用于手术后清洗足部的足部清洗盆制造技术

本实用新型专利技术提供了一种用于手术后清洗足部的足部清洗盆，包括：盆体；所述盆体具有盆底和盆沿；所述盆沿具有一豁口；所述豁口的下端高于所述盆底；所述豁口朝着盆体外侧延伸出一用于支撑脚腕部分的支撑部；所述支撑部的一端与所述豁口的外端面连接、另一端延伸至盆体外；所述支撑部的上表面的截面形状与所述豁口的形状相同。足部手术中需要清洗足部时，医生将本实用新型专利技术放置手术床上，将病人的足部放置盆体内进行清洗，清洗完将本实用新型专利技术从手术床上拿出，将盆体内水倒出即可，综上本实用新型专利技术具有使用方便的优点，且使得足部手术中清洗足部方便。

【技术实现步骤摘要】
用于手术后清洗足部的足部清洗盆
本技术涉及医疗辅助器械
，特别涉及一种用于手术后清洗足部的足部清洗盆。
技术介绍
目前，对足部进行手术时需要清洗足部，通常在手术床外面进行清洗，使得清洗不方便，或在手术床里面清洗，手术床里面垫上吸水棉花或纱布，清洗时水经吸水棉花或纱布漏至手术床上容易引发感染，从而不方便在手术床里面清洗。
技术实现思路
本技术提供一种用于手术后清洗足部的足部清洗盆，用以解决现有技术中在进行足部手术时清洗足部不方便的缺陷。一种用于手术后清洗足部的足部清洗盆，包括：盆体；所述盆体具有盆底和盆沿；所述盆沿具有一豁口；所述豁口的下端高于所述盆底；所述豁口朝着盆体外侧延伸出一用于支撑脚腕部分的支撑部；所述支撑部的一端与所述豁口的外端面连接、另一端延伸至盆体外；所述支撑部的上表面的截面形状与所述豁口的形状相同。优选的，所述豁口的宽度等于或大于5厘米；所述豁口的下端比所述盆底高至少1厘米。优选的，所述支撑部的下表面与所述盆底的下底面相平。优选的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于手术后清洗足部的足部清洗盆，其特征在于，包括：/n盆体；所述盆体具有盆底和盆沿；/n所述盆沿具有一豁口；所述豁口的下端高于所述盆底；/n所述豁口朝着盆体外侧延伸出一用于支撑脚腕部分的支撑部；/n所述支撑部的一端与所述豁口的外端面连接、另一端延伸至盆体外；/n所述支撑部的上表面的截面形状与所述豁口的形状相同。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于手术后清洗足部的足部清洗盆，其特征在于，包括：
盆体；所述盆体具有盆底和盆沿；
所述盆沿具有一豁口；所述豁口的下端高于所述盆底；
所述豁口朝着盆体外侧延伸出一用于支撑脚腕部分的支撑部；
所述支撑部的一端与所述豁口的外端面连接、另一端延伸至盆体外；
所述支撑部的上表面的截面形状与所述豁口的形状相同。


2.如权利要求1所述的用于手术后清洗足部的足部清洗盆，其特征在于，
所述豁口的宽度等于或大于5厘米；
所述豁口的下端比所述盆底高至少1厘米。


3.如权利要求1所述的用于手术后清洗足部的足部清洗盆，其特征在于，
所述支撑部的下表面与所述盆底的下底面相平。


4.如权利要求1所述的用于手术后清洗足部的足部清洗盆，其特征在于，
所述支撑部的上表面设置有柔性防水层。


5.如权利要求1所述的用于手术后清洗足部的足部清洗盆，其特征在于，
所述盆体的外表面上还设置有手柄。


6.根据权利要求5所述的用于手术后清洗足部的足部清洗盆，其特征在于，所述手柄的数量为2个，2个所述手柄分别设置在相对的两盆沿外侧面，所述手柄外部内侧设有防滑纹。


7.根据权利要求5所述的用于手术后清洗足部的足部清洗盆，其特征在于，所述手柄的数量为2个，2个所述手柄分别设置在相对的...

【专利技术属性】
技术研发人员：毕洪森，马桂文，
申请(专利权)人：北京大学第三医院，
类型：新型
国别省市：北京;11