【技术实现步骤摘要】
带有凹凸形状的玻璃基体及其制造方法
本专利技术涉及带有凹凸形状的玻璃基体及其制造方法。
技术介绍
作为提高配置在图像显示装置的显示面上的保护玻璃的耐冲击性的方法,众所周知通过使作为保护玻璃使用的玻璃基体与无机盐接触而进行离子交换的化学强化处理。此外,最近,作为进一步提高耐冲击性的方法,提出了对含有Li2O的玻璃基体实施两次离子交换的化学强化处理(专利文献1)。顺便说一下,近年来,随着手机、平板电脑终端等具有图像显示装置的移动设备的普及,不仅在进行配置在图像显示装置的显示面上的保护玻璃的研究开发,而且在进行配置在与该显示面相反的背面上的背面保护玻璃的研究开发。对于配置在图像显示装置的背面侧的背面保护玻璃而言,作为除耐冲击性等机械强度以外的要求特性,有时要求美观性优异。因此,有时对作为背面保护玻璃使用的玻璃基体在当使用时成为露出面的一侧的主面上实施装饰处理。作为装饰处理,特别是期望减轻玻璃的光泽感而成为无光泽的表面的防眩处理。作为防眩处理,已知通过在玻璃基体的表面形成凹凸形状而使光漫反射的蚀刻防眩光(蚀刻AG)处理(专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特表2017-523110号公报专利文献2:国际公开第2016/010050号
技术实现思路
专利技术所要解决的问题专利文献2中记载的保护玻璃作为玻璃组成不含有Li2O。因此,不清楚能否将专利文献2中记载的蚀刻AG处理应用于含有Li2O的玻璃。本专利技术 ...
【技术保护点】
1.一种带有凹凸形状的玻璃基体的制造方法,其中,进行使玻璃基体与磨砂处理液接触1分钟以上的磨砂处理,所述磨砂处理液含有1.8质量%以上的氟化氢、并且含有氟化钾,所述氟化氢的质量%浓度相对于所述氟化钾的质量%浓度之比为0.5以上且1.5以下,并且/n以氧化物基准的质量%表示,所述玻璃基体含有:/n50质量%~75质量%的SiO
【技术特征摘要】
20190226 JP 2019-0327611.一种带有凹凸形状的玻璃基体的制造方法,其中,进行使玻璃基体与磨砂处理液接触1分钟以上的磨砂处理,所述磨砂处理液含有1.8质量%以上的氟化氢、并且含有氟化钾,所述氟化氢的质量%浓度相对于所述氟化钾的质量%浓度之比为0.5以上且1.5以下,并且
以氧化物基准的质量%表示,所述玻璃基体含有:
50质量%~75质量%的SiO2、
10质量%~25质量%的Al2O3、和
2质量%~6质量%的Li2O。
2.如权利要求1所述的带有凹凸形状的玻璃基体的制造方法,其中,在所述磨砂处理之后,进一步进行使所述玻璃基体与形状调节液接触1分钟以上的形状调节处理,所述形状调节液含有3.0质量%以上且6.0质量%以下的氟化氢。
3.如权利要求1或2所述的带有凹凸形状的玻璃基体的制造方法,其中,所述磨砂处理液的所述氟化钾的质量%浓度相对于以氧化物基准的质量%表示的所述玻璃基体的Li2O含量之比为0.3以上且3.5以下,并且所述磨砂处理液的所述氟化氢的质量%浓度相对于以氧化物基准的质量%表示的所述玻璃基体的Li2O含量之比为0.3以上且2.5以下。
4.如权利要求2所述的带有凹凸形状的玻璃基体的制造方法,其中,所述形状调节液还含有5.0质量%以上且15.0质量%以下的氯化氢。
5.如权利要求2或4所述的带有凹凸形状的玻璃基体的制造方法,其中,在所述形状调节处理之后,进一步进行通过使所述玻璃基体与无机盐接触而进行离子交换的化学强化处理,所述无机盐含有硝酸钠和硝酸钾中的至少一种。
6.如权利要求5所述的带有凹凸形状的玻璃基体的制造方法,其中,进行2次以上所述化学强化处理。
7.如权利要求1或2所述的带有凹凸形状的玻璃基体的制造方法,其中,以氧化物基准的质量%表示,所述玻璃基体含有:
50质量%~75质量%的SiO2、
10质量%~25质量%的Al2O3、
2质量%~6质量%的Li2O、
0质量%~18质量%的Na2O、
0质量%~10质量%的K2O、
0质量%~10质量%的MgO、
0质量%~5质量%的CaO、
0质量%~15质量%的P2O5、
0质量%~5质量%的Y2O3、和
0质量%~5质量%的ZrO2。
8.一种带有凹凸形状的玻璃基体的制造方法,其中,进行使玻璃基体与磨砂处理液接触1分钟以上的磨砂处理,所述磨砂处理液含有15.0质量%以上的氟化氢、并且含有氟化铵,所述氟化氢的质量%浓度相对于所述氟化铵的质量%浓度之比为1.0以下,
在所述磨砂处理之后,进行使所述玻璃基体与形状调节液接触1分钟以上的形状调节处理,所述形状调节液含有3.0...
【专利技术属性】
技术研发人员:赤间佑纪,留野晓,
申请(专利权)人:AGC株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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