行累计来计算累计流量；以及
在计算出的所述累计流量达到规定的目标累计流量的时间点，关闭所述阀来停止控制所述气体的流量。


5.一种流量控制器，其特征在于，具有：
阀...

【专利技术属性】
技术研发人员：泽地淳，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP