显示面板及其制备方法技术

本申请公开了显示面板及其制备方法，该显示面板包括：阵列基板，阵列基板的上方凸设有第一凸起；彩膜基板，彩膜基板与阵列基板相对设置；支撑结构，支撑结构设置在阵列基板与彩膜基板之间，支撑结构的一端与彩膜基板的侧面连接，支撑结构的另一端支撑在阵列基板的侧面，第一凸起嵌入支撑结构内。本发明专利技术提供的显示面板，通过在显示面板的阵列基板上靠近彩膜基板的一侧制备形成一凸起，使得与彩膜基板相连的支撑结构在彩膜基板和阵列基板对位贴合时，该凸起能够嵌入支撑结构中，避免支撑结构滑动，产生错位风险，引起显示面板显示异常。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法
本申请涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用，成为显示装置中的主流。特别是LTPS低温多晶硅显示技术，可以改善面板亮点和高分辨率，降低面板功耗，从而获得更好的视觉体验。为了降低低温多晶硅阵列基板的生产成本和周期，我们提出了8掩膜版(Mask)工艺技术，制备具有内嵌式触控技术(InCellTouch)功能的低温多晶硅阵列基板。而在工艺开发过程中，彩膜基板贴合时，支撑柱(photospace，ps)站位需要站在源漏极金属层的金属走线上，由于8mask工艺省略了平坦化层(Plana-rizatio，PLN)导致后续的阵列基板表面凹凸不平，源漏极金属层的金属走线的位置更加突出明显，支撑柱站在源漏极金属层上后容易产生滑动错位风险，导致聚酰亚胺膜层等相关膜层受损，引起显示面板显示异常。
技术实现思路
本申请提出一种显示面板及其制备方法，旨在改变现有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：/n阵列基板，所述阵列基板的上方凸设有第一凸起；/n彩膜基板，所述彩膜基板与所述阵列基板相对设置；/n支撑结构，所述支撑结构设置在所述阵列基板与所述彩膜基板之间，所述支撑结构的一端与所述彩膜基板的侧面连接，所述支撑结构的另一端支撑在所述阵列基板的侧面，并与所述第一凸起抵接。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：
阵列基板，所述阵列基板的上方凸设有第一凸起；
彩膜基板，所述彩膜基板与所述阵列基板相对设置；
支撑结构，所述支撑结构设置在所述阵列基板与所述彩膜基板之间，所述支撑结构的一端与所述彩膜基板的侧面连接，所述支撑结构的另一端支撑在所述阵列基板的侧面，并与所述第一凸起抵接。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括：
玻璃基板；
缓冲层，所述缓冲层制备在所述玻璃基板的上方；
薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层制备在所述缓冲层的上方；
钝化层，所述钝化层制备在所述薄膜晶体管层的上方，所述第一凸起凸设于所述钝化层上。


3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管层包括：
有源层；
栅极绝缘层，所述栅极绝缘层制备在所述有源层的上方；
栅极层，所述栅极层制备在所述栅极绝缘层的上方；
层间介电层，所述层间介电层制备在所述栅极层的上方；
源漏极层，所述源漏极层制备在所述层间介电层的上方。


4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述源漏极上形成第二凸起，所述钝化层覆盖在所述源漏极层上，以使所述钝化层上对应所述第二凸起的位置形成所述第一凸起。


5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述栅极层包括栅极线和第三凸起，所述源漏极层覆盖在所述第三凸起上...

【专利技术属性】
技术研发人员：艾飞，宋德伟，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42