离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置制造方法及图纸

本发明专利技术离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置，属于大视场循环肿瘤细胞显微成像技术领域，特别是涉及到一种杂散光抑制装置；包括光学组件支撑结构，光学组件支撑结构上设置有主镜镜框、主次镜遮光罩、次镜组件、光源遮光罩和焦面遮光罩，主镜镜框中设置有主三一体镜，另外光源遮光罩与主次镜遮光罩的上部相对应；光学组件支撑结构上还设置有平移台，平移台上设置有CCD组件，CCD组件的正前方设置有焦面组件，与焦面组件相对应的位置设置有焦面遮光罩，焦面遮光罩与主次镜遮光罩的下部相对应；主次镜遮光罩、光源遮光罩和焦面遮光罩均为开口的中空结构。本发明专利技术可以有效抑制场内外及二次杂光，有效提升了光学系统成像质量。

【技术实现步骤摘要】
离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置
本专利技术属于大视场循环肿瘤细胞显微成像
，尤其涉及在离轴三反光学系统全路径遮光系统，有效抑制杂散光对成像系统的影响，提升离轴三反显微成像系统的像面质量。
技术介绍
离轴三反光学系统(TMA)具有无色差、光路可折叠、结构紧凑、无中心遮拦、高分辨和大视场、能够很好地校正和平衡系统的像差等特点广泛应用于空间遥感、环境监测、投影光刻和生物医学等领域，为了提升光学系统的成像质量，需要对进入光学系统的杂散光进行有效地抑制。杂散光是指到达像面的非成像光束，对光学系统而言杂散光就相当于系统的噪声，直接影响着光学系统的成像质量，导致像面对比度下降和调制传递函数下降，严重时目标像会被杂光淹没，致使系统失效，消除杂光的目的就是减少到达像面的杂光。进入光学系统的杂散光一般分为三种:1.系统外的一次杂光，不经过主次镜直接进入像面的杂散光；2.系统内二次反射杂光，视场内的成像光束不按正常光路传输的杂散光；3.视场内的光线，由于光学元件表面加工缺陷产生的杂散光。目前国内外常用的消杂光方法主要有以下几种：1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置，其特征在于，包括光学组件支撑结构(4)，所述光学组件支撑结构(4)的一端面设置有主镜镜框(2)，所述光学组件支撑结构(4)上还设置有主次镜遮光罩(3)、次镜组件(5)、光源遮光罩(6)和焦面遮光罩(8)，所述主镜镜框(2)中设置有主三一体镜(1)，所述次镜组件(5)安装在光学组件支撑结构(4)的横梁上，且主三一体镜(1)与次镜组件(5)共同满足离轴三反显微成像光学系统成像要求，所述光源遮光罩(6)与主次镜遮光罩(3)的上部相对应；/n所述光学组件支撑结构(4)上还设置有平移台(9)，所述平移台(9)上设置有CCD组件(10)，所述CCD组件(1...

【技术特征摘要】
1.离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置，其特征在于，包括光学组件支撑结构(4)，所述光学组件支撑结构(4)的一端面设置有主镜镜框(2)，所述光学组件支撑结构(4)上还设置有主次镜遮光罩(3)、次镜组件(5)、光源遮光罩(6)和焦面遮光罩(8)，所述主镜镜框(2)中设置有主三一体镜(1)，所述次镜组件(5)安装在光学组件支撑结构(4)的横梁上，且主三一体镜(1)与次镜组件(5)共同满足离轴三反显微成像光学系统成像要求，所述光源遮光罩(6)与主次镜遮光罩(3)的上部相对应；
所述光学组件支撑结构(4)上还设置有平移台(9)，所述平移台(9)上设置有CCD组件(10)，所述CCD组件(10)的正前方设置有焦面组件(7)，与所述焦面组件(7)相对应的位置设置有焦面遮光罩(8)，所述焦面遮光罩(8)与所述主次镜遮光罩(3)的下部相对应；
所述主次镜遮光罩(3)、光源遮光罩(6)和焦面遮光罩(8)均为开口的中空结构。


2.根据权利要求1所述的离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置，其特征在于，所述主次镜遮光罩(3)、光源遮光罩(6)和焦面遮光罩(8)均为喇叭状结构。


3.根据权利要求1或2所述的离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置，其特征在于，所述主次镜遮光罩(3)、光源遮光罩(6)和焦面遮光罩...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘小涵，张元，李双成，任建岳，李美萱，李楠，谷开慧，张斯淇，冯悦姝，
申请(专利权)人：吉林工程技术师范学院，
类型：发明
国别省市：吉林;22