滤镜架改良结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种滤镜架改良结构，包括一框体以及一连接件。框体包括具有一第一穿透孔的一前面板、具有一第二穿透孔的一后面板以及用以连接前面板与后面板一连接部。第一穿透孔具有一第一穿透孔轮廓，包括上、右、下、左四段轮廓、以及分别与上、右、下、左四段轮廓连接的右上、右下、左下、左上四段外凸部轮廓。第一穿透孔轮廓具有一轮廓几何中心。右上、右下、左下、左上四段外凸部轮廓分别包括至少一远距点。轮廓几何中心与远距点的一距离大于轮廓几何中心与上、下轮廓的一上下轮廓平均距离。后面板包括一滤镜架枢接部。连接件包括用以与滤镜架枢接部枢接的一前枢接部以及一后连接部。

【技术实现步骤摘要】
滤镜架改良结构
本技术涉及一种滤镜架改良结构，尤指一种具有避免暗角的滤镜架改良结构。
技术介绍
请参阅图14，其是现有技术一种滤镜架的一具体实施例的框体的俯视示意图。请同时图15，其是图14的具体实施例沿着剖面线E-E’的局部放大剖面示意图。现有技术的滤镜架的一框体9包括一前面板91、一后面板92以及一连接部93。连接部93用以连接前面板91以及后面板92，并形成一卡槽部94。卡槽部94系供容置一后滤镜匣(图中未显示)。前面板91具有一第一穿透孔，第一穿透孔具有一第一穿透孔轮廓90，第一穿透孔轮廓90是一正圆形。第一穿透孔轮廓90的圆心是一轮廓中心97。前面板91的一前端的左右两侧分别供固定一左固定部以及一右固定部(图中未显示)，左固定部以及右固定部系供夹持固定一前滤镜(图中未显示)。后面板92包括一枢接部凹槽95。枢接部凹槽95系供与一连接件(图中未显示)枢接，连接件可与一相机的一镜头(图中未显示)连接。后面板92具有一第二穿透孔，第二穿透孔具有一第二穿透孔轮廓98，第二穿透孔轮廓98是一正圆形。第二穿透孔轮廓98的圆心也为轮廓中心97。第二穿透孔轮廓98与第一穿透孔轮廓90互为同心圆，且第二穿透孔轮廓98所具有的一半径小于第一穿透孔轮廓90所具有的一半径。一般相机具有如图14的一感光元件96，其长宽比为3:2。感光元件96的两条对角线的夹角θ0约为67.38°，也即：由于第一穿透孔轮廓90与感光元件96的两条对角线的延伸处距离最短，因此在感光元件96的两条对角线的四个延伸处的角落是最容易产生暗角的地方。在图14中，当入射光的入射角小于θ3时，则不会有暗角产生。而当入射角等于θ2时，部分入射光会被前面板91给挡住，尤其在邻近感光元件96的两条对角线的四个延伸处的角落。而当入射角等于θ1时，则更多的入射光会被前面板91给挡住。而暗角的产生，会使得照片的四个角落产生较黑的影像，严重影响照片的品质。有鉴于此，技术设计人开发出简便组装的设计，能够避免上述的缺点，安装方便，又具有成本低廉的优点，以兼顾使用弹性与经济性等考量，因此遂有本技术的产生。
技术实现思路
本技术所欲解决的技术问题在于如何设计一种滤镜架改良结构，以避免暗角的产生。为解决前述问题，以达到所预期的功效，本技术提供：一种滤镜架改良结构，其特征在于，包括：一框体，包括：一前面板，其具有一第一穿透孔以及一第一表面，该第一穿透孔具有一第一穿透孔轮廓，该第一穿透孔轮廓具有一轮廓几何中心，该第一穿透孔轮廓包括：一上轮廓；一右轮廓；一下轮廓；一左轮廓；一右上外凸部轮廓，分别与该上轮廓以及该右轮廓连接；一右下外凸部轮廓，分别与该右轮廓以及该下轮廓连接；一左下外凸部轮廓，分别与该下轮廓以及该左轮廓连接；以及一左上外凸部轮廓，分别与该左轮廓以及该上轮廓连接；其中，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该上轮廓以及该下轮廓与该轮廓几何中心的一上下轮廓平均距离；或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该左轮廓以及该右轮廓与该轮廓几何中心的一左右轮廓平均距离；或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该第一穿透孔轮廓与该轮廓几何中心的一轮廓平均距离；或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距轮廓段落，该至少一远距轮廓段落与该轮廓几何中心的一轮廓段落平均距离大于该上轮廓以及该下轮廓与该轮廓几何中心的一上下轮廓平均距离；或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距轮廓段落，该至少一远距轮廓段落与该轮廓几何中心的一轮廓段落平均距离大于该左轮廓以及该右轮廓与该轮廓几何中心的一左右轮廓平均距离；或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距轮廓段落，该至少一远距轮廓段落与该轮廓几何中心的一轮廓段落平均距离大于该第一穿透孔轮廓与该轮廓几何中心的一轮廓平均距离；一后面板，其具有一第二穿透孔，该后面板包括一滤镜架枢接部；以及一连接部，用以连接该前面板以及该后面板；以及一连接件，包括：一前枢接部，用以与该滤镜架枢接部枢接；以及一后连接部。