一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法技术

一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法，采集芍药幼嫩部位进行低温处理；低温处理后的芍药外植体使用洗洁精浸泡后流水冲洗；冲洗完毕后的芍药外植体，浸泡在多菌灵和青霉素钠混合溶液中并置于摇床；浸泡后的芍药外植体由75％酒精消毒，再以0.1％升汞消毒进行表面消毒；消毒后的芍药外植体在含有益培灵的培养基中培养；本发明专利技术能有效降低芍药组织培养中的污染，且芍药外植体存活率较高，实用性、推广性强。

【技术实现步骤摘要】
一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法
本专利技术涉及到组织培养
，具体为一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法。
技术介绍
芍药(PaeonialactiflorPall.)为芍药科芍药属，多年生草本植物，是我国著名的观赏、药用植物。但芍药的传统繁殖方式生产周期长繁殖系数低，严重影响了芍药的规模化生产。组织培养技术是目前植物快繁的有效方法之一，具有繁殖周期短，繁殖系数高等优势。但芍药自身携带内生菌，用常规的消毒方法难以控制其内生菌污染，培养初期出现大量细菌和真菌污染，严重制约了芍药组织培养的发展。因此，研究一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法成为目前迫切需要解决的技术难题。
技术实现思路
为解决上述现有技术存在的问题，本专利技术的目的在于提供一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法。为达到上述目的，本专利技术提供了一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法，包括以下步骤：(1)采集芍药幼嫩部位进行低温处理；(2)低温处理后的芍药外植体使用洗洁精浸泡后流水冲洗；(3)冲洗完毕后的芍药外植体，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法，其特征在于，包括以下步骤：/n(1)采集芍药幼嫩部位进行低温处理；/n(2)低温处理后的芍药外植体使用洗洁精浸泡后流水冲洗；/n(3)冲洗完毕后的芍药外植体，浸泡在多菌灵和青霉素钠混合溶液中并置于摇床；/n(4)浸泡后的芍药外植体由75％酒精消毒，再以0.1％升汞消毒进行表面消毒；/n(5)消毒后的芍药外植体在含有益培灵的培养基中培养。/n

【技术特征摘要】
1.一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)采集芍药幼嫩部位进行低温处理；
(2)低温处理后的芍药外植体使用洗洁精浸泡后流水冲洗；
(3)冲洗完毕后的芍药外植体，浸泡在多菌灵和青霉素钠混合溶液中并置于摇床；
(4)浸泡后的芍药外植体由75％酒精消毒，再以0.1％升汞消毒进行表面消毒；
(5)消毒后的芍药外植体在含有益培灵的培养基中培养。


2.根据权利要求1所诉的一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法，其特征在于，所述步骤1低温处理为将新采集的芍药外植体用锡箔纸包裹置于4℃冰箱中，低温处理24-48h。


3.根据权利要求1所诉的一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法，其特征在于，所述步骤2芍药外植体由稀释洗洁精浸泡20min，清洗外表的泥沙后流水冲洗芍药外植体1h。


4.根据权利要求1所诉的一种降低芍药组织培养中外植体污染的方法，其特征在于，所述步骤3将芍药外植体浸泡在浓度为3-5g...

【专利技术属性】
技术研发人员：张利，敖青霞，姜媛媛，赵茂俊，倪苏，王龙，胡佳，冯均，周劲，余燕，王海平，吴金勇，陈欢，
申请(专利权)人：四川农业大学，
类型：发明
国别省市：四川;51