本实用新型专利技术公开了一种半导体晶圆抛光设备用除尘装置，涉及半导体技术领域。本实用新型专利技术包括抛光箱体，所述抛光箱体的一侧通接有管道一，管道一中部设置有抽风机，管道一的端部设置有螺纹，管道一通过螺纹螺纹连接有金属框，金属框远离管道一的一端固定连接有布袋，管道一的外壁螺纹连接有活动螺纹套，活动螺纹套远离管道一的一端内部套设有管道二，管道二远离活动螺纹套的一端对称设置有滑块，管道二靠近滑块的一端套设有管道三，管道三远离管道二的一端设置有降温箱，管道三贯穿降温箱并延伸至其内部，管道三位于降温箱内的端部通接有降温管。本实用新型专利技术通过布袋、降温箱和降温管的配合作用，实现了除尘降温的功能。
【技术实现步骤摘要】
一种半导体晶圆抛光设备用除尘装置
本技术属于半导体
，具体来说，特别涉及一种半导体晶圆抛光设备用除尘装置。
技术介绍
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法，是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的，有时也用以消除光泽。通常以抛光轮作为抛光工具，抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成，两侧用金属圆板夹紧，其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。光电元器件在加工的过程中也需要对半导体抛光，但是在进行光电元器件机械抛光时，会产生大量的灰尘等污染物，同时机械抛光时会产生较多的热量，较大的热量不及时排离会对抛光工具和光电元器件造成损伤。针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
针对相关技术中的问题，本技术提出一种半导体晶圆抛光设备用除尘装置，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。为解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：本技术为一种半导体晶圆抛光设备用除尘装置，包括抛光箱体，所述抛光箱体的一侧通接有管道一，所述管道一中部设置有抽风机，所述管道一的端部设置有螺纹，所述管道一通过螺纹螺纹连接有金属框，所述金属框远离所述管道一的一端固定连接有布袋，所述管道一的外壁螺纹连接有活动螺纹套，所述活动螺纹套远离所述管道一的一端内部套设有管道二，所述管道二远离所述活动螺纹套的一端对称设置有滑块，所述管道二靠近所述滑块的一端套设有管道三，所述管道三远离所述管道二的一端设置有降温箱，所述管道三贯穿所述降温箱并延伸至其内部，所述管道三位于所述降温箱内的端部通接有降温管。进一步地，所述活动螺纹套的靠近所述管道二的端部设置有限位边一，所述管道二的靠近所述活动螺纹套的端部设置有与所述限位边一相适应的限位边二。进一步地，所述布袋位于所述管道二的内部，所述管道三的内壁对称设置有滑槽，所述滑块与所述滑槽滑动连接，所述管道二通过所述滑块和滑槽与所述管道三滑动连接。进一步地，所述降温箱内充满冷水，所述降温箱的顶端一侧设置有出气口，所述降温箱的顶端设置有充水口，所述降温箱的下部一侧设置有排水口。进一步地，所述降温管的另一端贯穿所述降温箱的顶端与所述出气口相通，所述降温管为蛇形管。本技术具有以下有益效果：进行抛光作业时，通过启动抽风机，将抛光箱体内产生的灰尘和热气通过管道一抽离出来，且抛光箱体的一侧设置有通气口，用于外界空气进入箱体内，通气口上设置过滤网，防止灰尘从此处散出，抽离的灰尘和热气进入到布袋内，气流穿过布袋散发到管道二内，大量灰尘留在布袋内，通过布袋的设置，实现了将抛光产生的灰尘收集清除的目的，改善了作业环境；热气流通过管道三进入到降温箱内的降温管内，经过降温管降温后从出气口排出到外界环境中，通过降温箱和降温管的配合作用，能够较好地将抛光产生的热量及时排离作业环境，有效防止了抛光工具或光电元器件被损伤；当抛光结束后，停止抽风机，然后将活动螺纹套拧下，与管道一分离，然后推动管道二，使得管道二在滑块的作用下，滑进管道三内，然后将金属框从管道一内拧出，将布袋内的灰尘清理出去即可。当然，实施本技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。附图说明为了更清楚地说明技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术的结构示意图；图2为本技术的A处剖视图；图3为本技术的局部立体图之一；图4为本技术的局部立体图之二。附图中，各标号所代表的部件列表如下：1、抛光箱体；2、管道一；3、抽风机；4、螺纹；5、金属框；6、布袋；7、活动螺纹套；701、限位边一；8、管道二；801、限位边二；9、滑块；10、管道三；1001、滑槽；11、降温箱；1101、出气口；1102、充水口；1103、排水口；12、降温管。具体实施方式下面将结合技术实施例中的附图，对技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于技术保护的范围。