钽氯化物以及钽氯化物的制造方法技术

本发明专利技术的钽氯化物含有TaCl

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】钽氯化物以及钽氯化物的制造方法
本专利技术涉及一种钽氯化物以及钽氯化物的制造方法，特别是，提出了一种能提高TaCl5的纯度的技术。
技术介绍
包含五氯化钽的钽氯化物，例如用作冷却剂的制造中使用的氟化烃生成的助催化剂、耐腐蚀性导电体的添加剂以外，有时也用作微处理器、存储芯片制造用的超高纯度化学气相沉积前体等。在上述的用途之中，特别是，在将五氯化钽用于有机金属化学气相沉积法(MOCVD)、原子层沉积法(ALD)等的情况下，有时需要以极高的纯度包含五氯化钽的钽氯化物。需要说明的是，专利文献1涉及一种从钽废料(scrap)回收高纯度钽和钽衍生物的技术，记载了在该回收过程中，将钽废料加热至250℃以上并使其直接与氯气反应而得到无水氯化物。此外，记载了利用由此得到的氯化物的沸点差，通过蒸馏精制去除钽以外的低沸点物和高沸点物。然后，由此可以得到高纯度的五氯化钽。但是，专利文献1中关于加热时的温度的优化、钽废料在装置内的实际的配置方式等没有任何记载，很难说研究了具体的钽的氯化方法。现有技术文献专利文献专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种钽氯化物，其含有TaCl

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180328 JP 2018-0631321.一种钽氯化物，其含有TaCl5，比TaCl5低级的氯化钽的合计含量为1质量％以下。


2.根据权利要求1所述的钽氯化物，其中，
比TaCl5低级的氯化钽的合计含量为0.1质量％以下。


3.根据权利要求1或2所述的钽氯化物，其中，
Ta和Cl的合计含量为99.999质量％以上。


4.根据权利要求3所述的钽氯化物，其中，
Ta和Cl的合计含量为99.9999质量％以上。


5.根据权利要求1～4中任一项所述的钽氯化物，其中，
作为杂质的Na、K、Co、Fe、Ni、Cu、Cr、Mg、Al、Nb、W、Mo、U以及Th的合计含量为1质量ppm以下。


6.一种钽氯化物的制造方法，其是在氯气氛下加热钽原料，将钽原料氯化来制造钽氯化物的方法，所述制造方法包括以下工序：
使用钽氯化装置，向所述钽氯化装置的原料反应管中填充钽原料而形成钽原料的...

【专利技术属性】
技术研发人员：谷诚一郎，深沢早，高桥秀行，
申请(专利权)人：东邦钛株式会社，JX金属株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP