一种NiV合金金相试样的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种NiV合金金相试样的制备方法。本发明专利技术的NiV合金金相试样的制备方法，包括如下步骤：1)切样：将NiV合金材料切块状小样；2)研磨：将步骤1)得到的小样进行粗磨和细磨；3)电解抛光：将经步骤2)研磨的试样进行电解抛光处理；4)腐蚀：将经步骤3)电解抛光处理后的试样进行腐蚀处理，得到所述NiV合金金相试样。本发明专利技术的NiV合金金相试样的制备方法，制得的NiV合金金相试样，用于金相分析时，能够清晰且正确的观察到材料的金相显微组织，有助于提高金相分析的准确性。

【技术实现步骤摘要】
一种NiV合金金相试样的制备方法
本专利技术涉及金相制样
，尤其涉及一种NiV合金金相试样的制备方法。
技术介绍
NiV合金靶材是在纯镍和纯钒靶的基础上发展起来的新型半导体关联材料。工程上采用NiV合金靶取代原来的镍靶和钒靶，既可一次溅射生成粘附层和阻挡层，同时，向镍中添加一定量的钒后，镍基合金呈现非磁性也利于磁控溅射。金相检测作为镍合金性能分析的重要手段，其试样制备的质量显得尤为重要。金相试样制备：金相分析是检验分析材料的手段之一，旨在揭示材料的真实结构。要进行金相分析，就必须制备能用于微观观察检验的样品——金相试样。在金相分析中，选择及制备有代表性的试样是很重要的。通常，金相试样制备要经过以下几个步骤：取样、镶嵌(有时可以省略)、磨光(粗磨和细磨)、抛光和腐蚀。当前金相试样制备的常用方法是机械抛光法与电解抛光法。单一的机械抛光不仅费时费力，而且在研磨抛光过程中极易留下划痕与拖尾等，给组织观察与分析带来干扰。而电解抛光法很好的克服了以上的不足，适用于机械抛光难以消除划痕的金属材料，且其设备成本低、操作容易、制备过程简单。CN103884566A公开了一种V基合金金相试样的制备方法，属于多相合金金相制备领域。该专利技术将块状V基合金试样进行粗磨预处理，然后进行逐级水磨；配制电解抛光液，对试样进行电解抛光；对抛光后试样进行超声波清洗，然后用酒精擦拭，吹干；配制电解腐蚀液，对试样进行电解腐蚀；将试样进行冲洗，用酒精擦拭，吹干，然后进行金相观察。该专利技术通过调节实验参数和控制V基合金金相样品制备的步骤，得到V基合金不同的金相形貌，满足不同的金相观察需求，反映更全面的V基合金显微结构的信息，为V基合金的研究提供实验支持。CN110886010A公开了一种铝合金金相试样制备用电解抛光液，包含丙三醇和盐酸水溶液。该专利技术提供的铝合金金相试样电解抛光液采用丙三醇和盐酸水溶液的组合方式，其中盐酸为电解抛光提供Cl-与酸性环境，丙三醇作为反应物参与电解反应，同时水还可提高电解抛光液的导电能力。该专利技术提供的电解抛光液盐酸含量低，无爆炸危险，铝合金试样经电解抛光液抛光后，得到的金相组织具有各相成像清晰、准确，第二相脱落较少的优异性能，能够更好的满足金相检测要求。而且，该专利技术提供的铝合金金相试样的组织显示方法操作简便，无需加热，制样效率高。CN109470728A公开了一种TC4钛合金摆碾件金相试样的制备方法，是以钛合金TC4摆碾件为原材料，依次包括分割、粗磨、细磨、电解抛光、用腐蚀剂腐蚀等步骤。该专利技术的TC4钛合金摆碾件金相试样的制备方法，可应用于易变形、变形量大、应力大、相貌不规则的产品，使得试样腐蚀后呈亚光色，亮色好，腐蚀均匀性好，腐蚀方法具有高选择性，腐蚀后的金相组织经金相显微镜观察可以获得晶粒形态、晶粒组织类型重要金属显微学信息，更有利于观察，使得观察更加准确，本制备方法成本低，制样工序简单，制样周期短，值得市场推广应用。但是，上述合金材料金相试样的制备方法，采用的电解抛光液和腐蚀液仅适用于相对应的合金材料，并不适用于NiV合金金相试样的制备，因此对NiV合金的金相分析时，使分析结果不准确。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种NiV合金金相试样的制备方法，该制备方法制得的NiV合金金相试样，用于金相分析时，能够清晰且正确的观察到材料的金相显微组织，有助于提高金相分析的准确性。为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：一种NiV合金金相试样的制备方法，包括如下步骤：1)切样：将NiV合金材料切块状小样；2)研磨：将步骤1)得到的小样进行粗磨和细磨；3)电解抛光：将经步骤2)研磨的试样进行电解抛光处理；4)腐蚀：将经步骤3)电解抛光处理后的试样进行腐蚀处理，得到所述NiV合金金相试样。本专利技术NiV合金金相试样的制备方法，通过切样、研磨、电解抛光和腐蚀处理，制得的NiV合金金相试样，用于金相分析时，能够清晰且正确的观察到材料的金相显微组织，有助于提高金相分析的准确性。步骤2)中，所述粗磨为将步骤1)得到的小样依次经200#砂纸、500#砂纸与800#砂纸粗磨，所述细磨为将粗磨后的小样依次经1000#砂纸与2000#砂纸细磨。