标记区、用于确定位置的方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种标记区(4)，所述标记区具有‑至少两个方位标记(2)，所述方位标记具有针对相应的方位标记(2)在所述标记区(4)中的方位的信息；和‑至少一个与其中一个方位标记(2)相关联的或能相关联的位置标记(3)。此外，本发明专利技术涉及一种用于确定布置在基底(7)上的结构(11)的结构特征(11c)的X‑Y位置的装置，其中，相对于关于基底固定的标记区(4)的X‑Y位置是能确定的。此外，本发明专利技术涉及一种相对应的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】标记区、用于确定位置的方法和装置
本专利技术涉及一种根据权利要求1所述的标记区、一种根据权利要求8所述的用于确定布置在基底上的结构的结构特征的X-Y位置的装置以及一种根据权利要求9所述的相对应的方法。
技术介绍
在工业中特别重要的是，获得关于结构在基底上的位置的结论。特别感兴趣的是在结构的真实的实际位置与理想的理论位置之间的差。为了确定结构的实际位置能够引入坐标系并且能够给出结构关于该坐标系的位置。大多数情况下，该坐标系是指相对于主体固定的、也就是说与基底相关联的坐标系。该坐标系在进一步的进程中被称为基底坐标系。然而为了能够测量所有结构，必须在基底与测量系统、尤其是带有摄像头的光学系统之间进行相对运动。这是必需的，因为不是所有结构处于测量系统的可视区域中。如果所有要测量的结构都处于测量系统的可视区域中，则当然不需要在测量系统与基底之间进行相对运动。该相对运动大多数情况下通过其上固定基底的基底保持件的主动运动进行，从而细工的光学系统不必运动。在这种情况下，必须非常准确地确定基底保持件的位置，以便能够确定基底保持件所经过的距离。因此，必须给出关于空间固定的坐标系的基底保持件的位置。也可设想的是，仅确定基底保持件在两个点之间所经过的路程。在这种情况下，虽然放弃了空间固定的坐标系，但尽管如此仍需要非常精确的控制设备，以便能够非常准确地确定所经过的距离。现有技术中的所提及的每个方法需要相对昂贵且复杂的电子-机械系统，以便能够测量基底保持件的位置或所经过的路程并且因此能够测量在基底的基底表面处的结构位置。此外，这种设备的运动路程是显著的。由于相应的结构大小，最小的温度波动就已经对热膨胀具有影响并且因此对所使用的构件的构件大小具有影响。为了能够测量在基底的基底表面处的不同时地处于光学装置的可视区域中的各结构，必须在基底与光学装置之间进行相对运动，以便将各结构依次带到光学装置的可视区域中。大多数情况下，基底固定在其上的基底保持件移动，而光学装置是固定的。在移动期间，基底保持件的位置必须连续地一同跟随。因此，需要给出一种关于基底保持件的位置的基准系统。基底保持件的和因此基底的位置说明必须非常准确地进行，尤其是在纳米范围内进行。该精准的位置说明、尤其是关于数厘米的路程段的位置说明需要非常准确的且由此昂贵的测量系统、尤其是干涉仪。
技术实现思路
本专利技术的任务因此在于，给出用于测量基底的装置和方法，借助所述方法实现了结构或结构特征在基底上的位置的更准确的和/或更高效的确定。所述任务通过权利要求1、8和9的特征解决。本专利技术的有利的改进方案在从属权利要求中给出。由至少两个在说明书、权利要求书和/或附图中给出的特征组成的全部的组合方案也落在本专利技术的范围内。在所给出的值范围中，也应公开处于所提及的界限之内的值作为界限值并且能够以任意组合来要求保护。本专利技术基于如下构思：设置有如下标记区，该标记区具有：-至少两个方位标记，所述方位标记具有针对相应的方位标记在标记区中的方位的信息；和-至少一个与其中一个方位标记相关联的或能相关联的位置标记，所述位置标记用于确定结构的结构特征在基底上的X-Y位置，尤其是独立于基底保持件的运动或位置进行确定。基底的结构的根据本专利技术的测量允许在进一步的过程步骤中尤其是两个基底相对彼此更准确的且更高效的结合过程。如果所测量的结构位置不相应于期望的结构位置，则尤其是在结合过程之前和/或期间对这两个基底之中的至少一个基底进行补偿。换言之，优选根据选取标准形成基底对。尤其，根据本专利技术由一个或多个位置标记和/或方位标记的两个X-Y位置或其他特征确定结构的方位、尤其是旋转方位。此外，根据本专利技术可设想，由一个或多个位置标记和/或方位标记的两个X-Y位置或其他特征确定结构的膨胀或走样(Zerrung，有时称为变形)。本专利技术的一个尤其是独立的方面在于，将结构的结构特征在基底的基底表面处的一些X-Y位置与在与基底的基底表面相对而置的表面上的位置标记的X-Y位置相联合或相关联，尤其是确定其沿x方向和/或y方向的间距。为此，除了位置标记以外，尤其是附加地使用方位标记。通过使用这种位置标记和方位标记不再需要高精确地借助技术上耗费的测量系统、尤其是光学的测量系统确定或一同跟随基底保持件的位置。当前的位置的大致确定尤其是通过读取和解读方位标记来进行。当前的位置的较精确的确定能够尤其是通过附加的、优选与方位标记相关联的位置标记进行。本专利技术由此尤其是描述用于对结构或结构特征进行确定、尤其是测量、优选位置测量的方法和装置，而不必确定(ermitteln，有时称为查明)基底保持件相对于(另外的)基准系统的位置和因此基底相对于该(另外的)基准系统的位置。本专利技术的另一个尤其是独立的核心在于，设置有如下方法和装置，借助所述方法和装置能够尤其是完全地放弃使用空间固定的基准系统，关于该基准系统给出或测量基底保持件的X-Y位置。基本构思尤其是在于，构造标记区、优选在表面处构造标记区，该标记区与基底表面相对而置地布置或能布置，结构或结构特征应在该基底表面上得到测量。标记区具有尤其是两个特性：标记区的每个标记如此编码，使得测量系统、尤其是光学装置能够推断出标记的方位。在了解所述方位的情况下，装置能够借助于高准确性的、优选与相应的方位标记相关联的位置标记执行高准确性的位置确定。在了解标记区以及使用两个相对彼此校准过的光学装置的情况下，由此能够将要测量的基底的基底表面的结构/结构特征与标记相联合并且反之亦然。由此，可在不需要空间固定的外部的基准系统的情况下实现尤其是对间距改变的计算。不再需要空间固定的基准系统，关于所述基准系统必须记录基底保持件的位置。因此，不再必须追踪基底保持件的位置，既不必光学地借助于干涉仪也不必机械地借助于记步器进行追踪。因此在本专利技术的改进方案中设置成，尤其是除了随后描述的根据本专利技术公开的器件以外，不使用或根据本装置安装用于尤其是连续地探测基底保持件的位置的器件。本专利技术的另一个重要的方面尤其是在于，减少或在最大程度上避免标记区的和/或位置标记的走样。标记标记根据本专利技术在最广的意义下理解为可光学地探测的和/或可地形地探测的结构(或结构的结构特征)，借助于测量装置能够检测并且由此确定所述结构或所述结构的位置、优选至少所述结构的X-Y位置。用于探测结构/结构特征并且由此确定所述结构/结构特征的位置的测量装置能够尤其是：-光学系统、尤其是摄像头，-接触式系统、尤其是AFM。标记优选由至少一种随后阐述的材料组成：-金属，尤其是-Cr,Ai,Ti,Cu,Ag,Au,Fe,Ni,Co,Pt,W,Pb,Ta,Zn,Sn，-合金，尤其是-金属合金，-金属-非金属合金，-陶瓷，-塑料，-半导体、尤其是-化合物半导体、尤其是-GaAs,GaN,InP,InxGal-xN,InSb,InAs,GaSb,A1N,本文档来自技高网...

