266nm激光治疗设备制造技术

本发明专利技术提供了一种266nm激光治疗设备，涉及医用设备技术领域，能够解决目前临床所用汞蒸气紫外光存在的安全隐患和光束质量差的问题。该设备包括控制板、1064nm激光发生结构、532nm激光发生结构、266nm激光发生结构以及266nm输出结构，用于组织再生修复、消炎杀菌等多个医疗领域，1064nm激光发生结构内设置准直聚焦器来弥补半导体激光器产生的原始激光发散角大的问题，532nm激光发生结构与266nm激光发生结构部分均通过聚焦透镜来提高二倍频晶体和四倍频晶体的转化效率，从而进一步提高光束质量。

【技术实现步骤摘要】
266nm激光治疗设备
本专利技术涉及医用设备
，尤其是涉及一种266nm激光治疗设备。
技术介绍
目前，临床治疗中所应用的紫外光源一般是采用汞蒸气放电的激发态来产生紫外光，此类光发生方式存在功耗高、发热量大、寿命短、反应慢、有环境污染和安全隐患以及光束质量差等诸多缺陷。基于上述问题，目前紫外光疗法的临床应用范围上非常受限，有待于新技术和新设备的支持，以提高临床治疗用光源的性能参数，进而拓展和完善紫外光疗法的临床应用。因此，需要设计一种更适于临床治疗的医用光学设备，来解决上述技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种266nm激光治疗设备，以解决目前用于临床治疗的医用光学设备普遍存在的光束质量差等技术问题。本专利技术提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果详见下文阐述。为实现上述目的，本专利技术提供了以下技术方案：本专利技术提供的266nm激光治疗设备，包括：控制板以及依次设置的1064nm激光发生结构、532nm激光发生结构、266nm激光发生结构和266nm激光输出结构；本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种266nm激光治疗设备，其特征在于，包括控制板以及依次设置的1064nm激光发生结构、532nm激光发生结构、266nm激光发生结构和266nm激光输出结构；/n其中，所述1064nm激光发生结构包括依次设置的半导体激光器、准直聚焦器和增益介质，所述半导体激光器产生的激光依次穿过所述准直聚焦器和所述增益介质，生成1064nm激光光束；所述半导体激光器与所述控制板连接，受所述控制板控制，按照设定的工作模式运行；/n所述532nm激光发生结构包括依次设置的第一聚焦透镜、二倍频晶体和第一分光镜，所述1064nm激光光束依次穿过所述第一聚焦透镜、所述二倍频晶体和所述第一分光镜，生成532nm激...

【技术特征摘要】
1.一种266nm激光治疗设备，其特征在于，包括控制板以及依次设置的1064nm激光发生结构、532nm激光发生结构、266nm激光发生结构和266nm激光输出结构；
其中，所述1064nm激光发生结构包括依次设置的半导体激光器、准直聚焦器和增益介质，所述半导体激光器产生的激光依次穿过所述准直聚焦器和所述增益介质，生成1064nm激光光束；所述半导体激光器与所述控制板连接，受所述控制板控制，按照设定的工作模式运行；
所述532nm激光发生结构包括依次设置的第一聚焦透镜、二倍频晶体和第一分光镜，所述1064nm激光光束依次穿过所述第一聚焦透镜、所述二倍频晶体和所述第一分光镜，生成532nm激光光束；
所述266nm激光发生结构包括依次设置的第二聚焦透镜、四倍频晶体、温度控制装置和第二分光镜，所述532nm激光光束依次穿过所述第二聚焦透镜、所述四倍频晶体和所述第二分光镜，生成266nm激光光束；所述温度控制装置设置在所述四倍频晶体一侧，与所述控制板连接，用于控制四倍频晶体的环境温度为设定温度；
所述266nm激光输出结构用于直接或通过光纤输出所述266nm激光光束。


2.根据权利要求1所述的266nm激光治疗设备，其特征在于，所述控制板包括：
处理器，和与所述处理器相连接的驱动器；
所述驱动器与所述半导体激光器相连接，接受所述处理器的PWM控制，驱动所述半导体激光器按照所述预设工作模式运行。


3.根据权利要求1所述的266nm激光治疗设备，其特征在于，所述266nm激光输出结构包括光纤耦合结构和与所述光纤耦合结构相连接的光纤。


4.根据权利要求3所述的266nm激光治疗设备，其特征在于，所述光纤包括点状光纤和柱状光纤的至少一种，所述266nm激光光束经由所述光纤输出。


5.根据权利要求3所述的266nm激光治疗设备，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张丽，付小兵，瓮长水，盛炜，刘平，
申请(专利权)人：中国人民解放军总医院，
类型：发明
国别省市：北京;11