一种滤镜架改良结构，其特征在于，包括：一框体，包括：一前面板，其具有一第一穿透孔以及一第一表面，该第一穿透孔具有一第一穿透孔轮廓，该第一穿透孔轮廓具有一轮廓几何中心，该第一穿透孔轮廓包括：一上轮廓；一右轮廓；一下轮廓；一左轮廓；一右上薄化区内缘轮廓，分别与该上轮廓以及该右轮廓连接；一右下薄化区内缘轮廓，分别与该右轮廓以及该下轮廓连接；一左下薄化区内缘轮廓，分别与该下轮廓以及该左轮廓连接；以及一左上薄化区内缘轮廓，分别与该左轮廓以及该上轮廓连接；其中该前面板包括：一右上薄化区，介于该右上薄化区内缘轮廓以及一右上薄化区外缘轮廓之间；一右下薄化区，介于该右下薄化区内缘轮廓以及一右下薄化区外缘轮廓之间；一左下薄化区，介于该左下薄化区内缘轮廓以及一左下薄化区外缘轮廓之间；以及一左上薄化区，介于该左上薄化区内缘轮廓以及一左上薄化区外缘轮廓之间；位于该右上薄化区的外且邻近该右上薄化区外缘轮廓的该前面板所具有的一厚度大于邻近该右上薄化区内缘轮廓的该右上薄化区所具有的一厚度，位于该右下薄化区的外且邻近该右下薄化区外缘轮廓的该前面板所具有的一厚度大于邻近该右下薄化区内缘轮廓的该右下薄化区所具有的一厚度，位于该左下薄化区的外且邻近该左下薄化区外缘轮廓的该前面板所具有的一厚度大于邻近该左下薄化区内缘轮廓的该左下薄化区所具有的一厚度，位于该左上薄化区的外且邻近该左上薄化区外缘轮廓的该前面板所具有的一厚度大于邻近该左上薄化区内缘轮廓的该左上薄化区所具有的一厚度；其中，该右上薄化区外缘轮廓、该右下薄化区外缘轮廓、该左下薄化区外缘轮廓以及该左上薄化区外缘轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该上轮廓以及该下轮廓与该轮廓几何中心的一上下轮廓平均距离；或者，该右上薄化区外缘轮廓、该右下薄化区外缘轮廓、该左下薄化区外缘轮廓以及该左上薄化区外缘轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该左轮廓以及该右轮廓与该轮廓几何中心的一左右轮廓平均距离；或者，该右上薄化区外缘轮廓、该右下薄化区外缘轮廓、该左下薄化区外缘轮廓以及该左上薄化区外缘轮廓分别包本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种滤镜架改良结构，其特征在于，包括：/n一框体，包括：/n一前面板，其具有一第一穿透孔以及一第一表面，该第一穿透孔具有一第一穿透孔轮廓，该第一穿透孔轮廓具有一轮廓几何中心，该第一穿透孔轮廓包括：/n一上轮廓；/n一右轮廓；/n一下轮廓；/n一左轮廓；/n一右上外凸部轮廓，分别与该上轮廓以及该右轮廓连接；/n一右下外凸部轮廓，分别与该右轮廓以及该下轮廓连接；/n一左下外凸部轮廓，分别与该下轮廓以及该左轮廓连接；以及/n一左上外凸部轮廓，分别与该左轮廓以及该上轮廓连接；/n其中，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该上轮廓以及该下轮廓与该轮廓几何中心的一上下轮廓平均距离；/n或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该左轮廓以及该右轮廓与该轮廓几何中心的一左右轮廓平均距离；/n或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该第一穿透孔轮廓与该轮廓几何中心的一轮廓平均距离；/n或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距轮廓段落，该至少一远距轮廓段落与该轮廓几何中心的一轮廓段落平均距离大于该上轮廓以及该下轮廓与该轮廓几何中心的一上下轮廓平均距离；/n或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距轮廓段落，该至少一远距轮廓段落与该轮廓几何中心的一轮廓段落平均距离大于该左轮廓以及该右轮廓与该轮廓几何中心的一左右轮廓平均距离；/n或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距轮廓段落，该至少一远距轮廓段落与该轮廓几何中心的一轮廓段落平均距离大于该第一穿透孔轮廓与该轮廓几何中心的一轮廓平均距离；/n一后面板，其具有一第二穿透孔，该后面板包括一滤镜架枢接部；以及/n一连接部，用以连接该前面板以及该后面板；以及/n一连接件，包括：/n一前枢接部，用以与该滤镜架枢接部枢接；以及/n一后连接部。/n...

