应变片制造技术

技术编号:25409145 阅读:42 留言:0更新日期:2020-08-25 23:11
本应变片包括:基材,具有可挠性;以及电阻体,在所述基材上,由包含铬和镍中的至少一者的材料形成,其中,所述电阻体包括:第一电阻部,形成在所述基材的预定表面上;第二电阻部,以使栅格方向朝向与所述第一电阻部的栅格方向不同的方向的方式,形成在所述基材的所述预定表面或与所述预定表面平行的表面上;以及第三电阻部,形成在所述基材的与所述预定表面相邻的表面上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】应变片
本专利技术涉及一种应变片(straingauge)。
技术介绍
已知一种应变片,其粘贴在测定对象物上,以对测定对象物的应变进行检测。应变片具有用于对应变进行检测的电阻体,作为电阻体的材料,例如使用包含Cr(铬)或Ni(镍)的材料。另外,电阻体例如形成在由绝缘树脂构成的基材的一个表面上(例如参见专利文献1)。<现有技术文献><专利文献>专利文献1:(日本)特开2016-74934号公报
技术实现思路
<本专利技术要解决的问题>传统的应变片仅能够对测定对象物的正面表面的应变进行检测,但是还存在针对正面表面以外的应变进行检测的需求。鉴于上述问题,本专利技术的目的在于提供一种应变片,其除了能够对测定对象物的正面表面的应变进行检测之外,还能够对正面表面以外的应变进行检测。<用于解决问题的手段>本应变片包括:基材,具有可挠性;以及电阻体,在所述基材上,由包含铬和镍中的至少一者的材料形成,其中,所述电阻体包括:第一电阻部,形成在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种应变片,包括:/n基材,具有可挠性;以及/n电阻体,在所述基材上,由包含铬和镍中的至少一者的材料形成,/n其中,所述电阻体包括:/n第一电阻部,形成在所述基材的预定表面上;/n第二电阻部,以使栅格方向朝向与所述第一电阻部的栅格方向不同的方向的方式,形成在所述基材的所述预定表面或与所述预定表面平行的表面上;以及/n第三电阻部,形成在所述基材的与所述预定表面相邻的表面上。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171115 JP 2017-2204091.一种应变片,包括:
基材,具有可挠性;以及
电阻体,在所述基材上,由包含铬和镍中的至少一者的材料形成,
其中,所述电阻体包括:
第一电阻部,形成在所述基材的预定表面上;
第二电阻部,以使栅格方向朝向与所述第一电阻部的栅格方向不同的方向的方式,形成在所述基材的所述预定表面或与所述预定表面平行的表面上;以及
第三电阻部,形成在所述基材的与所述预定表面相邻的表面上。


2.根据权利要求1所述的应变片,其中,
与所述预定表面相邻的表面与所述预定表面之间所成的角度为钝角。


3.根据权利要求1所述的应变片,其中,
所述第一电阻部、所述第二电阻部以及所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:美齐津英司足立重之北原昂祐浅川寿昭北村厚
申请(专利权)人:美蓓亚三美株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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