一种阳离子消光填料及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种阳离子消光填料及其制备方法，所述阳离子消光填料的原料至少包括如下重量份的组分：阳离子高分子聚合物10‑20份；和高分子聚合物改性二氧化硅10‑15份。本发明专利技术通过引入阳离子高分子聚合物对高分子聚合物改性的二氧化硅进行分散制得性能稳定的哑光浆，使得所制得的阳离子消光填料性能稳定，安全环保，能够在阳离子体系中稳定的存在，而且在真皮底涂中具有良好的消光能力和遮盖性。另外，本发明专利技术的阳离子消光填料的制备方法简单易操作。

【技术实现步骤摘要】
一种阳离子消光填料及其制备方法
本专利技术涉及一种高分子材料
，且特别涉及一种阳离子消光填料及其制备方法。
技术介绍
皮革制品在日常生活中的应用范围正在逐步扩大，也被广大的消费者所接受。皮革涂饰是皮革加工的重要工序，它赋予皮革不同的风格和使用性能，在制革过程中具有不可忽视的作用。皮革涂饰具有美化皮革外观、修复伤残缺陷和提高耐用性能等作用，因此，皮革涂饰质量的好坏对于提高皮革的质量起到相当重要的作用。本申请人发现现有技术中至少存在以下技术问题；现有的真皮涂饰技术通常采用阳离子底涂来获得良好的手感和提高皮面等级，但是单纯油蜡在光泽的调整和遮盖能力方面存在不足，因此需要采用消光填料来解决光泽和遮盖能力方面的问题。现有的消光填料通常为阴离子型，而真皮阳离子底涂的pH呈酸性，阴离子型消光填料在酸性体系中不稳定，易絮凝造成喷涂不均，有白点，因此无法满足市场需求。而对于现有的哑光粉二氧化硅，其表面带有羟基，在水性体系中极易发生絮凝和沉淀，因此通常需要采用合适的分散剂进行分散，但是目前市场上常用的分散剂无法在阳离子体系中稳定的分散。
技术实现思路
基于上述技术问题，本专利技术的目的在于提供一种阳离子消光填料，此阳离子消光填料能够在阳离子体系中稳定的存在，性能稳定，在阳离子底涂中具备良好的消光能力和遮盖性，且环保安全。本专利技术的另一目的在于提供一种阳离子消光填料的制备方法，通过引入阳离子高分子聚合物对二氧化硅哑光粉进行分散得稳定的哑光浆，最终制得性能稳定的阳离子消光填料，制备方法简单易操作。本专利技术解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。本专利技术提出一种阳离子消光填料，所述阳离子消光填料的原料至少包括如下重量份的组分：阳离子高分子聚合物10-20份；和高分子聚合物改性二氧化硅10-15份。根据一种优选实施方式，所述阳离子高分子聚合物选自阳离子丙烯酸聚合物。根据一种优选实施方式，所述高分子聚合物改性二氧化硅包括聚乙烯蜡改性二氧化硅粉末或聚酰胺蜡改性二氧化硅粉末，其中二氧化硅包括气相法二氧化硅、凝胶法二氧化硅或沉淀法二氧化硅中的一种或几种。根据一种优选实施方式，所述阳离子消光填料的原料还包括如下重量份的组分：润湿剂0-1份；消泡剂0-0.1份；非离子增稠剂0.5-2份；以及杀菌剂0-0.2份。根据一种优选实施方式，所述消泡剂包括矿物油类消泡剂或有机硅类消泡剂中的一种或几种。根据一种优选实施方式，所述非离子增稠剂包括聚氨酯类增稠剂、纤维素类增稠剂、膨润土类增稠剂或气相二氧化硅类增稠剂中的一种或几种。根据一种优选实施方式，所述杀菌剂包括氯酚类杀菌剂或异噻唑啉酮类杀菌剂中的一种或几种。本专利技术还提供了一种所述的阳离子消光填料的制备方法，其特征在于，至少包括如下步骤：将10-15份阳离子高分子聚合物与40-60份水混合形成均匀分散的聚合物溶液；以及将10-15份高分子聚合物改性二氧化硅粉体加入上述聚合物溶液中，经高速分散均匀后得乳白色液体哑光浆。根据一种优选实施方式，所述制备方法还包括如下步骤：将0-0.1份消泡剂加入所述乳白色液体哑光浆中进行消泡，然后低速搅拌直至表面泡沫消失；以及将0-1份润湿剂和0.5-2份非离子增稠剂依次加入上述哑光浆中得到流动性粘稠液体。根据一种优选实施方式，所述制备方法还包括：向所述流动性粘稠液体中加入0-0.2份杀菌剂，搅拌均匀并过滤后得到乳白色粘稠的阳离子消光填料；其中，所述流动性粘稠液体的粘度为2000-2500mpa.s。基于上述技术方案，本专利技术提供的阳离子消光填料及其制备方法至少具有如下技术效果：本专利技术的阳离子消光填料采用阳离子高分子聚合物对高分子聚合物改性的二氧化硅分体进行分散制得哑光浆，能够在阳离子体系中稳定的存在，性能稳定，并且在阳离子底涂中具备良好的消光能力和遮盖性，且环保安全。本专利技术的制备方法通过引入阳离子高分子聚合物作为高分子聚合物改性的二氧化硅进行分散制得性能稳定的哑光浆，使所制得的阳离子消光填料性能稳定，能够在阳离子体系中稳定的存在，而且在真皮底涂中具有良好的消光能力和遮盖性。本专利技术实施例的阳离子消光填料的制备方法简单易操作。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。下面对本专利技术实施例的阳离子消光填料及其制备方法进行具体说明。本专利技术提供了一种阳离子消光填料，该阳离子消光填料的原料至少包括如下重量份的组分：阳离子高分子聚合物10-20份；和高分子聚合物改性二氧化硅10-15份。优选的，阳离子高分子聚合物选自阳离子丙烯酸聚合物。优选的，高分子聚合物改性二氧化硅包括聚乙烯蜡改性二氧化硅粉末或聚酰胺蜡改性二氧化硅粉末，其中二氧化硅包括气相法二氧化硅、凝胶法二氧化硅或沉淀法二氧化硅中的一种或几种。通过引入阳离子高分子聚合物对高分子聚合物改性二氧化硅进行分散制得性能稳定的哑光浆，使得最终制得的阳离子消光填料能够在阳离子体系中稳定的存在，并在真皮底涂中具有良好的消光能力和遮盖性。优选的，该阳离子消光填料的原料还包括如下重量份的组分：润湿剂0-1份；消泡剂0-0.1份；非离子增稠剂0.5-2份；以及杀菌剂0-0.2份。优选的，消泡剂包括矿物油类消泡剂或有机硅类消泡剂中的一种或几种。优选的，非离子增稠剂包括聚氨酯类增稠剂、纤维素类增稠剂、膨润土类增稠剂或气相二氧化硅类增稠剂中的一种或几种。优选的，润湿剂包括有机硅类或琥珀酸盐类润湿剂。优选的，杀菌剂包括氯酚类杀菌剂或异噻唑啉酮类杀菌剂中的一种或几种。本专利技术还提供了一种阳离子消光填料的制备方法，其至少包括如下步骤：将10-15份阳离子高分子聚合物与40-60份水混合形成均匀分散的聚合物溶液；以及将10-15份高分子聚合物改性二氧化硅粉体加入上述聚合物溶液中，经高速分散均匀后得乳白色液体哑光浆。优选的，高速分散时的转速为800r/min。本专利技术的制备方法还包括如下步骤：将0-0.1份消泡剂加入乳白色液体哑光浆中进行消泡，然后低速搅拌直至表面泡沫消失；优选的，低速搅拌的转速为200r/min。以及将0-1份润湿剂和0.5-2份非离子增稠剂依次加入上述哑光浆中得到流动性粘稠液体。本专利技术的制备方法还包括：向上述流动性粘稠液体中加入0-0.2份杀菌剂，搅拌均匀并过滤后得到乳白色粘稠的阳离子消光填料。优选的，所制得的流动性粘稠液体的粘度为2000-2500mpa.s。通过本专利技术的制备方法制得的阳离子消光填料性能稳定，能够在阳离子底涂体系中稳定的存在，并对真皮具有良好的消光能力和遮盖性，而且本专利技术的制备方法简单易操作。以下结合实施例对本专利技术的特征本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阳离子消光填料，其特征在于，所述阳离子消光填料的原料至少包括如下重量份的组分：/n阳离子高分子聚合物10-20份；和/n高分子聚合物改性二氧化硅10-15份。/n