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“开孔”、“上”、“下”、“顶”、“中”、“内”等指示方位或位置关系，仅是为了便于描述技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的组件或元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对技术的限制。请参阅图1-4所示，本技术为一种半导体晶圆抛光设备用除尘装置，包括抛光箱体1，所述抛光箱体1的一侧通接有管道一2，所述管道一2中部设置有抽风机3，所述管道一2的端部设置有螺纹4，所述管道一2通过螺纹4螺纹连接有金属框5，所述金属框5远离所述管道一2的一端固定连接有布袋6，所述管道一2的外壁螺纹连接有活动螺纹套7，所述活动螺纹套7远离所述管道一2的一端内部套设有管道二8，所述管道二8远离所述活动螺纹套7的一端对称设置有滑块9，所述管道二8靠近所述滑块9的一端套设有管道三10，所述管道三10远离所述管道二8的一端设置有降温箱11，所述管道三10贯穿所述降温箱11并延伸至其内部，所述管道三10位于所述降温箱11内的端部通接有降温管12。在一个实施例中，对于上述活动螺纹套7来说，所述活动螺纹套7的靠近所述管道二8的端部设置有限位边一701，所述管道二8的靠近所述活动螺纹套7的端部设置有与所述限位边一701相适应的限位边二801，从而通过限位边一701和限位边二801的配合作用，能够防止活动螺纹套7与管道二8分离，同时活动螺纹套7又可在管道二8上自由活动。在一个实施例中，对于上述布袋6来说，所述布袋6位于所述管道二8的内部，所述管道三10的内壁对称设置有滑槽1001，所述滑块9与所述滑槽1001滑动连接，所述管道二8通过所述滑块9和滑槽1001与所述管道三10滑动连接。在一个实施例中，对于上述降温箱11来说，所述降温箱11内充满冷水，所述降温箱11的顶端一侧设置有出气口1101，所述降温箱11的顶端设置有充水口1102，所述降温箱11的下部一侧设置有排水口1103，从而通过降温箱11将气体冷却过后，然后通过出气口1101排出到外界环境中，通过充水口1102往降温箱11内充入冷水，且每隔一定的时间，将水通过排水口1103排出，然后进行换水，进而使得降温效果更好。在一个实施例中，对于上述降温管12来说，所述降温管12的另一端贯穿所述降温箱11的顶端与所述出气口1101相通，所述降温管12为蛇形管，从而蛇本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种半导体晶圆抛光设备用除尘装置，包括抛光箱体(1)，其特征在于：所述抛光箱体(1)的一侧通接有管道一(2)，所述管道一(2)中部设置有抽风机(3)，所述管道一(2)的端部设置有螺纹(4)，所述管道一(2)通过螺纹(4)螺纹连接有金属框(5)，所述金属框(5)远离所述管道一(2)的一端固定连接有布袋(6)，所述管道一(2)的外壁螺纹连接有活动螺纹套(7)，所述活动螺纹套(7)远离所述管道一(2)的一端内部套设有管道二(8)，所述管道二(8)远离所述活动螺纹套(7)的一端对称设置有滑块(9)，所述管道二(8)靠近所述滑块(9)的一端套设有管道三(10)，所述管道三(10)远离所述管道二(8)的一端设置有降温箱(11)，所述管道三(10)贯穿所述降温箱(11)并延伸至其内部，所述管道三(10)位于所述降温箱(11)内的端部通接有降温管(12)。/n
【技术特征摘要】
1.一种半导体晶圆抛光设备用除尘装置，包括抛光箱体(1)，其特征在于：所述抛光箱体(1)的一侧通接有管道一(2)，所述管道一(2)中部设置有抽风机(3)，所述管道一(2)的端部设置有螺纹(4)，所述管道一(2)通过螺纹(4)螺纹连接有金属框(5)，所述金属框(5)远离所述管道一(2)的一端固定连接有布袋(6)，所述管道一(2)的外壁螺纹连接有活动螺纹套(7)，所述活动螺纹套(7)远离所述管道一(2)的一端内部套设有管道二(8)，所述管道二(8)远离所述活动螺纹套(7)的一端对称设置有滑块(9)，所述管道二(8)靠近所述滑块(9)的一端套设有管道三(10)，所述管道三(10)远离所述管道二(8)的一端设置有降温箱(11)，所述管道三(10)贯穿所述降温箱(11)并延伸至其内部，所述管道三(10)位于所述降温箱(11)内的端部通接有降温管(12)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆抛光设备用除尘装置，其特征在于，所述活动螺纹套(7)的靠近所述管道二(8)的端部设置有限位边一(70...
【专利技术属性】
技术研发人员：辛长林，阚总峰，刘洪刚，赵峰，
申请(专利权)人：安徽高芯众科半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34
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