【技术实现步骤摘要】
堆叠差异的确定和使用堆叠差异的校正本申请是申请日为2017年3月28日、申请号为201780025162.2、专利技术名称为“堆叠差异的确定和使用堆叠差异的校正”的中国专利技术专利申请的分案申请。相关申请的交叉引用本申请要求于2016年4月22日提交的EP申请16166614.4的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
本公开涉及用于可用于例如通过光刻技术来制造器件的检查(量测)的方法和装置，以及使用光刻技术来制造器件的方法。
技术介绍
光刻装置是一种将期望的图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，可以使用备选地称为掩模或掩模版的图案形成装置来生成待形成在IC的单独层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括部分、一个或若干裸片)上。图案的转印通常经由成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行。通常，单个衬底将包含相继被图案化的相邻目标部分的网络。在图案化工艺(即，涉及图案化的创建...
【技术保护点】
1.一种方法，包括：/n针对测量目标的多个相邻周期性结构或针对多个相邻测量目标，获得堆叠差异参数的第一值和堆叠差异参数的第二值，所述堆叠差异参数的第一值和所述堆叠差异参数的第二值是分别通过使用第一测量辐射和第二测量辐射的测量而获得的，并且所述堆叠差异参数表示测量目标的相邻周期性结构之间或衬底上的相邻测量目标之间的物理配置中的非设计差异；/n从所述测量目标的多个相邻周期性结构或针对所述多个相邻测量目标获得目标参数的第一值和目标参数的第二值，所述目标参数的第一值和所述目标参数的第二值是分别通过所述第一测量辐射和所述第二测量辐射而获得的，并且其中所述目标参数值包括与物理配置中的非...
【技术特征摘要】
20160422 EP 16166614.41.一种方法，包括：
针对测量目标的多个相邻周期性结构或针对多个相邻测量目标，获得堆叠差异参数的第一值和堆叠差异参数的第二值，所述堆叠差异参数的第一值和所述堆叠差异参数的第二值是分别通过使用第一测量辐射和第二测量辐射的测量而获得的，并且所述堆叠差异参数表示测量目标的相邻周期性结构之间或衬底上的相邻测量目标之间的物理配置中的非设计差异；
从所述测量目标的多个相邻周期性结构或针对所述多个相邻测量目标获得目标参数的第一值和目标参数的第二值，所述目标参数的第一值和所述目标参数的第二值是分别通过所述第一测量辐射和所述第二测量辐射而获得的，并且其中所述目标参数值包括与物理配置中的非设计差异无关的部分以及由于物理配置中的非设计差异而导致的部分；
确定描述堆叠差异参数的第一值和/或第二值与所述目标参数的第一值和所述目标参数的第二值的差异之间的关系的关系函数；以及
从所述关系函数确定目标参数值的与物理配置中的非设计差异无关的部分。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述关系函数包括常数。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中确定所述关系函数包括确定第一关系函数和第二关系函数，所述第一关系函数描述所述堆叠差异参数的第一值与所述目标参数的第一值和所述目标参数第二值的差异之间的基本上线性的关系，所述第二关系函数描述所述堆叠差异参数的第二值与所述目标参数的第一值和所述目标参数的第二值的差异之间的基本上线性的关系。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中确定所述关系函数包括：绘制所述目标参数的第一值与所述目标参数的第二值的差异关于所述堆叠差异参数的第一值以及关于所述堆叠差异参数的第二值的三维图。
5.根据权利要求4所述的方法，其中所述三维图上的数据点基本上相关以定义基本上平坦的平面，并且其中第一关系函数由所述平面相对于所述堆叠差异参数的第一值的轴的斜率来描述，并且第二关系函数由所述平面相对于所述堆叠差异参数的第二值的轴的斜率来描述。
6.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中确定所述关系函数包括确定描述以下项之间的基本上线性的关系的关系函数：