【技术保护点】
1. 标记区(4)，所述标记区具有：/n-至少两个方位标记(2)，所述方位标记具有针对相应的方位标记(2)在所述标记区(4)中的方位的信息；和/n-至少一个与其中一个方位标记(2)相关联的或能相关联的位置标记(3)。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.标记区(4)，所述标记区具有：
-至少两个方位标记(2)，所述方位标记具有针对相应的方位标记(2)在所述标记区(4)中的方位的信息；和
-至少一个与其中一个方位标记(2)相关联的或能相关联的位置标记(3)。


2.根据权利要求1所述的标记区，其中，所述方位标记(2)和/或位置标记(3)在所述方位标记(2)和/或位置标记(3)之间的间距统一的情况下布置在栅格中、尤其是对称的栅格中。


3.根据权利要求1或2所述的标记区，其中，相邻的方位标记(2)和/或相邻的位置标记(3)等距地布置在所述标记区(4)上。


4.根据权利要求1至3中一项或多项所述的标记区，其中，所述标记区(4)具有至少10x10个标记(1)，优选至少100x100个标记(1)，还更优选地超过1000x1000个标记(1)、最优选地超过10000x10000个标记(1)、所有中最优选地超过100000x100000个标记(1)。


5.根据权利要求1至4中一项或多项所述的标记区，其中，在相邻的方位标记(2)之间的间距小于所述方位标记(2)的宽度和/或高度或直径，尤其是其中，所述方位标记(2)的间距与所述方位标记(2)的宽度和/...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·瓦根莱特纳，F·伯格尔萨克，
申请(专利权)人：EV集团E·索尔纳有限责任公司，
类型：发明
国别省市：奥地利;AT