一种三氧化钼量子点的合成方法及其应用技术

本发明专利技术涉及一种三氧化钼量子点的合成方法及其应用，其合成方法为S1、将高锰酸钾，溶于水中，调节pH值到酸性；S2、向步骤S1中获得的溶液加入二硫化钼，水浴加热至反应完全；S3、将步骤S2中获得的溶液，离心，取上清液加入无水乙醇、过氧化氢溶液，于反应釜中进行水热反应，得到三氧化钼量子点。三氧化钼量子点的应用为用于Cr

【技术实现步骤摘要】
一种三氧化钼量子点的合成方法及其应用
本专利技术涉及一种三氧化钼量子点(MoO3QDs)的合成方法及其应用，属于材料制备

技术介绍
氧化钼纳米材料作为一种优秀的半导体纳米材料，因其良好的光学性能和较好的生物相容性，被广泛的应用于诸多方面，如催化剂、气体传感、太阳能电磁、光致变色、锂离子电池、薄膜兼容器、场效应晶体管，抗菌和抗癌等。如xiao等人报道了氧化钼量子点(MoOxQDs)并将其用于卡普利托、Pi、TNT和Hg+的高灵敏度检测，彰显了MoOxQDs在检测方面的巨大优势。由于氧化钼纳米材料的物理和化学性质与其相貌密切相关，近年来，人们致力于开发不同的合成方法制备不同形貌的氧化钼纳米材料。现有的MoOx的制备方法主要有水热法：指在密封的压力容器中，以水为溶剂，在高温高压的条件下进行化学反应，化合物在水中的溶解度大于对应氧化物在水中的溶解度，于是化合物溶于水而析出氧化物，有合成MoO3纳米带。氧化法：如用10.4mmol/L钼粉溶解于22mLH2O2和蒸馏水的混合溶液中冷却至0℃，然后边搅拌边逐滴加入2mL乙酸，在真空条件下去除溶剂，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种三氧化钼量子点的合成方法，其特征在于，其包括如下步骤：/nS1、将高锰酸钾，溶于水中，用酸调节pH值到酸性；/nS2、向步骤S1中获得的溶液加入二硫化钼，水浴加热至反应完全；/nS3、将步骤S2中获得的溶液，离心，取上清液加入无水乙醇、过氧化氢溶液，于反应釜中进行水热反应，得到三氧化钼量子点。/n

【技术特征摘要】
1.一种三氧化钼量子点的合成方法，其特征在于，其包括如下步骤：
S1、将高锰酸钾，溶于水中，用酸调节pH值到酸性；
S2、向步骤S1中获得的溶液加入二硫化钼，水浴加热至反应完全；
S3、将步骤S2中获得的溶液，离心，取上清液加入无水乙醇、过氧化氢溶液，于反应釜中进行水热反应，得到三氧化钼量子点。


2.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，在步骤S1中，所述用酸调节采用硫酸，所述pH值为1～2。


3.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，在步骤S1中，所述高锰酸钾的浓度为1～9g/L。


4.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，在步骤S2中，所述二硫化钼的加入量为高锰酸钾质量的50％～100％。


5.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，在步骤S2中，所述水浴加热为25℃或室温。


6.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，在步骤S3中，所述离心的速率为8000×g，时间为10min～30min。


7.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，在步骤S3中，所述上清液与无水乙醇及过氧化氢溶液按乙醇：过氧化氢：上清液＝5:3:2添加，过氧化氢的浓度为30％；反...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈晓勇，张泽宇，洪应平，梁庭，贾平岗，雷程，李晨，
申请(专利权)人：中北大学，
类型：发明
国别省市：山西;14