光学滤波器及使用光学滤波器的装置制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于提供一种光学滤波器，其以高的水平兼顾照相机图像的色差抑制及重影抑制、与可见光波长区域下的透射率特性，且具有即便是在长时间曝露于高温中的情况下，也能够维持光学特性的良好的耐热性。本发明专利技术的光学滤波器的特征在于，具有满足必要条件(a)的基材，且在所述基材的至少一个面上形成有介电质多层膜：(a)具有包含在波长900nm以上且1200nm以下的区域中具有最大吸收的有机颜料(S)的层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学滤波器及使用光学滤波器的装置
本专利技术涉及一种光学滤波器及使用光学滤波器的装置。详细而言，涉及一种包含在特定的波长区域中具有吸收的有机颜料的光学滤波器、及使用所述光学滤波器的固体摄像装置及照相机模块。
技术介绍
在摄像机(videocamera)、数字静态照相机(digitalstillcamera)、带有照相机功能的移动电话等的固体摄像装置中，一直使用作为彩色图像的固体摄像元件的电荷耦合器件(Charge-CoupledDevice，CCD)图像传感器或互补式金属氧化物半导体(ComplementaryMetal-Oxide-Semiconductor，CMOS)图像传感器。这些固体摄像元件在其受光部中使用对以人类的眼睛无法感知的近红外线具有感度的硅光电二极管(siliconphotodiode)。这些固体摄像元件中，需要进行以人眼观看而成为自然的色调的视感度修正，大多使用选择性地透射或截止特定波长区域的光线的光学滤波器(例如近红外线截止滤波器)。作为此种近红外线截止滤波器，之前以来，一直使用通过各种方法制造的近红外线截止滤波器本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学滤波器，其特征在于，具有满足下述条件(a)的基材，且在所述基材的至少一个面上形成有介电质多层膜：/n(a)具有包含在波长900nm以上且1200nm以下的区域中具有最大吸收的有机颜料(S)的层。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180227 JP 2018-0329791.一种光学滤波器，其特征在于，具有满足下述条件(a)的基材，且在所述基材的至少一个面上形成有介电质多层膜：
(a)具有包含在波长900nm以上且1200nm以下的区域中具有最大吸收的有机颜料(S)的层。


2.根据权利要求1所述的光学滤波器，其特征在于，所述基材进而满足下述条件(b)：
(b)具有包含在波长650nm以上且760nm以下的区域中具有最大吸收的化合物(A)的层。


3.根据权利要求2所述的光学滤波器，其特征在于，所述化合物(A)为选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物及花青系化合物所组成的群组中的至少一种化合物。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，所述有机颜料(S)包含由下述式(I)所表示的二亚铵系化合物：
[化1]



[式(I)中，
R1独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、羧基、磷酸基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基或下述La～Lh的任一者，R2独立地表示卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-NRgRh基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基或下述La～Lh的任一者，Rg及Rh分别独立地表示氢原子、-C(O)Ri基或下述La～Le的任一者，Ri表示下述La～Le的任一者，
(La)碳数1～12的脂肪族烃基
(Lb)碳数1～12的卤素取代烷基
(Lc)碳数3～14的脂环式烃基
(Ld)碳数6～14的芳香族烃基
(Le)碳数2～14的杂环基
(Lf)碳数1～12的烷氧基
(Lg)可具有取代基L的碳数...

【专利技术属性】
技术研发人员：茂木武志，安藤嘉彦，三井达郎，长屋胜也，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP