【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种β-Ga↓[2]O↓[3]纳米线的制备方法,其特征是,该方法为: (1)将1纳米-1微米厚的金膜沉积在基片衬底上; (2)将镓金属颗粒放入矾土舟中,衬底放在距离舟0.8厘米-1.2厘米处,使之按下述条件一同加热、保温; (3)将矾土舟放入石英管中,再将石英管放入管式炉中,然后将管式炉加热到970℃-990℃,保持0.9-1.1小时; (4)加热炉内通入380sccm-420sccm(毫升/分钟)的氮气; (5)在管式炉冷却到室温后,产物-β-Ga↓[2]O↓[3]纳米线在基片衬底上生成;。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:王太宏,丰平,张杰,万青,许春梅,薛欣宇,刘永刚,虞红春,
申请(专利权)人:湖南大学,
类型:发明
国别省市:43[]
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