有机硅氧烷化合物和表面处理剂制造技术

提供由下述通式(1)表示的可形成亲油性、耐磨损性优异的固化被膜的含有亲油性基团的(水解性)有机硅氧烷化合物和含有该化合物的表面处理剂。(式中，A为‑CH

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】有机硅氧烷化合物和表面处理剂
本专利技术涉及在分子中含有羟基或水解性基团与亲油性基团的有机硅氧烷化合物等。详细地说，涉及形成亲油性、耐磨损性优异的被膜的含有亲油性基团的(水解性)有机硅氧烷化合物和含有该化合物的表面处理剂。
技术介绍
近年来，以移动电话为首，显示器的触摸面板化在加速。由于这些是用手指接触来进行操作，因此指纹等污垢附着、难看成为了问题。因此，为了改善外观、可视性，在显示器的表面使指纹难以粘附的技术、使指纹不明显的技术的要求在一年年地提高，希望开发能够满足这些要求的材料。一般地，作为玻璃、布等基材的表面改性剂，众所周知硅烷偶联剂，作为各种基材表面的涂布剂已广泛地利用。硅烷偶联剂在1分子中具有有机官能团和反应性甲硅烷基(一般为烷氧基甲硅烷基等水解性甲硅烷基)，该水解性甲硅烷基利用空气中的水分等引起自缩合反应而形成被膜。该被膜通过水解性甲硅烷基与玻璃、金属等的表面化学地·物理地结合而成为具有耐久性的牢固的被膜。因此，公开了为数众多的通过使用在含有氟聚醚基的化合物中引入了水解性甲硅烷基的含有氟聚醚基的聚合物从而可在基材表面形成具有拒水拒油性、防污性等的被膜的组合物(专利文献1～6：日本特表2008-534696号公报、日本特表2008-537557号公报、日本特开2012-072272号公报、日本特开2012-157856号公报、日本特开2013-136833号公报、日本特开2015-199906号公报)。但是，使用现有的含有氟聚醚基的聚合物制作的被膜层虽然由于其高拒水拒油性，污垢擦除性优异，但具有如下问题：指纹中含有的皮脂被表面排斥，从而形成微小的油滴，由于光散射，因此指纹容易明显。另外，也公开了通过使用在亲油性化合物中引入了水解性甲硅烷基的硅烷化合物从而与基材表面密合、并且在基材表面可形成具有亲油性的被膜的组合物(专利文献7：日本特开2001-353808号公报)。但是，专利文献7中记载的硅烷化合物直至难以看到指纹需要数日的时间，因此并非具有实用上能够满足需要的指纹低可视性。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特表2008-534696号公报专利文献2：日本特表2008-537557号公报专利文献3：日本特开2012-072272号公报专利文献4：日本特开2012-157856号公报专利文献5：日本特开2013-136833号公报专利文献6：日本特开2015-199906号公报专利文献7：日本特开2001-353808号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术鉴于上述实际情况而完成，目的在于提供可形成亲油性、耐磨损性优异的固化被膜的含有亲油性基团的(水解性)有机硅氧烷化合物和含有该化合物的表面处理剂。本专利技术人为了实现上述目的，提出了通过使用在亲油性化合物中引入了水解性甲硅烷基的硅烷化合物从而与基材表面密合并且可在基材表面形成具有亲油性的被膜的表面处理剂(日本特愿2017-206986号)。但是，就该硅烷化合物而言，由于形成具有接近皮脂的折射率约1.5的折射率的固化被膜，因此能够充分地发挥指纹的低可视性，但由于与使用相伴的磨损，有时指纹低可视性降低。因此，本专利技术人进一步进行了研究，结果发现：在上述含有亲油性基团的(水解性)有机硅氧烷化合物中，通过使用如后述的通式(1)所示那样从中途的连结部位的Si原子经由硅氧烷键、优选经由分支的多个Si原子而在末端具有多个水解性甲硅烷基的(水解性)有机硅氧烷化合物，从而该(水解性)有机硅氧烷化合物可形成亲油性、耐磨损性优异的固化被膜，完成了本专利技术。因此，本专利技术提供下述的有机硅氧烷化合物和表面处理剂。[1]由下述通式(1)表示的有机硅氧烷化合物。[化1](式中，A为-CH3、-C(＝O)OR1、-C(＝O)NR12、-C(＝O)SR1和-P(＝O)(OR1)2中的任一者，R1为氢原子、碳原子数1～30的烷基、碳原子数6～30的芳基或碳原子数7～30的芳烷基，Y独立地为2价的有机基团，W独立地为碳原子数1～4的烷基、苯基、羟基或水解性基团，R独立地为碳原子数1～4的烷基或苯基，X独立地为羟基或水解性基团，n为1～3的整数，q为1～3的整数。)