等离子显示屏保护膜耐溅射性测试方法及其装置制造方法及图纸

本发明专利技术的等离子显示屏保护膜耐溅射性测试方法及其装置，其特征是在镀有一定厚度的保护膜（２）的玻璃基片（１）上覆盖具有特定形状的金属掩膜（４），将玻璃基片（１）放入射频溅射镀膜机（３）中的靶（６）位置上以高频溅射一定时间后，测量被金属掩膜（４）遮挡的区域和未遮挡区域的保护膜（２）厚度差，可以计算出溅射速率，从而得出保护膜耐溅射性评估方法。本发明专利技术可以高效、准确的测试等离子显示屏保护膜的耐溅射性能，并且测试原理与等离子屏的工作原理较近似，结果可信度高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种保护膜性能测试方法及其装置，尤其是一种等离子 显示屏保护膜的性能测试的方法及其装置，具体的说是等离子显示屏保 护膜耐溅射性测试方法及其装置。
技术介绍
目前，在等离子显示屏(PDP)技术中，惰性放电气体被密封在分别 具有扫描电极和寻址电极的前、后基板中，放电气体被电离成等离子体， 在此电离过程中放电气体被激发发射出紫外线，并且紫外线激发在特定 位置放置的荧光粉发射可见光。在前、后基板的扫描电极和寻址电极的表面需要形成一层厚度约 20 30txm的介质层，储存壁电荷以维持气体放电，同时也起绝缘作用。 当电极间被施加特定波形的高频交流电压时，放电气体被电离成等离子 体，阳离子会射向阴极电极，而制作介质层的材料，通常耐离子轰击能 力很差。为了不使介质层被离子轰击而迅速破坏，在介质层表面还需要 再覆盖一层保护膜，以保护介质层不受阳离子的轰击。由于保护膜直接 和放电气体接触，保护膜的电气性能对等离子显示屏的性能也有很大影 响，这种保护膜要有很高的耐溅射性。目前，测试保护膜的耐溅射性，通常有两种方法第一种方法，是直接通过长时间点亮等离子显示屏来测试保护膜的 耐溅射性，在等离子本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子显示屏保护膜耐溅射性测试方法，其特征是它包括以下步骤：　ａ．在玻璃基片（１）上镀制保护膜（２）；　ｂ．在镀有保护膜（２）的玻璃基片（１）上贴敷特定形状的金属掩膜（４），保护膜（２）的一部分被贴敷的金属掩膜（４）覆盖，另一部分没有被贴敷的金属掩膜（４）覆盖，将贴敷有金属掩膜（４）的玻璃基片（１）放在射频溅射镀膜机（３）的靶（６）位置上；　ｃ．打开射频溅射镀膜机（３）的节流阀（１０）引入工作气体；　ｄ．打开射频溅射镀膜机（３）开始放电，工作气体受激发产生工作气体离子（８）对贴敷有金属掩膜（４）的玻璃基片（１）进行高频离子溅射；　ｅ．溅射一段时间后，将去除金属掩膜（４）的玻璃基片（１）放到...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙青云，朱立锋，王保平，林青园，李霞，
申请(专利权)人：南京华显高科有限公司，
类型：发明
国别省市：84[中国|南京]