显示面板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示面板，所述显示面板包括驱动电路、阵列基板和扇出走线结构，所述扇出走线结构包括若干扇出走线，每一所述扇出走线用于电性连接所述驱动电路与所述阵列基板中的金属线，所有的所述扇出走线的长度相等。本发明专利技术的显示面板包括驱动电路、阵列基板和扇出走线结构，扇出走线结构包括若干扇出走线，每一扇出走线用于电性连接驱动电路与阵列基板中的金属线，由于扇出走线结构中所有的扇出走线的长度相等，因此所有的扇出走线的阻抗相同，从而能够提高显示面板的显示画质。本发明专利技术还提供该显示面板的制作方法及具有该显示面板的显示装置。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
液晶显示(LiquidCrystalDisplay，LCD)面板等平面显示装置因具有高显示画质、省电和机身薄等优点被广泛的应用于手机、电视、数码相机、笔记本电脑和台式计算机等各种消费性电子产品中，成为了显示装置中的主流产品。LCD面板中的阵列基板通常为低温多晶硅(LowTemperaturePoly-Silicon，LTPS)阵列基板，为了降低LTPS阵列基板的生产周期和成本，目前通常使用8Mask工艺技术制作LTPS阵列基板。然而，使用8Mask工艺技术制作LTPS阵列基板的过程中，LTPS阵列基板中的各条金属线，例如触控线、扫描线和数据线在扇出区均采用拉直线的方式与对应的驱动电路电性连接，这种方式会导致同一驱动电路电性连接的各条金属线在扇出区的部分的阻抗存在较大差异，加上使用8Mask工艺技术制作得到的LTPS阵列基板中的数据线与公共电极层之间的电容增大过大，两者共同作用导致液晶显示面板的显示画质不良。
技术实现思路
因此，有必要提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，用以解决现有的显示面板显示画质不良的问题。第一方面，本专利技术的实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括驱动电路、阵列基板和扇出走线结构，所述扇出走线结构包括若干扇出走线，每一所述扇出走线用于电性连接所述驱动电路与所述阵列基板中的金属线，所有的所述扇出走线的长度相等。在一些实施例中，不同的所述扇出走线的形状相同或不同。在一些实施例中，所述扇出走线的形状为螺旋形、波浪形、Z形和T形中的任意一种或多种的组合。在一些实施例中，所述阵列基板包括：衬底基板；遮光层，所述遮光层设于所述衬底基板上；缓冲层，所述缓冲层设于所述衬底基板上，且覆盖所述遮光层；有源层，所述有源层设于所述缓冲层上；栅极绝缘层，所述栅极绝缘层设于所述缓冲层上，且覆盖所述有源层；栅极层，所述栅极层设于所述栅极绝缘层上，所述栅极层包括栅极和与所述栅极一体的扫描线；层间介质层，所述层间介质层设于所述栅极绝缘层上，且覆盖所述栅极层；源漏极层，所述源漏极层设于所述层间介质层上，所述源漏极层包括源极、与所述源极一体的数据线、漏极和触控线；无机绝缘层，所述无机绝缘层设于所述层间介质层上，且覆盖所述源漏极层；公共电极层，所述公共电极层设于所述无机绝缘层上；钝化层，所述钝化层设于无机绝缘层上，且覆盖公共电极层；像素电极层，所述像素电极层设于所述钝化层上。在一些实施例中，所述阵列基板还包括：第一过孔，所述第一过孔形成于所述层间介质层和所述栅极绝缘层中，且位于所述有源层上，所述源极通过所述第一过孔与所述有源层连接；第二过孔，所述第二过孔形成于所述层间介质层和所述栅极绝缘层中，且位于所述有源层上，所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层连接。在一些实施例中，所述阵列基板还包括：第三过孔，所述第三过孔形成于所述钝化层、所述公共电极层和所述无机绝缘层中，且位于所述触控线上，所述像素电极层通过所述第三过孔与所述触控线连接；第四过孔，所述第四过孔形成于所述钝化层中，且位于所述公共电极层上，所述像素电极层通过所述第四过孔与所述公共电极层连接；第五过孔，所述第五过孔形成于所述钝化层、所述公共电极层和所述无机绝缘层中，且位于所述漏极上，所述像素电极层通过所述第五过孔与所述漏极连接。在一些实施例中，所述无机绝缘层的制备材料包括氮化硅和/或氧化硅。在一些实施例中，所述阵列基板为低温多晶硅阵列基板。第二方面，本专利技术的实施例提供一种显示面板的制作方法，所述显示面板的制作方法包括以下步骤：制作阵列基板、驱动电路和扇出走线结构，其中，所述扇出走线结构包括若干扇出走线；将每一所述扇出走线的两端分别与所述驱动电路和所述阵列基板中的金属线连接，其中，所有的所述扇出走线的长度相等。第三方面，本专利技术的实施例提供一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示面板。