本发明专利技术实施例提供一种有机发光显示器及其制造方法,涉及显示技术领域,用于在提升基于COE的OLED的透光率的同时避免影响显示效果。该有机发光显示器包括:衬底基板、设置于衬底基板的第一侧的第一电极层和像素界定层、设置于第一电极层上的电激发光层、覆盖于像素界定层和电激发光层上的第二电极层、覆盖于第二电极层上的封装层、设置于封装层上的黑矩阵和彩膜层以及设置于衬底基板的第二侧的多个指纹感光传感器;黑矩阵上开设有多个透光孔,第二电极层具有镂空区域,多个透光孔在第二电极层上的正投影均位于第二电极层的镂空区域内;多个指纹感光器件分别位于多个透光孔的正投影内。本发明专利技术实施例用于有机发光显示器的制造。
【技术实现步骤摘要】
一种有机发光显示器及其制造方法
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种有机发光显示器及其制造方法。
技术介绍
随着终端技术的发展,电子设备的屏幕尺寸越来越大,高屏占比电子设备逐渐受到用户的青睐。全面屏电子设备作为高屏占比电子设备的发展极致,实现了电子设备屏幕比例的最大化,是当前最热门的技术之一,受到广大用户的喜爱和追捧。为了在电子设备的显示面保留指纹采集模块且避免影响电子设备的屏占比,现有技术中提出了通过屏下指纹识别的方式实现指纹识别功能。相比于传统指纹识别模块,屏下指纹识别可将指纹采集模块集成在显示面板中,无需占用显示面板的显示区域,因此屏下指纹识别已成为指纹识别的一种重要实现方式。将屏下指纹识别技术应用于基于COE(CFonEL,在薄膜封装的有机电致发光器件上形成彩膜层)的有机发光显示器(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)时,由于黑矩阵(BlackMatrix,BM)、彩膜层(ColorFilter,CF)以及电极层的遮挡,基于COE的OLED的透光率非常低,无法满足屏下指纹识别对透过率的要求。现有技术中一般通过在BM上开孔,提升基于COE的OLED的透光率,然而,一方面OLED的电极层仍会影响OLED的透光率,进而影响指纹采集精度,另一方面,在BM上开孔会直接暴露出OLED的电极层,造成开孔处的反射光强度大幅提升,进而影响OLED的显示效果。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供了一种有机发光显示器及其制造方法,用于在提升基于COE的OLED的透光率的同时避免影响显示效果。为了实现上述目的,本专利技术实施例提供技术方案如下:第一方面,本专利技术实施例提供一种有机发光显示器,包括:衬底基板、设置于所述衬底基板的第一侧的第一电极层和像素界定层、设置于所述第一电极层上的电激发光层、覆盖于所述像素界定层和电激发光层上的第二电极层、覆盖于第二电极层上的封装层、设置于所述封装层上的黑矩阵和彩膜层以及设置于所述衬底基板的第二侧的多个指纹感光传感器;所述黑矩阵上开设有多个透光孔,所述第二电极层具有镂空区域,所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极的镂空区域内;所述多个指纹感光器件分别位于所述多个透光孔的正投影内。作为本专利技术实施例一种可选的实施方式,制作所述第二电极层的材料为改性复合材料;所述有机发光显示器还包括:弱键合层,所述弱键合层的图案与所述第二电极层的镂空区域互补,且位于所述像素界定层上。作为本专利技术实施例一种可选的实施方式,所述第一电极层具有镂空区域,所述多个透光孔在所述第一电极层上的正投影均位于所述第一电极层的镂空区域内。作为本专利技术实施例一种可选的实施方式,所述有机发光显示器还包括:覆盖层,所述覆盖层覆盖于所述黑矩阵和彩膜层上。作为本专利技术实施例一种可选的实施方式,所述第一电极层由遮光且导电材料制作。作为本专利技术实施例一种可选的实施方式,所述彩膜层包括:以所述黑矩阵为间隔,阵列排布的红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片。第二方面,本专利技术实施例提供一种有机发光显示器的制造方法,包括:依次在衬底基板的第一侧制作第一电极层、像素界定层以及电激发光层;制作覆盖所述像素界定层和所述电激发光层的第二电极层,所述第二电极层具有镂空区域;对所述衬底基板的第一侧进行封装,形成封装层;在所述封装层上涂覆开设有多个透光孔的黑矩阵,且设置所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极层的镂空区域内;在所述封装层上制作彩膜层;在所述衬底基板的第二侧制作多个指纹感光传感器,且使所述多个指纹感光器件分别位于所述多个透光孔的正投影内。作为本专利技术实施例一种可选的实施方式,所述制作覆盖所述像素界定层和所述电激发光层的第二电极层,包括:通过蒸镀弱键合材料,在所述像素界定层上形成与所述第二电极层的镂空区域互补的弱键合层;通过蒸镀改性复合材料,在所述弱键合层以外的其它区域内形成所述第二电极层。作为本专利技术实施例一种可选的实施方式,在所述封装层上制作彩膜层之后,所述方法还包括:制作覆盖所述彩膜层和所述黑矩阵的覆盖层。作为本专利技术实施例一种可选的实施方式,所述依次在衬底基板的第一侧制作第一电极层、像素界定层以及电激发光层,包括:通过蒸镀遮光且导电材料在有效显示区域内形成所述第一电极层;在所述衬底基板的第一侧的像素界定区域内形成所述像素界定层;在所述第一电极层上形成所述电激发光层。