步骤3)中，所述电解抛光用的抛光液，按体积份计，包含以下组分：乙醇5～7份，例如乙醇的体积份为5份、6份或7份等。乙二醇丁醚2～4份，例如乙二醇丁醚的体积份为2份、3份或4份等。蒸馏水10～15份，例如蒸馏水的体积份为10份、11份、12份、13份、14份或15份等。高氯酸4～6份，例如高氯酸的体积份为4份、5份或6份等。步骤3)中，所述电解抛光的参数为：所述电解抛光的电压为30～50V，例如所述电解抛光的电压为30V、31V、32V、33V、34V、35V、36V、37V、38V、39V、40V、41V、42V、43V、44V、45V、46V、47V、48V、49V或50V等；所述电解抛光的时间为30～50s，例如所述电解抛光的时间为30s、31s、32s、33s、34s、35s、36s、37s、38s、39s、40s、41s、42s、43s、44s、45s、46s、47s、48s、49s或50s等。步骤4)中，所述腐蚀处理先经硝酸的水溶液腐蚀20～30s，例如腐蚀的时间为20s、21s、22s、23s、24s、25s、26s、27s、28s、29s或30s等；再经硝酸和氢氟酸的水溶液腐蚀1～2min，例如腐蚀的时间为1min、1.1min、1.2min、1.3min、1.4min、1.5min、1.6min、1.7min、1.8min、1.9min或2min等。所述硝酸的水溶液为硝酸和水的混合溶液，所述硝酸与所述水的体积比为1:4～1:1，例如所述硝酸与所述水的体积比为1:4、1:3、1:2或1:1等。所述硝酸和氢氟酸的水溶液为硝酸、氢氟酸和水的混合溶液，所述硝酸与所述氢氟酸和所述水的体积比为1:1:20～2:1:20。所述硝酸为市售的分析纯硝酸，所述氢氟酸为市售的分析纯氢氟酸。作为本专利技术的优选方案，一种NiV合金金相试样的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：1)切样：将NiV合金材料切成20×20×5mm的块状小样；2)研磨：将步骤1)得到的小样依次进行200#砂纸、500#砂纸与800#砂纸粗磨和1000#砂纸与2000#砂纸细磨；3)电解抛光：将经步骤2)研磨的试样放入抛光液中，电压为30～50V进行电解抛光处理30～50s；4)腐蚀：将经步骤3)电解抛光处理后的试样放入腐蚀液中进行腐蚀处理，先经硝酸的水溶液腐蚀20～30s，再经硝酸和氢氟酸的水溶液腐蚀1～2min，得到所述NiV合金金相试样。在步骤4)之后，还包括清洗的步骤，清洗为采用水进行清洗。与现有技术相比，本专利技术的有益效果为：本专利技术NiV合金金相试样的制备方法，通过切样、研磨、电解抛光和腐蚀处理，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.NiV合金金相试样的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：/n1)切样：将NiV合金材料切块状小样；/n2)研磨：将步骤1)得到的小样进行粗磨和细磨；/n3)电解抛光：将经步骤2)研磨的试样进行电解抛光处理；/n4)腐蚀：将经步骤3)电解抛光处理后的试样进行腐蚀处理，得到所述NiV合金金相试样。/n

【技术特征摘要】
1.NiV合金金相试样的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：
1)切样：将NiV合金材料切块状小样；
2)研磨：将步骤1)得到的小样进行粗磨和细磨；
3)电解抛光：将经步骤2)研磨的试样进行电解抛光处理；
4)腐蚀：将经步骤3)电解抛光处理后的试样进行腐蚀处理，得到所述NiV合金金相试样。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述粗磨为将步骤1)得到的小样依次经200#砂纸、500#砂纸与800#砂纸粗磨，所述细磨为将粗磨后的小样依次经1000#砂纸与2000#砂纸细磨。


3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤3)中，所述电解抛光用的抛光液，按体积份计，包含以下组分：





4.根据权利要求1-3之一所述的制备方法，其特征在于，步骤3)中，所述电解抛光的参数为：所述电解抛光的电压为30～50V，所述电解抛光的时间为30～50s。


5.根据权利要求1-4之一所述的制备方法，其特征在于，步骤4)中，所述腐蚀处理先经硝酸的水溶液腐蚀20～30s，再经硝酸和氢氟酸的水溶液腐蚀1～2min。

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【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，边逸军，王学泽，龚润泽，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33