【技术特征摘要】
1.一种滤镜架改良结构，其特征在于，包括：
一框体，包括：
一前面板，其具有一第一穿透孔以及一第一表面，该第一穿透孔具有一第一穿透孔轮廓，该第一穿透孔轮廓具有一轮廓几何中心，该第一穿透孔轮廓包括：
一上轮廓；
一右轮廓；
一下轮廓；
一左轮廓；
一右上外凸部轮廓，分别与该上轮廓以及该右轮廓连接；
一右下外凸部轮廓，分别与该右轮廓以及该下轮廓连接；
一左下外凸部轮廓，分别与该下轮廓以及该左轮廓连接；以及
一左上外凸部轮廓，分别与该左轮廓以及该上轮廓连接；
其中，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该上轮廓以及该下轮廓与该轮廓几何中心的一上下轮廓平均距离；
或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该左轮廓以及该右轮廓与该轮廓几何中心的一左右轮廓平均距离；
或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该第一穿透孔轮廓与该轮廓几何中心的一轮廓平均距离；
或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距轮廓段落，该至少一远距轮廓段落与该轮廓几何中心的一轮廓段落平均距离大于该上轮廓以及该下轮廓与该轮廓几何中心的一上下轮廓平均距离；
或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距轮廓段落，该至少一远距轮廓段落与该轮廓几何中心的一轮廓段落平均距离大于该左轮廓以及该右轮廓与该轮廓几何中心的一左右轮廓平均距离；
或者，该右上外凸部轮廓、该右下外凸部轮廓、该左下外凸部轮廓以及该左上外凸部轮廓分别包括至少一远距轮廓段落，该至少一远距轮廓段落与该轮廓几何中心的一轮廓段落平均距离大于该第一穿透孔轮廓与该轮廓几何中心的一轮廓平均距离；
一后面板，其具有一第二穿透孔，该后面板包括一滤镜架枢接部；以及
一连接部，用以连接该前面板以及该后面板；以及
一连接件，包括：
一前枢接部，用以与该滤镜架枢接部枢接；以及
一后连接部。


2.根据权利要求1所述的滤镜架改良结构，其特征在于：该右上外凸部轮廓的任一点与该轮廓几何中心的一右上外凸点距离大于该上轮廓的任一点与该轮廓几何中心的一上轮廓点距离、且大于该右轮廓的任一点与该轮廓几何中心的一右轮廓点距离、且大于该下轮廓的任一点与该轮廓几何中心的一下轮廓点距离、且大于该左轮廓的任一点与该轮廓几何中心的一左轮廓点距离；该右下外凸部轮廓的任一点与该轮廓几何中心的一右下外凸点距离大于该上轮廓点距离、且大于该右轮廓点距离、且大于该下轮廓点距离、且大于该左轮廓点距离；该左下外凸部轮廓的任一点与该轮廓几何中心的一左下外凸点距离大于该上轮廓点距离、且大于该右轮廓点距离、且大于该下轮廓点距离、且大于该左轮廓点距离；该左上外凸部轮廓的任一点与该轮廓几何中心的一左上外凸点距离大于该上轮廓点距离、且大于该右轮廓点距离、且大于该下轮廓点距离、且大于该左轮廓点距离。


3.一种滤镜架改良结构，其特征在于，包括：
一框体，包括：
一前面板，其具有一第一穿透孔以及一第一表面，该第一穿透孔具有一第一穿透孔轮廓，该第一穿透孔轮廓具有一轮廓几何中心，该第一穿透孔轮廓包括：
一上轮廓；
一右轮廓；
一下轮廓；
一左轮廓；
一右上薄化区内缘轮廓，分别与该上轮廓以及该右轮廓连接；