[2][1]所述的有机硅氧烷化合物，其中，在所述式(1)中，Y为可包含选自-O-、-S-、-NR-、-C(＝O)-、-C(＝O)O-、-C(＝O)NR-、-OC(＝O)NR-(R为碳原子数1～4的烷基或苯基)、硅亚烷基、硅亚芳基和硅原子数2～10个的直链状、分支状或环状的2价的有机聚硅氧烷残基中的2价的基团、另外可包含碳原子数6～20的亚芳基的碳原子数2～30的亚烷基。[3][1]或[2]所述的有机硅氧烷化合物，其中，在所述式(1)中，W各自独立地选自碳原子数1～4的烷基、苯基、羟基、碳原子数1～10的烷氧基、碳原子数2～10的烷氧基取代烷氧基、碳原子数1～10的酰氧基、碳原子数2～10的烯氧基、卤素原子、肟基、异氰酸酯基和氰酸酯基。[4][1]所述的有机硅氧烷化合物，其由下述通式(2)表示。[化2](式中，R2为碳原子数1～20的烷基、碳原子数6～20的芳基或碳原子数7～20的芳烷基，Q为单键、或选自硅亚烷基、硅亚芳基和硅原子数2～10个的直链状、分支状或环状的2价的有机聚硅氧烷残基中的2价的基团，m各自独立地为1～20的整数，X独立地为羟基或水解性基团。)[5][1]～[4]中任一项所述的有机硅氧烷化合物，其中，在所述式(1)或(2)中，X各自独立地选自羟基、碳原子数1～10的烷氧基、碳原子数2～10的烷氧基取代烷氧基、碳原子数1～10的酰氧基、碳原子数2～10的烯氧基、卤素原子、肟基、异氰酸酯基和氰酸酯基。[6]表面处理剂，其含有[1]～[5]中任一项所述的有机硅氧烷化合物。专利技术的效果本专利技术的含有亲油性基团的(水解性)有机硅氧烷化合物通过在分子内具有亲油性的末端基，从而在皮脂附着时能够使皮脂在基材上润湿铺展。另外，该有机硅氧烷化合物通过在分子内含有柔软的硅氧烷骨架，从而使摩擦减小。进而，该有机硅氧烷化合物通过含有多个硅烷醇基或水解性甲硅烷基，从而与玻璃、金属等的表面牢固地结合。因此，该(水解性)有机硅氧烷化合物可形成指纹低可视性、耐磨损性优异的固化被膜。具体实施方式本专利技术的在分子内含有亲油性基团的(水解性)有机硅氧烷化合物由下述通式(1)表示，可以是混合物。[化3](式中，A为-CH3、-C(＝O)OR1、-C(＝O)NR12、-C(＝O)SR1和-P(＝O)(OR1)2中的任一者，R1为氢原子、碳原子数1～30的烷基、碳原子数6～30的芳基或碳原子数7～30的芳烷基，Y独立地为2价的有机基团，W独立地为碳原子数1～4的烷基、苯基、羟基或水解性基团，R独立地为碳原子数1～4的烷基或苯基，X独立地为羟基或水解性基团，n为1～3的整数，q为1～3的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.由下述通式(1)表示的有机硅氧烷化合物：/n[化1]/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180213 JP 2018-0230921.由下述通式(1)表示的有机硅氧烷化合物：
[化1]



式中，A为-CH3、-C(＝O)OR1、-C(＝O)NR12、-C(＝O)SR1和-P(＝O)(OR1)2中的任一者，R1为氢原子、碳原子数1～30的烷基、碳原子数6～30的芳基或碳原子数7～30的芳烷基，Y独立地为2价的有机基团，W独立地为碳原子数1～4的烷基、苯基、羟基或水解性基团，R独立地为碳原子数1～4的烷基或苯基，X独立地为羟基或水解性基团，n为1～3的整数，q为1～3的整数。


2.根据权利要求1所述的有机硅氧烷化合物，其中，在所述式(1)中，Y为可包含选自-O-、-S-、-NR-、-C(＝O)-、-C(＝O)O-、-C(＝O)NR-、-OC(＝O)NR-(R为碳原子数1～4的烷基或苯基)、硅亚烷基、硅亚芳基和硅原子数2～10个的直链状、分支状或环状的2价的有机聚硅氧烷残基中的2价的基团、另外可包含碳原子数6～20的亚芳基的碳原子数2～30的亚烷基。


3.根据权利要求1或2所...

【专利技术属性】
技术研发人员：森圣矢，酒匈隆介，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP