铜离子浓度监控系统技术方案

本实用新型专利技术的铜离子浓度监控系统至少包含：一容置槽、一工作电极、一辅助电极、一参考电极、一供电单元、一控制单元、一安培计以及一伏特计，该工作电极、该辅助电极及该参考电极配置于该容置槽内，而该伏特计连接于该工作电极与该参考电极之间，该供电单元与该工作电极以及该辅助电极电性连接，该安培计则连接于该辅助电极与该供电单元之间，而该控制单元与该供电单元电性连接，利用本实用新型专利技术的监控系统可对待测溶液进行循环伏安法，达到定量测定铜离子浓度的功效。

【技术实现步骤摘要】
铜离子浓度监控系统
本技术有关一种借由循环伏安法量测铜离子浓度的监控系统。
技术介绍
在制备液晶显示面板与印刷电路板的制程中，往往需要使用各种蚀刻溶液来进行金属材料的蚀刻。蚀刻过程中产生的金属离子会不断累积于蚀刻溶液中，当蚀刻溶液中金属离子的浓度升高到一定程度后，就会使得蚀刻溶液不堪使用，而成为蚀刻废液。目前在工业中广泛使用的蚀刻液体有酸性氯化铜蚀刻液和碱性氯化铜蚀刻液两种。酸性氯化铜蚀刻液使用氯化铜作为蚀铜剂，并使用酸性氧化系统进行蚀铜剂的再生。碱性氯化铜蚀刻液使用氯化铜与氨水络合反应所生成的二价铜氨络合物Cu(NH3)4Cl2作为蚀铜剂，并与氧气、NH4+和Cl-反应，进行蚀铜剂的再生。而随着蚀刻的进行，板件上的铜会被咬蚀而形成一价铜Cu(NH3)2Cl，因一价铜不溶于水，使二价铜的浓度随着咬时而逐渐降低，导致蚀刻速度受到影响。在本领域中，随着厂商与产业别的不同，所用的蚀刻溶液配方与可容忍的金属离子浓度都不尽相同。以国内某些薄膜电晶体液晶显示器(thinfilmtransistorliquidcrystaldisplay,T本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种铜离子浓度监控系统，其特征在于，至少包含：/n一容置槽，该容置槽配置有一流入口及一流出口；/n一工作电极、一辅助电极及一参考电极，配置于该容置槽内；/n一供电单元，与该工作电极以及该辅助电极电性连接；/n一伏特计，连接于该工作电极与该参考电极之间；/n一安培计，连接于该辅助电极与该供电单元之间；以及/n一控制单元，与该供电单元电性连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种铜离子浓度监控系统，其特征在于，至少包含：
一容置槽，该容置槽配置有一流入口及一流出口；
一工作电极、一辅助电极及一参考电极，配置于该容置槽内；
一供电单元，与该工作电极以及该辅助电极电性连接；
一伏特计，连接于该工作电极与该参考电极之间；
一安培计，连接于该辅助电极与该供电单元之间；以及
一控制单元，与该供电单元电性连接。


2.如权利要求1所述的铜离子浓度监控...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑文锋，许吉昌，孙尚培，许宏玮，
申请(专利权)人：先丰通讯股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71