【技术特征摘要】
1.一种阳离子消光填料，其特征在于，所述阳离子消光填料的原料至少包括如下重量份的组分：
阳离子高分子聚合物10-20份；和
高分子聚合物改性二氧化硅10-15份。


2.根据权利要求1所述的阳离子消光填料，其特征在于，所述阳离子高分子聚合物选自阳离子丙烯酸聚合物。


3.根据权利要求1所述的阳离子消光填料，其特征在于，所述高分子聚合物改性二氧化硅包括聚乙烯蜡改性二氧化硅粉末或聚酰胺蜡改性二氧化硅粉末，其中二氧化硅包括气相法二氧化硅、凝胶法二氧化硅或沉淀法二氧化硅中的一种或几种。


4.根据权利要求1所述的阳离子消光填料，其特征在于，所述阳离子消光填料的原料还包括如下重量份的组分：
润湿剂0-1份；
消泡剂0-0.1份；
非离子增稠剂0.5-2份；以及
杀菌剂0-0.2份。


5.根据权利要求4所述的阳离子消光填料，其特征在于，所述消泡剂包括矿物油类消泡剂或有机硅类消泡剂中的一种或几种。


6.根据权利要求4所述的阳离子消光填料，其特征在于，所述非离子增稠剂包括聚氨酯类增稠剂、纤维素类增稠剂、膨...

【专利技术属性】
技术研发人员：高梦华，朱琴，刘培杰，曾晓林，
申请(专利权)人：威远达威木业有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51