本专利技术的显示面板包括驱动电路、阵列基板和扇出走线结构，扇出走线结构包括若干扇出走线，每一扇出走线用于电性连接驱动电路与阵列基板中的金属线，由于扇出走线结构中所有的扇出走线的长度相等，因此所有的扇出走线的阻抗相同，从而能够提高显示面板的显示画质。当该显示面板应用于显示装置中时，能够提高显示装置的显示画质。附图说明为了更清楚地说明本专利技术的实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术的实施例提供的显示面板的结构示意图。图2为本专利技术的实施例提供的扇出走线的形状示意图。图3为本专利技术的实施例提供的阵列基板的膜层示意图。图4为本专利技术的实施例提供的阵列基板的制作方法的流程图。图5为图4中所示的方法在步骤S1完成后的结构示意图。图6为图4中所示的方法在步骤S2完成后的结构示意图。图7为图4中所示的方法在步骤S3完成后的结构示意图。图8为图4中所示的方法在步骤S4完成后的结构示意图。图9为图4中所示的方法在步骤S5完成后的结构示意图。图10为图4中所示的方法在步骤S6完成后的结构示意图。图11为图4中所示的方法在步骤S7完成后的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术的实施例中的附图，对本专利技术的实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。图1为本专利技术的实施例提供的显示面板的结构示意图，如图1所示，显示面板包括驱动电路20、阵列基板30和扇出走线结构10。其中，扇出走线结构10包括若干扇出走线100，每一扇出走线100用于电性连接驱动电路20与阵列基板30中的金属线300。驱动电路20用于向与自身电性连接的每一扇出走线100提供驱动信号，以使驱动信号通过扇出走线100传输至与扇出走线100电性连接的金属线300中。驱动电路20可以为栅极驱动电路或源极驱动电路，金属线300可以为扫描线、数据线或触控线。需要说明的是，图1中所示的驱动电路20为栅极驱动电路，金属线300为扫描线。扇出走线结构10中所有的扇出走线100的长度相等。可以理解的是，由于扇出走线结构10中所有的扇出走线300的长度相等，因此所有的扇出走线300的阻抗相同，从而能够提高显示面板的显示画质。进一步地，不同的扇出走线100的形状相同或不同。进一步地，任一扇出走线100的形状为螺旋形本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，所述显示面板包括驱动电路、阵列基板和扇出走线结构，所述扇出走线结构包括若干扇出走线，每一所述扇出走线用于电性连接所述驱动电路与所述阵列基板中的金属线，其特征在于，所有的所述扇出走线的长度相等。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，所述显示面板包括驱动电路、阵列基板和扇出走线结构，所述扇出走线结构包括若干扇出走线，每一所述扇出走线用于电性连接所述驱动电路与所述阵列基板中的金属线，其特征在于，所有的所述扇出走线的长度相等。


2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，不同的所述扇出走线的形状相同或不同。


3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述扇出走线的形状为螺旋形、波浪形、Z形和T形中的任意一种或多种的组合。


4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括：
衬底基板；
遮光层，所述遮光层设于所述衬底基板上；
缓冲层，所述缓冲层设于所述衬底基板上，且覆盖所述遮光层；
有源层，所述有源层设于所述缓冲层上；
栅极绝缘层，所述栅极绝缘层设于所述缓冲层上，且覆盖所述有源层；
栅极层，所述栅极层设于所述栅极绝缘层上，所述栅极层包括栅极和与所述栅极一体的扫描线；
层间介质层，所述层间介质层设于所述栅极绝缘层上，且覆盖所述栅极层；
源漏极层，所述源漏极层设于所述层间介质层上，所述源漏极层包括源极、与所述源极一体的数据线、漏极和触控线；
无机绝缘层，所述无机绝缘层设于所述层间介质层上，且覆盖所述源漏极层；
公共电极层，所述公共电极层设于所述无机绝缘层上；
钝化层，所述钝化层设于无机绝缘层上，且覆盖公共电极层；
像素电极层，所述像素电极层设于所述钝化层上。


5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括：

【专利技术属性】
技术研发人员：宋德伟，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42