涂覆组合物制造技术

技术编号:25607831 阅读:36 留言:0更新日期:2020-09-12 00:03
本申请涉及涂覆组合物、使用其的用于制造基底的方法、和光学装置。本申请可以提供通过使用其中纳米颗粒和间隔物分散在配向膜中的单层以减少工艺和成本的用于制造具有优异性能的基底的方法,以及通过这样的方法制造的光学装置,所述基底为在其表面上固定有间隔物的基底。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂覆组合物
本申请涉及涂覆组合物、用于使用其制造基底的方法、和光学装置。本申请要求基于在2018年1月30日提交的韩国专利申请第10-2018-0011163号的优先权权益,其公开内容通过引用整体并入本文。
技术介绍
已知能够通过在基底之间设置光调制层来调节透光率或颜色等的光学装置。例如,在专利文献1(欧洲专利公开第0022311号)中已经公开了应用液晶主体和二色性染料客体的混合物的所谓的GH单元(guesthostcell,宾主单元)。这样的光学装置一般包括彼此相对设置的两层基底和存在于基底之间的光调制层,并且也包括用于保持基底之间的间隙的间隔物。间隔物典型地包括所谓的柱状间隔物和球形间隔物,并且在使用球形间隔物的情况下,也已知其中球形间隔物被固定在配向膜中的结构。这样的间隔物也被称为所谓的固定间隔物。当光学装置使用柔性基底制造时,这样的结构特别有用,因为可以保持均匀的单元间隙,而不会引起当基底弯曲时球形间隔物移动或聚集的现象。因此,间隔物的适当分散不仅对于保持均匀的单元间隙是必需的,而且还可以抑制雾度的产生。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂覆组合物,包含用于形成配向膜的物质;间隔物;和纳米颗粒,/n其中所述间隔物的密度小于所述纳米颗粒的密度,以及/n所述纳米颗粒的密度在1.5g/cm

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180130 KR 10-2018-00111631.一种涂覆组合物,包含用于形成配向膜的物质;间隔物;和纳米颗粒,
其中所述间隔物的密度小于所述纳米颗粒的密度,以及
所述纳米颗粒的密度在1.5g/cm3至10g/cm3的范围内。


2.根据权利要求1所述的涂覆组合物,其中所述用于形成配向膜的物质为用于形成摩擦配向膜的物质或用于形成光配向膜的物质。


3.根据权利要求1所述的涂覆组合物,其中所述用于形成配向膜的物质包含选自以下中的一种或更多种:聚酰亚胺化合物、聚(乙烯醇)化合物、聚(酰胺酸)化合物、聚苯乙烯化合物、聚酰胺化合物、聚氧乙烯化合物、聚降冰片烯化合物、苯基马来酰亚胺共聚物化合物、聚乙烯基肉桂酸酯化合物、聚偶氮苯化合物、聚乙烯酰亚胺化合物、聚乙烯化合物、聚苯乙烯化合物、聚亚苯基邻苯二甲酰胺化合物、聚酯化合物、CMPI(氯甲基化聚酰亚胺)化合物、PVCI(聚乙烯基肉桂酸酯)化合物和聚甲基丙烯酸甲酯化合物。


4.根据权利要求1所述的涂覆组合物,其中所述用于形成配向膜的物质的比例为0.1重量%至10重量%。


5.根据权利要求1所述的涂覆组合物,其中所述间隔物的D50粒径为1μm或更大。


6.根据权利要求1所述的涂覆组合物,其中所述间隔物的密度在1g/cm3至5g/cm3的范围内。


7.根据权利要求1所述的涂覆组合物,其中所述间隔物的密度(A)与所述纳米颗粒的密度(B)的比率(B/A)在1.5至10的范围内。


8.根据权利要求1所述的涂覆组合物,其中相对于100重量份的所...

【专利技术属性】
技术研发人员:李玹准柳正善吴东炫林恩政
申请(专利权)人:株式会社LG化学
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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