一右下薄化区内缘轮廓，分别与该右轮廓以及该下轮廓连接；
一左下薄化区内缘轮廓，分别与该下轮廓以及该左轮廓连接；以及
一左上薄化区内缘轮廓，分别与该左轮廓以及该上轮廓连接；
其中该前面板包括：
一右上薄化区，介于该右上薄化区内缘轮廓以及一右上薄化区外缘轮廓之间；
一右下薄化区，介于该右下薄化区内缘轮廓以及一右下薄化区外缘轮廓之间；
一左下薄化区，介于该左下薄化区内缘轮廓以及一左下薄化区外缘轮廓之间；以及
一左上薄化区，介于该左上薄化区内缘轮廓以及一左上薄化区外缘轮廓之间；位于该右上薄化区的外且邻近该右上薄化区外缘轮廓的该前面板所具有的一厚度大于邻近该右上薄化区内缘轮廓的该右上薄化区所具有的一厚度，位于该右下薄化区的外且邻近该右下薄化区外缘轮廓的该前面板所具有的一厚度大于邻近该右下薄化区内缘轮廓的该右下薄化区所具有的一厚度，位于该左下薄化区的外且邻近该左下薄化区外缘轮廓的该前面板所具有的一厚度大于邻近该左下薄化区内缘轮廓的该左下薄化区所具有的一厚度，位于该左上薄化区的外且邻近该左上薄化区外缘轮廓的该前面板所具有的一厚度大于邻近该左上薄化区内缘轮廓的该左上薄化区所具有的一厚度；
其中，该右上薄化区外缘轮廓、该右下薄化区外缘轮廓、该左下薄化区外缘轮廓以及该左上薄化区外缘轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该上轮廓以及该下轮廓与该轮廓几何中心的一上下轮廓平均距离；
或者，该右上薄化区外缘轮廓、该右下薄化区外缘轮廓、该左下薄化区外缘轮廓以及该左上薄化区外缘轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该左轮廓以及该右轮廓与该轮廓几何中心的一左右轮廓平均距离；
或者，该右上薄化区外缘轮廓、该右下薄化区外缘轮廓、该左下薄化区外缘轮廓以及该左上薄化区外缘轮廓分别包括至少一远距点，该至少一远距点与该轮廓几何中心的一距离大于该第一穿透孔轮廓与该轮廓几何中心的一轮廓平均距离；
或者，该右上薄化区外缘轮廓、该右下薄化区外缘轮廓、该左下薄化区外缘轮廓以及该左上薄化区外缘轮廓分别包括至少一远距外缘轮廓段落，该至少一远距外缘轮廓段落与该轮廓几何中心的一外缘轮廓段落平均距离大于该上轮廓以及该下轮廓与该轮廓几何中心的一上下轮廓平均距离；
或者，该右上薄化区外缘轮廓、该右下薄化区外缘轮廓、该左下薄化区外缘轮廓以及该左上薄化区外缘轮廓分别包括至少一远距外缘轮廓段落，该至少一远距外缘轮廓段落与该轮廓几何中心的一外缘轮廓段落平均距离大于该左轮廓以及该右轮廓与该轮廓几何中心的一左右轮廓平均距离；
或者，该右上薄化区外缘轮廓、该右下薄化区外缘轮廓、该左下薄化区外缘轮廓以及该左上薄化区外缘轮廓分别包括至少一远距外缘轮廓段落，该至少一远距外缘轮廓段落与该轮廓几何中心的一外缘轮廓段落平均距离大于该第一穿透孔轮廓与该轮廓几何中心的一轮廓平均距离；
一后面板，其具有一第二穿透孔，该后面板包括一滤镜架枢接部；以及
一连接部，用以连接该前面板以及该后面板；以及
一连接件，包括：
一前枢接部，用以与该滤镜架枢接部枢接；以及
一后连接部。


4.根据权利要求1或3所述的滤镜架改良结构，其特征在于：该框体还包括一卡槽部，该...

【专利技术属性】
技术研发人员：林世忠，
申请(专利权)人：林世忠，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71