一种实现变焦及光路整形的系统技术方案

本发明专利技术提供了一种实现变焦及光路整形的系统，其包括机架、激光器、第一反射组件、光路整形组件、第二反射组件、变焦组件及出光组件，其中激光器设置在机架上，第一反射组件间隔设置在激光器的出光端，光路整形组件设置在激光器一侧且位于第一反射组件的出光端，第二反射组件设置在激光器一侧且位于光路整形组件的出光端，变焦组件设置在激光器一侧且位于第二反射组件的出光端，出光组件设置在激光器一侧且位于变焦组件的出光端，激光器射出激光依次经由第一反射组件、光路整形组件、第二反射组件及变焦组件至出光组件。本发明专利技术一方面可以提升加工效率，另一方面可实现对厚度不均匀的材料的精密加工，同时该系统又具有调节简单、灵活度高的特性。

【技术实现步骤摘要】
一种实现变焦及光路整形的系统
本专利技术涉及光路整形，尤其是指一种实现变焦及光路整形的系统。
技术介绍
传统的激光加工是采用高斯光束对材料进行微加工的，而由于高斯光束的激光能量分布呈高斯形式，即光斑中间的能量密度远高于边缘的能量密度，所以高斯光束所形成的这种光斑在某些激光加工中存在弊端，比如太阳能晶硅电池掺杂工艺及半导体解键合工艺。在太阳能晶硅电池掺杂工艺中，激光掺杂工艺主要运用激光的局域热效应，使得掺杂原子被激活并扩散至硅基底里面形成重掺杂区域，从而带来非掺杂区域高方阻和掺杂区域良好的欧姆接触平衡，可显著地提高晶硅电池的转换效率。但是由于激光掺杂工艺采用高斯光束，所以在激光能量密度合适的区域发生掺杂元素激活和扩散，形成了需要的结型；在激光能量密度过高区域发生物相变化，损坏了原来的材料结构，引入了新的复合中心，一方面降低了电池的转换效率，另一方面带来了加工效率低、加工粗糙的问题。在半导体解键合工艺中，需要加工多层膜结构中的特定层，需要把聚焦的激光光斑范围内的激光能量密度控制在一个合适的范围内，而且由于材料幅面比较大，材料平整度不本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种实现变焦及光路整形的系统，其特征在于，包括：机架、激光器、第一反射组件、光路整形组件、第二反射组件、变焦组件及出光组件，所述激光器设置在机架上，所述第一反射组件间隔设置在激光器的出光端，所述光路整形组件设置在激光器一侧且位于第一反射组件的出光端，所述第二反射组件设置在激光器一侧且位于光路整形组件的出光端，所述变焦组件设置在激光器一侧且位于第二反射组件的出光端，所述出光组件设置在激光器一侧且位于变焦组件的出光端，所述激光器射出激光依次经由第一反射组件、光路整形组件、第二反射组件及变焦组件至出光组件。/n

【技术特征摘要】
1.一种实现变焦及光路整形的系统，其特征在于，包括：机架、激光器、第一反射组件、光路整形组件、第二反射组件、变焦组件及出光组件，所述激光器设置在机架上，所述第一反射组件间隔设置在激光器的出光端，所述光路整形组件设置在激光器一侧且位于第一反射组件的出光端，所述第二反射组件设置在激光器一侧且位于光路整形组件的出光端，所述变焦组件设置在激光器一侧且位于第二反射组件的出光端，所述出光组件设置在激光器一侧且位于变焦组件的出光端，所述激光器射出激光依次经由第一反射组件、光路整形组件、第二反射组件及变焦组件至出光组件。


2.如权利要求1所述的实现变焦及光路整形的系统，其特征在于，所述光路整形组件包括：扩束镜及整形光学元件，所述扩束镜间隔设置在第一反射组件的出光端，所述整形光学元件间隔设置在扩束镜远离第一反射组件一端。


3.如权利要求2所述的实现变焦及光路整形的系统，其特征在于：所述扩束镜为变倍扩束镜。


4.如权利要求3所述的实现变焦及光路整形的系统，其特征在于：所述整形光学元件为平顶光衍射光学元件。


5.如权利要求1所述的实现变焦及光路整形的系统，其特征在于，所述变焦组件包括：第一凹透镜、凸透镜及第二凹透镜，所述第一凹透镜间隔设置在第二反射组件的出光端，所述第二凹透镜间隔设置在出光组件的入光端，所述凸透镜设...

【专利技术属性】
技术研发人员：李启文，赵佳祺，胡辉，任莉娜，张小军，卢建刚，何江玲，尹建刚，高云峰，
申请(专利权)人：大族激光科技产业集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44