目标参数的第一值与目标参数的第二值的差异；以及
堆叠差异参数的第一值与堆叠差异参数的第二值的差异。
7.根据权利要求6所述的方法，其中确定所述关系函数包括：绘制所述目标参数的第一值与所述目标参数的第二值的差异关于所述堆叠差异参数的第一值与所述堆叠差异参数的第二值的差异的图，所述关系函数由拟合到所述图的线的斜率描述。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，包括确定1)所述堆叠差异参数的第一值和/或第二值与2)所述目标参数的第一值和所述目标参数的第二值的差异的相关程度。
9.根据权利要求8所述的方法，其中相关程度用于确定目标参数值的与物理配置中的非设计差异无关的所确定的部分的准确度的量度。
10.根据权利要求8或权利要求9所述的方法，包括初始优化以从多个候选目标中确定期望目标，所述初始优化包括：
针对多个候选目标的多个样本以及所述第一测量辐射和所述第二测量辐射的多个候选测量辐射对，获得包括所述堆叠差异参数的第一值和第二值以及所述目标参数的第一值和第二值的多组值，每组值与所述候选目标之一和所述候选测量辐射对之一的不同组合相关；
针对所述多组值中的每组值确定相关程度；以及
基于针对每组值所确定的相关程度，从所述候选目标之一中选择期望目标。
11.根据权利要求10所述的方法，其中选择期望目标包括：
针对每个候选目标，确定所确定的相关程度高于阈值的与所述候选目标相关的值的组的数目；以及
选择具有高于阈值的所确定的相关程度的值的组的数目最大的候选目标作为所述期望目标。
12.根据权利要求10所述的方法，其中选择期望目标包括：
针对每个候选目标，确定针对与所述候选目标相关的每组值所确定的相关程度的平均值；以及
选择所确定的平均值最大的候选目标作为所述期望目标。
13.根据权利要求10所述的方法，其中选择期望目标包括：基于针对每组值所确定的相关程度来选择所述候选目标之一和所述候选测量辐射对之一的期望组合。
14.根据权利要求13所述的方法，其中选择所述期望组合包括：选择与所确定的相关程度最高的值的组相对应的组合。
15.根据权利要求13所述的方法，其中选择所述期望组合包括：选择组合的子集，所述组合的子集中的每个组合与所确定的相关程度高的值的组相对应。
16.根据权利要求15所述的方法，其中所述组合的子集包括与所确定的相关程度高于阈值的值的组相对应的所有组合。
17.根据权利要求15或权利要求16所述的方法，包括：从所述组合的子集中选择对应的值的组在对应的图上定义基本上平坦的平面的组合作为所述期望组合，所述对应的图是所述目标参数的第一值和所述目标参数的第二值的差异关于所述堆叠差异参数的第一值以及关于所述堆叠差异参数的第二值的图。
18.根据权利要求16所述的方法，其中所述期望组合是对应的值的组在所述图上最佳地定义基本上平坦的平面的组合。
19.根据权利要求17所述的方法，其中在存在多于一个组合的对应的值的组在可接受的程度上在所述图上定义基本上平坦的平面的情况下，所述方法还包括：
针对定义基本上平坦的平面的所述值的组中的每个组来确定不确定程度；以及
选择对应的值的组具有最小的所确定的不确定程度的组合作为所述期望组合。
20.根据权利要求19所述的方法，其中所确定的不确定程度包括所述目标参数的第一值和第二值的不确定程度。
21.根据权利要求17至20中任一项所述的方法，其中所述期望组合被选择为最佳地减少所述目标参数的第一值与所述目标参数的第二值之间的相互依赖性的组合。
22.根据权利要求13至21中任一项所述的方法，包括：基于哪个测量辐射产生用于所述堆叠差异参数的测量的最小值，来选择所述期望组合的测量辐射对的第一测量辐射或第二测量辐射作为期望的测量辐射。
23.根据权利要求1至22中任一项所述的方法，其中所述目标参数是套刻精度，并且套刻精度值的与所述物理配置中的非设计差异无关的部分包括由于已知的施加的偏置而产生的贡献和由于套刻精度误差而产生的贡献。
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【专利技术属性】
技术研发人员：A·J·登博夫，K·布哈塔查里亚，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL
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