用于中性束注入器的光子中和器制造技术

本申请涉及用于中性束注入器的光子中和器。提供用于了中性束注入器的非共振光子中和器，利用了非共振光子累积，其中光子的路径变为混乱并且陷在某个空间区域中，即光子阱。阱优选由彼此面对的两个光滑的反射镜表面形成，反射镜中的至少一个是凹面的。在其最简单的形式中，阱是椭圆形的。限制区域是靠近两个反射镜表面共有的法线族的区域。从最近的共有法线偏离足够小角度的光子受到限制。取决于特定的条件，反射镜表面的形状可以是球形的、椭圆形的、圆柱形的或环形的几何形状之一，或其组合。

【技术实现步骤摘要】
用于中性束注入器的光子中和器本申请是申请日为2015年11月18日、申请号为201580062872.3、专利技术名称为“用于中性束注入器的光子中和器”的专利技术专利申请的分案申请。
本文描述的主题大体涉及中性束注入器，并且尤其是涉及用于基于负离子的中性束注入器的光子中和器。
技术介绍
从负离子H-、D-束产生用于等离子体加热或中性束辅助诊断的中性束的传统方法是中和气体或等离子体靶中的负离子束以剥离过量电子。然而，该方法具有明显的效率限制性。当前，例如，对于设计的具有1MeV束的加热注入器[R.Hemsworthetal.，2009,Nucl.Fusion49045006]，气体和等离子体靶中的中和效率将分别是大约60%和85%[G.I.Dimovetal.,1975,Nucl.Fusion15,551]，这显著地影响了注入器的总效率。此外，这种中和器的应用伴随有并发症，包括由于充气以及在原子束中出现正离子而导致的真空条件恶化，这在一些应用中可能是明显的。电子从高能负离子的光剥离是束中和的一种诱人方法。这种方法不需要气体或等离子本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于中性束注入器的非共振光子中和器，包括第一和第二反射镜，所述第一和第二反射镜具有沿第一方向延伸的相对的反射镜表面，所述第一反射镜具有中央部分和相对的第一端和第二端，所述第一端和第二端在所述第一方向上定位成比所述中央部分更靠近所述第二反射镜，/n其中所述第一反射镜的反射镜表面在第二方向上是凹面的，所述第二方向横向于所述第一方向。/n

【技术特征摘要】
20141119 RU 20141465741.一种用于中性束注入器的非共振光子中和器，包括第一和第二反射镜，所述第一和第二反射镜具有沿第一方向延伸的相对的反射镜表面，所述第一反射镜具有中央部分和相对的第一端和第二端，所述第一端和第二端在所述第一方向上定位成比所述中央部分更靠近所述第二反射镜，
其中所述第一反射镜的反射镜表面在第二方向上是凹面的，所述第二方向横向于所述第一方向。


2.根据权利要求1所述的光子中和器，其中所述光子阱是球形的、椭圆形的、或圆柱形的形状。


3.根据权利要求1所述的光子中和器，其中所述光子阱包括邻近所述第一和第二反射镜的反射镜表面共有的法线族的限制区域。


4.根据权利要求1所述的光子中和器，其中所述第二反射器的反射镜表面在所述第二方向上是凹面的。


5.根据权利要求1所述的光子中和器，其中所述第二反射镜的反射镜表面是平面的。


6.根据权利要求1所述的光子中和器，其中所述第一反射镜包括反射镜组件，所述反射镜组件包括中央反射镜以及连接到所述中央反射镜的第一和第二外部反射镜。


7.根据权利要求6所述的光子中和器，其中所述中央反射镜是圆柱形形状的，并且所述外部反射镜是圆锥形形状的。


8.根据权利要求1所述的光子中和器，其中所述光子阱具有近似1000的存储效率P/Pin，所述第一和第二反射镜的镜面反射率为r2=0.999，并且其中所述存储效率被定义为。

【专利技术属性】
技术研发人员：AV布尔达科夫，AA伊娃诺夫，SS波波夫，
申请(专利权)人：阿尔法能源技术公司，
类型：发明
国别省市：美国;US