【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种纳米材料光学表征方法及其系统，特别涉及一种基于光纤和纳米操纵 器的纳米材料光学表征方法及其系统，属于纳米材料光学表征和纳光电子器件测试领域。 该系统可与显微仪器，例如扫描电子显微镜(SEM)、光学显微镜结合，同时与多种表征设 备，例如X射线能谱探头(EDS)、纳米操纵器、冷台、扫描台等结合形成综合测试系统， 研究纳米材料和纳光电子器件的发光或光响应性质。
技术介绍
与体材料相比，纳米材料具有许多特点，例如量子限域导致的量子效应，例如较大的 表面积体积比，纳米材料的光学性质因而具有许多与体材料不同的特点。例如发现半导体 量子点的尺寸对其发光波长的调控，发现一些半导 体纳米线可以作为光波导，其天然微腔和受激辐射的结合可以形成光泵浦的Fabry-Parrot 激光器。为了研究单个纳 米结构的光学性质， 一方面需要一定的显微技术以便选定和定位需要研究的纳米结构；另 一方面需要进行微区光激发和微区光收集以便对选定的纳米结构进行针对性的研究；此 外， 一定的纳米结构操控能力有助于增加灵活性。为了适应这些需要，显微荧光/拉曼系 统、近场光学系统、光镊技术等在...
【技术保护点】
一种基于光纤和纳米操纵器的纳米材料光学表征方法，其步骤为：１）将样品放入显微镜观测区内；２）将光纤探头安装在纳米操纵器上；３）操纵纳米操纵器，使光纤探头接近样品；４）通过光纤探头对样品进行光激发或光接收。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：高旻，彭练矛，陈清，李成垚，丁晨，张立欢，赖嘉霖，
申请(专利权)人：北京大学，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
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