【技术实现步骤摘要】
一种新型增强型辐射膜
本技术涉及辐射膜
，具体为一种新型增强型辐射膜。
技术介绍
辐射是在日常生活中随处可见，如太阳的辐射、电子产品的辐射等，长时间的辐射会对人体造成不良的影响，为了降低辐射的危害，通常需要辐射膜进行防护，但是目前使用的辐射膜仍存在不足之处；比如目前使用的辐射膜在使用过程容易出现脱层的现象，影响辐射膜的正常使用，且透光率较低，影响人们的观察清晰度，从而带来很大的不便，因此，本技术提供一种新型增强型辐射膜，以解决上述提出的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种新型增强型辐射膜，以解决上述
技术介绍
中提出的目前使用的辐射膜在使用过程容易出现脱层的现象，影响辐射膜的正常使用，且透光率较低，影响人们的观察清晰度，从而带来很大的不便的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种新型增强型辐射膜，包括基片、Ag层和Si3N4层，所述基片的上表面铺设有第一多层介质膜层，且第一多层介质膜层的上表面一体化设置有第一凸块，所述第一多层介质膜层的上表面设置有Ag层，且Ag层的表面预...
【技术保护点】
1.一种新型增强型辐射膜，包括基片(1)、Ag层(4)和Si3N4层(10)，其特征在于：所述基片(1)的上表面铺设有第一多层介质膜层(2)，且第一多层介质膜层(2)的上表面一体化设置有第一凸块(3)，所述第一多层介质膜层(2)的上表面设置有Ag层(4)，且Ag层(4)的表面预留有通孔(5)，所述Ag层(4)的上表贴合设置有阻挡层(6)，且阻挡层(6)的下表面凸出有第二凸块(7)，所述阻挡层(6)的上端一体化设置有第一错位条(8)，且阻挡层(6)的上表面面铺设有第二多层介质膜层(9)，所述第二多层介质膜层(9)的上侧表面设置有Si3N4层(10)。/n
【技术特征摘要】
1.一种新型增强型辐射膜，包括基片(1)、Ag层(4)和Si3N4层(10)，其特征在于：所述基片(1)的上表面铺设有第一多层介质膜层(2)，且第一多层介质膜层(2)的上表面一体化设置有第一凸块(3)，所述第一多层介质膜层(2)的上表面设置有Ag层(4)，且Ag层(4)的表面预留有通孔(5)，所述Ag层(4)的上表贴合设置有阻挡层(6)，且阻挡层(6)的下表面凸出有第二凸块(7)，所述阻挡层(6)的上端一体化设置有第一错位条(8)，且阻挡层(6)的上表面面铺设有第二多层介质膜层(9)，所述第二多层介质膜层(9)的上侧表面设置有Si3N4层(10)。
2.根据权利要求1所述的一种新型增强型辐射膜，其特征在于：所述第一凸块(3)和第二凸块(7)的横截面外径尺寸均通孔(5)的内径尺寸相等，且第一凸块(3)和第二凸块(7)的厚度之和与Ag层(4)的厚度尺寸相等。
3.根据权利要求1所述的一种新型增强型辐射膜，其特征在于：所述通孔(5)在Ag层(4...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱绍胜，陈振灿，陈加福，
申请(专利权)人：温州市新丰复合材料有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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