【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及显示设备的制造方法
本专利技术涉及蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及显示设备的制造方法。
技术介绍
如专利文献1所记载，有机EL显示装置中，在各像素中图案形成发光层的情况下，使用蒸镀掩膜。蒸镀掩膜是片状的掩模片以拉伸的状态固定于坚固的框状的框架即掩膜框架上，该片状的掩膜片上图案形成有用于蒸镀蒸镀层的蒸镀孔。此外，掩膜片上形成有蒸镀孔，因此，要求掩膜框架的安装位置的精度。因此，首先对掩膜框架安装具有对准标记的对准片，将该对准标记作为定位基准，将掩膜片安装在掩膜框架上。现有技术文献专利文献日本公开专利公报“特开2010-135269号”
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题近年来，显示领域的像素的清晰度变得越来越高，对蒸镀层的成膜精度的要求很高。因此，要求掩膜片的薄膜化。这里，掩膜片和对准片被设置在掩膜框架的同一面上。因此，掩膜片和对准片中，如果只对掩膜片进行薄膜化，则被蒸镀基板和对准片接触时，被蒸镀基板和对...
【技术保护点】
1.一种在蒸镀时被配置在蒸镀源和被蒸镀基板之间的蒸镀掩膜，其特征在于，具有：/n掩膜框架，其为具有掩膜开口的框状，并具有第一面和第二面作为两主面，其中，在所述蒸镀时，所述第一面靠近所述被蒸镀基板侧，所述第二面为与所述第一面的相反侧且靠近所述蒸镀源侧；/n掩膜片，其并排形成有多个与所述被蒸镀基板的多个发光颜色的像素图案中的、任意发光颜色的像素图案相对应的蒸镀孔；以及/n对准片，其形成有对准标记，所述对准标记是将所述掩膜片安装于所述掩膜框架时的定位基准，/n所述掩膜片和所述对准片并排配置在所述掩膜框架的所述第一面上，/n所述掩膜片设置在所述掩膜框架的所述第一面的顶表面，/n所述...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种在蒸镀时被配置在蒸镀源和被蒸镀基板之间的蒸镀掩膜，其特征在于，具有：
掩膜框架，其为具有掩膜开口的框状，并具有第一面和第二面作为两主面，其中，在所述蒸镀时，所述第一面靠近所述被蒸镀基板侧，所述第二面为与所述第一面的相反侧且靠近所述蒸镀源侧；
掩膜片，其并排形成有多个与所述被蒸镀基板的多个发光颜色的像素图案中的、任意发光颜色的像素图案相对应的蒸镀孔；以及
对准片，其形成有对准标记，所述对准标记是将所述掩膜片安装于所述掩膜框架时的定位基准，
所述掩膜片和所述对准片并排配置在所述掩膜框架的所述第一面上，
所述掩膜片设置在所述掩膜框架的所述第一面的顶表面，
所述对准片设置在所述掩膜框架的所述第一面的、从所述顶表面凹陷的凹部。
2.如权利要求1所述的蒸镀掩膜，其特征在于，
在所述掩膜框架的第一面上以相互交叉的方式还安装有多个盖片和多个牵引片，所述多个盖片和所述多个牵引片分别设置在所述掩膜框架的所述第一面的、从所述顶表面凹陷的槽内，所述掩膜框架中的、形成有槽的区域的厚度，比形成有所述凹部的区域的厚度更薄，其中，所述槽上设置有所述多个盖片及所述多个牵引片，所述凹部上设置有所述对准片。
3.如权利要求2所述的蒸镀掩膜，其特征在于，
在所述掩膜框架中的、形成有设置所述盖片的所述槽的区域的厚度和形成有设置所述牵引片的所述槽的区域的厚度中，形成有设有如下所述的片材的槽的区域的厚度更薄，即所述片材是配置于所述盖片及所述牵引片中的、远离所述掩膜片的一侧。
4.一种蒸镀掩膜的制造方法，所述蒸镀掩膜在蒸镀时被配置在蒸镀源和被蒸镀基板之间，其特征在于，所述制造方法具有：
对准片安装工序，在作为两主面具有第一面和第二面的掩膜框架中的、从所述第一面的顶表面凹陷的凹部上安装设置有对准标记的对准片，其中，所述掩膜框架为具有掩膜开口的框状，在蒸镀时，所述第一面靠近所述被蒸镀基板侧，所述第二面为与所述第一面相反侧且靠近所述蒸镀源侧；以及
掩膜片安装工序，将安装在所述掩膜框架上的所述对准片的所述对准标记作为基准，以与所述对准片并排的方式将掩膜片安装至所述掩膜框架中的、所述第一面的顶表面上，其中，所述掩膜片并排形成有多个与所述被蒸镀...
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