一种高维量子纠缠光源光学系统技术方案

本申请公开一种高维量子纠缠光源光学系统，包括：泵浦激光源；微观透镜阵列，位于所述泵浦激光源的出光侧；非线性晶体，贴附在所述微观透镜阵列远离所述泵浦激光源的一侧；所述微观透镜阵列和所述非线性晶体相互平行；所述泵浦激光源为连续泵浦激光源；所述泵浦激光源出射光的相干长度大于所述微观透镜阵列的对角线长度。以解决传统制备量子纠缠态的光学系统尺寸较大，导致系统容易受到外界振动和扰动的影响，造成系统不够稳定和通用性差的问题，以及传统的制备量子纠缠态的光学系统无法实现对光场有效控制的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种高维量子纠缠光源光学系统本申请要求在2020年5月11日提交中国专利局、申请号为202010390372.5、专利技术名称为“一种高维量子纠缠光源光学系统”的中国专利申请的优先权，其全部内容通过引用结合在本申请中。
本申请涉及量子纠缠
，具体的涉及一种高维量子纠缠光源光学系统。
技术介绍
量子信息技术已经成为21世纪最活跃、最重要的科学研究领域之一。由于在众多量子系统中，相比于超导和原子系统复杂的相互作用和控制时序，光子系统易于编码，并具有可以在多个自由维度上进行操作的优势，因此以光子为基础的量子光学在量子信息技术的研究中具有可观的前景。在量子光学的众多的研究方向中，实现并有效操控高维度量子纠缠一直是该领域的核心所在。高维纠缠的量子系统可以为量子计算和模拟提供更多的资源和能力；可以增强对贝尔不等式和EPR(Einstein-Podolsky-Rosen)不等式的违背；在量子通讯中具备更大的容量和更强的抗干扰能力。但是，传统的制备量子纠缠光源光学系统存在系统尺寸较大的问题，系统尺寸较大则会导致系统容易受到外界环境的振动和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，包括：/n泵浦激光源(1)；/n微观透镜阵列(2)，位于所述泵浦激光源(1)的出光侧；/n非线性晶体(3)，贴附在所述微观透镜阵列(2)远离所述泵浦激光源(1)的一侧；/n所述微观透镜阵列(2)和所述非线性晶体(3)相互平行；所述泵浦激光源(1)为连续泵浦激光源；所述泵浦激光源(1)出射光的相干长度大于所述微观透镜阵列(2)的对角线长度。/n

【技术特征摘要】
20200511 CN 20201039037251.一种高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，包括：
泵浦激光源(1)；
微观透镜阵列(2)，位于所述泵浦激光源(1)的出光侧；
非线性晶体(3)，贴附在所述微观透镜阵列(2)远离所述泵浦激光源(1)的一侧；
所述微观透镜阵列(2)和所述非线性晶体(3)相互平行；所述泵浦激光源(1)为连续泵浦激光源；所述泵浦激光源(1)出射光的相干长度大于所述微观透镜阵列(2)的对角线长度。


2.根据权利要求1所述的高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，还包括半波片(4)，所述半波片(4)位于所述泵浦激光源(1)与所述微观透镜阵列(2)之间，且所述泵浦激光源(1)的出射光垂直入射在所述半波片(4)上；所述半波片(4)分别与所述微观透镜阵列(2)和所述非线性晶体(3)平行。


3.根据权利要求2所述的高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，还包括整形透镜(5)，所述整形透镜(5)位于所述半波片(4)和所述微观透镜阵列(2)之间。


4.根据权利要求2所述的高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，所述微观透镜阵列(2)包括呈m×n阵列排布的多个微观透镜(21),其中m和n的乘积是大于1的正整数。


5.根据权利要求4所述的高维量子纠缠光源光学系统，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王漱明，李林，王振林，祝世宁，
申请(专利权)人：南京大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32