本专利技术实施例提供的有机发光显示器包括:衬底基板、设置于所述衬底基板的第一侧的第一电极层和像素界定层、设置于所述第一电极层上的电激发光层、覆盖于所述像素界定层和电激发光层上的第二电极层、覆盖于第二电极层上的封装层、设置于所述封装层上的黑矩阵和彩膜层以及设置于所述衬底基板的第二侧的多个指纹感光传感器。其中,所述黑矩阵上开设有多个透光孔,所述第二电极层具有镂空区域,所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极的镂空区域内;所述多个指纹感光器件分别位于所述多个透光孔的正投影内。一方面,由于第二电极层具有镂空区域,且黑矩阵上开设的多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极层的镂空区域内,指纹反射的光线不会受到黑矩阵和第二电极层的的遮挡,因此本专利技术实施例可以提升基于COE的OLED的透光率。另一方面,由于黑矩阵上开设的多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极层的镂空区域内,第二电极层不会反射透光孔透射的光线,因此本专利技术实施例还可以避免透光孔处的反射光强度大幅提升。综上分析,本专利技术实施例可以在提升基于COE的OLED的透光率的同时避免影响显示效果。附图说明通过阅读下文优选实施方式的详细描述,各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的,而并不认为是对本专利技术的限制。而且在整个附图中,用相同的参考符号表示相同的部件。图1为本专利技术实施例提供的有机发光显示器的剖视图之一;图2为本专利技术实施例提供的有机发光显示器的工作原理图;图3为本专利技术实施例提供的有机发光显示器的剖视图之二;图4为本专利技术实施例提供的第二电极层的俯视图;图5为本专利技术实施例提供的弱键合层的俯视图;图6为本专利技术实施例提供的第一电极层的俯视图;图7为本专利技术实施例提供的有机发光显示器的剖视图之三;图8为本专利技术实施例提供的黑矩阵和彩膜层的俯视图;图9为本专利技术实施例提供的有机发光显示器的制造方法的步骤流程图;图10为本专利技术实施例提供的层结构示意图之一;图11为本专利技术实施例提供的层结构示意图之二;图12为本专利技术实施例提供的层结构示意图之三;图13为本专利技术实施例提供的层结构示意图之四;图14为本专利技术实施例提供的层结构示意图之五;图15为本专利技术实施例提供的层结构示意图之六;图16本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种有机发光显示器,其特征在于,包括:/n衬底基板、设置于所述衬底基板的第一侧的第一电极层和像素界定层、设置于所述第一电极层上的电激发光层、覆盖于所述像素界定层和电激发光层上的第二电极层、覆盖于第二电极层上的封装层、设置于所述封装层上的黑矩阵和彩膜层以及设置于所述衬底基板的第二侧的多个指纹感光传感器;/n所述黑矩阵上开设有多个透光孔,所述第二电极层具有镂空区域,所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极的镂空区域内;所述多个指纹感光器件分别位于所述多个透光孔的正投影内。/n
【技术特征摘要】
1.一种有机发光显示器,其特征在于,包括:
衬底基板、设置于所述衬底基板的第一侧的第一电极层和像素界定层、设置于所述第一电极层上的电激发光层、覆盖于所述像素界定层和电激发光层上的第二电极层、覆盖于第二电极层上的封装层、设置于所述封装层上的黑矩阵和彩膜层以及设置于所述衬底基板的第二侧的多个指纹感光传感器;
所述黑矩阵上开设有多个透光孔,所述第二电极层具有镂空区域,所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极的镂空区域内;所述多个指纹感光器件分别位于所述多个透光孔的正投影内。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示器,其特征在于,
制作所述第二电极层的材料为改性复合材料;
所述有机发光显示器还包括:弱键合层,所述弱键合层的图案与所述第二电极层的镂空区域互补,且位于所述像素界定层上。
3.根据权利要求1所述的有机发光显示器,其特征在于,所述第一电极层具有镂空区域,所述多个透光孔在所述第一电极层上的正投影均位于所述第一电极层的镂空区域内。
4.根据权利要求1-3任一项所述的有机发光显示器,其特征在于,所述有机发光显示器还包括:
覆盖层,所述覆盖层覆盖于所述黑矩阵和彩膜层上。
5.根据权利要求1-3任一项所述的有机发光显示器,其特征在于,所述第一电极层由遮光且导电材料制作。
6.根据权利要求1-3任一项所述的有机发光显示器,其特征在于,所述彩膜层包括:以所述黑矩阵为间隔,阵列排布的红色滤光片、绿色滤光...
【专利技术属性】
技术研发人员:高洪成,黄傲,黄灿,鲍建东,王计伟,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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