单次射击X射线相衬和暗场成像制造技术

一种用于X射线探测器设备(XD)的部件(XS)，包括被网格化在多个不同区域(Rj)中的层(SL)，所述区域具有处于相应的相位的相应的周期性结构，其中，两个相邻区域具有处于不同相位的周期性结构。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】单次射击X射线相衬和暗场成像
本专利技术涉及信号处理系统、信号处理方法、成像装置、计算机程序产品以及计算机可读介质。
技术介绍
对于利用光栅干涉仪进行X射线相衬和暗场成像的放射摄影采集，需要利用不同的相对光栅位置采集的图像序列，如由F.Pfeiffer等人的“Hard-X-raydark-fieldimagingusingagratinginterferometer”(《自然材料》，第7卷，第134-137页，2008年2月)中所提出的那样。这使得需要在图像采集期间移动光栅中的至少一个光栅。然而，这会使图像采集流程变得繁琐并且会显著增加图像采集时间。在断层摄影环境中的X射线相衬和暗场成像也面临挑战。特别地，在断层摄影采集中的旋转运动使得采集具有挑战性。已经利用所谓的“滑动窗口采集”改善了这种情况，在该滑动窗口采集中，在每个投影角度处仅采集一个特定的相对光栅位置并且利用最新的重建方案，该最新的重建方案可以被称为基于强度的迭代重建(IBSIR)，如M.vonTeuffenbach等人的“Grating-basedphase-contrast本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于X射线探测器设备(XD)的部件(XS)，包括被网格化在多个不同区域(Rj)中的层(SL)，所述区域具有处于相应的相位的相应的周期性结构，其中，两个相邻区域具有处于不同相位的周期性结构。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171215 EP 17207719.01.一种用于X射线探测器设备(XD)的部件(XS)，包括被网格化在多个不同区域(Rj)中的层(SL)，所述区域具有处于相应的相位的相应的周期性结构，其中，两个相邻区域具有处于不同相位的周期性结构。


2.根据权利要求1所述的部件，其中，任何两个相邻区域(Rj、Rk)具有处于不同相位的周期性结构。


3.根据权利要求1或2所述的部件，其中，至少一个给定区域(Rj)至少部分地被具有不同相位的区域(Rk)包围，并且不同相位中的每个相位与所述给定区域的相位不同。


4.根据前述权利要求中的任一项所述的部件，其中，所述区域中的至少一个区域是单个像素区域。


5.根据前述权利要求中的任一项所述的部件，其中，所述部件(XS)是辐射敏感的，特别是X辐射敏感的。


6.根据权利要求5所述的部件，其中，所述层(SL)是闪烁层或半导体层(SEM)或光电二极管层(DL)。


7.根据前述权利要求中的任一项所述的部件，其中，所述周期性结构被布置为辐射不敏感元件(T)与辐射敏感元件(C)的交替型式。


8.一种X射线探测器设备(XD)，包括根据前述权利要求中的任一项所述的部件(XS)。


9.一种X射线成像装置(IX)，包...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·亚罗申科，T·克勒，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL