【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】过滤器、金属离子去除方法和金属离子去除设备
本专利技术涉及一种过滤器、金属离子去除方法和金属离子去除设备。
技术介绍
长期以来，一直需要低金属离子含量的溶液作为用于制造电子部件诸如集成电路的溶液。例如，专利文献1描述了一种用于将表面活性剂中的金属含量降低至足以用于高性能半导体材料中的ppb水平的设备。现有技术文献专利文献专利文献1：JP-A-2005-213200
技术实现思路
最近，电子部件已变得越来越致密。当线宽随致密化而减小时，即使是少量杂质也会不利地影响电子部件。为此，为了确保稳定性，要求用于制造电子部件的溶液中金属离子的允许含量足够低。例如，预期将金属离子去除到低于ppb水平的水平。然而，根据常规方法，可能难以适当地降低金属离子的含量，或者许多加工工艺可能导致低效率。本专利技术的目的是提供一种过滤器，该过滤器可有效地去除待处理溶液中的金属离子，并且易于获取具有极低金属离子含量的溶液。本专利技术的另一个目的是提供一种使用该过滤器的金属离子去除方法和金
【技术保护点】
1.一种过滤器，所述过滤器包括多孔模塑件，所述多孔模塑件为含有干燥凝胶粉末的混合粉末的烧结制品，所述干燥凝胶粉末包括离子交换树脂和热塑性树脂粉末，或所述烧结制品的溶胀主体，并且/n当使电阻率值为18MΩ·cm或更大的水以1200hr-1的空间速度通过所述过滤器时，水通过之后的所述电阻率值为15MΩ·cm或更大。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180109 JP 2018-0013181.一种过滤器，所述过滤器包括多孔模塑件，所述多孔模塑件为含有干燥凝胶粉末的混合粉末的烧结制品，所述干燥凝胶粉末包括离子交换树脂和热塑性树脂粉末，或所述烧结制品的溶胀主体，并且
当使电阻率值为18MΩ·cm或更大的水以1200hr-1的空间速度通过所述过滤器时，水通过之后的所述电阻率值为15MΩ·cm或更大。
2.一种待处理溶液中的金属离子的去除方法，所述方法包括使所述待处理溶液通过根据权利要求1所述的过滤器的通过步骤。
3.根据权利要求2所述的去除方法，其中：
所述通过步骤包括：
第一通过步骤，所述第一通过步骤使所述待处理溶液通过第一过滤器；以及
第二通过步骤，所述第二通过步骤使经过所述第一通过步骤的所述待处理溶液通过第二过滤器，并且
所述第二过滤器为根据权利要求1所述的过滤器。
4.根据权利要求3所述的去除方法，其中所述第一过滤器包括多孔模塑件，所述多孔模塑件为含有干燥凝胶粉末的混合粉末的烧结制品，所述干燥凝胶粉末包括离子交换树脂和热塑性树脂粉末，或所述烧结制品的溶胀主体。
5.一种含有具有酸性基团的化合物的待处理溶液中的金属离子的去除方法，所述方法包括：
添加步骤，所述添加步骤向所述待处理溶液中添加强碱；以及
通过步骤，所述通过步骤使得用所述添加的强碱处理所述溶液以通过根据权利要求1所述的过滤器。
6.根据权利要求5所述的去除方法，其中具有所述酸性基团的所述化合物包括选自由以下组成的组的至少一种类型：酚树脂、丙烯酸类树脂、环氧树脂、有机硅树脂以及作为这些树脂的原料的单体。
7.根据权利要求5或6所述的去除方法，其中所述待处理溶...
【专利技术属性】
技术研发人员：小林光明，冈田幸久，白井贵章，冈田秀幸，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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