具有喷泉射流排水装置的盥洗台布置结构制造方法及图纸

技术编号:25631622 阅读:33 留言:0更新日期:2020-09-15 21:25
本发明专利技术涉及一种盥洗台布置结构,该盥洗台布置结构包括具有盥洗盆水槽(2)的盥洗台(1)和排水装置(3),该盥洗台被构造成用于以由单独射流组成的喷泉射流的形式排水,并且包括多个排水喷嘴(4),这些排水喷嘴被布置在盥洗盆水槽中,以用于沿从盥洗盆水槽倾斜向上并再次回到盥洗盆水槽的相关联的单独射流方向排出单独射流。根据本发明专利技术,排水喷嘴(4)布置在带型喷嘴分配区域(6)内,该带型喷嘴分配区域(6)具有沿水槽周向方向延伸的带长度(D

【技术实现步骤摘要】
具有喷泉射流排水装置的盥洗台布置结构
本专利技术涉及一种盥洗台布置结构,该盥洗台布置结构包括盥洗台,该盥洗台具有盥洗盆水槽和排水装置,排水装置被构造成用于以由单独射流组成的喷泉射流的形式排出水,并且该排水装置具有多个排水喷嘴,所述多个排水喷嘴被布置在盥洗盆中,以用于沿从盥洗盆水槽向上倾斜地流出并再次返回到盥洗盆水槽的相关联的单独射流方向排出单独射流。
技术介绍
盥洗台布置结构可例如用作浴室等中的盥洗场所,在盥洗场所处,用户可以盥洗或执行各种其他身体护理动作。虽然盥洗台布置结构在大多数情况下具有卫浴出口配件,卫浴出口配件具有在作为唯一排水装置的盥洗盆水槽上方终止的出口管,但是在当前的盥洗台布置结构中,排水装置被构造成排出特定的喷泉射流。在专利公开US7.155.759B2和US7.461.419B2中公开了一种在引言中提到的类型的盥洗台布置结构。在其中的盥洗台布置结构中,排水喷嘴借助于盥洗盆水槽中的排水开口形成,排水开口以优选地不规则的图案布置在整个水槽上,或者在任何情况下在水槽的整个圆周上布置在水槽的上部区域中。排水喷嘴全部都定向成使它本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种盥洗台布置结构,包括/n-具有盥洗盆水槽(2)的盥洗台(1),以及/n-排水装置(3),其被构造成用于以由单独射流组成的喷泉射流的形式排出水,并且包括多个排水喷嘴(4),所述多个排水喷嘴布置在盥洗盆水槽中,以用于沿从所述盥洗盆水槽倾斜地向上流出并再次回到所述盥洗盆水槽的相关联的单独射流方向排出所述单独射流,/n其特征在于/n-所述排水喷嘴(4)布置在带型喷嘴分配区域(6)内,所述带型喷嘴分配区域(6)具有沿水槽周向方向延伸的带长度(D

【技术特征摘要】
20190308 DE 102019203164.11.一种盥洗台布置结构,包括
-具有盥洗盆水槽(2)的盥洗台(1),以及
-排水装置(3),其被构造成用于以由单独射流组成的喷泉射流的形式排出水,并且包括多个排水喷嘴(4),所述多个排水喷嘴布置在盥洗盆水槽中,以用于沿从所述盥洗盆水槽倾斜地向上流出并再次回到所述盥洗盆水槽的相关联的单独射流方向排出所述单独射流,
其特征在于
-所述排水喷嘴(4)布置在带型喷嘴分配区域(6)内,所述带型喷嘴分配区域(6)具有沿水槽周向方向延伸的带长度(DL)和与其垂直的带高度(DH),其中,其带长度大于其带宽度,并且其中,其带长度最多跨所述水槽圆周的一半延伸。


2.根据权利要求1所述的盥洗台布置结构,其特征还在于,所述带型喷嘴分配区域以其带长度(DL)最多跨所述水槽圆周的四分之一延伸。


3.根据权利要求1或2所述的盥洗台布置结构,其特征还在于,所述喷嘴分配区域内的所述排水喷嘴布置成至少两个喷嘴排(71,72),其中,相应喷嘴排的所述排水喷嘴布置成沿水槽周向方向相对于相应相邻喷嘴排的所述排水喷嘴偏移。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的盥洗台布置结构,其特征还在于,所述喷嘴分配区域位于所述盥洗盆水槽的背对用户侧的后侧半部(2a)中。


5.根据权利要求4所述的盥洗台布置结构,其特征还在于,所述盥洗盆水槽在面向所述用户侧的前侧半部(2b)中具有排水件(10),其中,所述盥洗盆水槽的喷泉射流冲击区(FA)位于所述排水件的面向...

【专利技术属性】
技术研发人员:S安布鲁斯特M比尔格A迈斯纳
申请(专利权)人:汉斯格罗欧洲公司
类型:发明
国别省市:德国;DE

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1