本发明专利技术公开一种强制积露的纳米水离子发生的装置及其方法，冷气流动力组件固定安装于固定安装板之上，杆底座固定安装于冷气流动力组件的顶部，杆主体的下端垂直固定于杆底座之上，杆主体的上端粘接有水质覆盖层，第一电极的电极主干的外端固定于外壳的内壁的上部，第二电极的电极主干的外端固定于外壳的内壁的上部，杆主体的顶部位于第一电极的电极头与第二电极的电极头之间且位于第一电极的下方，外壳正对杆主体处开设有第二进风口。本发明专利技术使电荷转移直接发生在水质覆盖层与第一、第二电极之间，提高了水分子的电离效果；第一、第二电极对强制气流的阻隔效果较小，能更快的补充水质覆盖层电离时所消耗的水质，从而达到稳定长效的工作状态。
【技术实现步骤摘要】
强制积露的纳米水离子发生的装置及其方法
本专利技术涉及放电装置领域，尤其涉及一种强制积露的纳米水离子发生的装置及其方法。
技术介绍
参考图1，现时的放电装置200，如纳米水离子发生装置、离子发生装置，的电离与电击直接发生在筒电极210与负电极220的金属之间，当负电极上的水珠230碰到电荷转移才会被击碎，产生的有益物质，然而，负极上的水珠是自然结露的，结露的多少根负极四周的气体流通速度及温度相关，而筒电极210及负电极220一般安装于一壳体内，负电极220与外界之间的气体流通仅仅通过筒电极210的中心孔，气体流通受到一定的阻碍，因而结露消耗之后短时间内难以重新结露，电离产生的有益物质较少。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种强制积露的纳米水离子发生的装置及其方法，以解决上述技术问题。为了实现上述目的，本专利技术的技术方案为：提供一种强制积露的纳米水离子发生装置，包括外壳、冷气流动力组件、集露杆及两电极，所述电极包括电极主干及连接于所述电极主干内端的电极头，两所述电极分别为极性相反的第一电极及第二电极，所述外壳内的下部水平安装有固定安装板，所述冷气流动力组件固定安装于所述固定安装板之上，所述固定安装板的中部开设有第一进风口，所述集露杆包括杆底座及杆主体，所述杆底座固定安装于所述冷气流动力组件的顶部，所述杆主体的下端垂直固定于所述杆底座之上，所述杆主体的上端粘接有水质覆盖层，所述第一电极的电极主干的外端固定于所述外壳的内壁的上部，所述第一电极的电极头水平往内伸出，所述第二电极的电极主干的外端固定于所述外壳的内壁的上部，所述第二电极的电极头水平往内伸出且与所述第一电极的电极头互相正对，所述杆主体的顶部位于所述第一电极的电极头与所述第二电极的电极头之间且位于所述第一电极的下方，所述外壳正对所述杆主体处开设有第二进风口。较佳地，所述冷气流动力组件包括风扇、散热片及制冷片，所述风扇固定安装于所述固定安装板之上，所述风扇的输入口正对所述第一进风口，所述散热片安装于所述风扇之上，所述散热片的输入口正对所述风扇的输出口，所述散热片的输出口设置于所述散热片的外侧壁，所述制冷片安装于所述散热片之上，所述杆底座安装于所述制冷片的顶部，所述制冷片的外侧壁及所述散热片的外侧壁与所述外壳的内壁之间形成输入风隙。较佳地，所述杆主体包括杆头座及杆头，所述杆头座的顶部开设有杆头插孔，所述杆头的下端插设于所述杆头插孔中，所述杆头的上端呈上小下大锥状。较佳地，所述杆头座的上部于所述杆头插孔之外往外凸伸形成凸台。较佳地，所述杆主体呈上小下大锥台状，且所述杆主体的顶部呈圆滑状。较佳地，所述杆主体包括支杆及连接于所述支杆顶部的集露头，所述支杆呈上小下大锥台状或者直径一致的柱状，所述集露头呈圆球状或者半球状，所述集露头的直径大于所述支杆的顶端的直径。较佳地，所述电极头呈内小外大的锥状或者圆球状或者半球状。较佳地，所述电极头的内端呈内小外大的尖锥状，所述电极头与所述电极主干交接处沿径向向外凸设有内大外小的圆台状的凸台。较佳地，所述电极头为碳纤维束。本专利技术还提供一种强制积露的纳米水离子发生的方法，包括以下步骤：（1）提供集露杆、冷气流发生组件、第一电极及第二电极，将所述第一电极及第二电极互相正对的水平固定安装，于所述集露杆的顶部集结水质覆盖层而形成水质的尖端电极，将所述集露杆置于所述第一电极与所述第二电极之间的下方；（2）使所述第二电极接上电源正极，使所述第一电极接上电源负极，启动所述冷气流发生组件，所述冷气流发生组件产生冷却气流并使产生的冷却气流沿所述集露杆的四周向上攀升并穿过第一电极及第二电极之间的空间。本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置及其方法，使电荷转移直接发生与水质覆盖层与第一、第二电极之间，提高了水分子的电离效果，能产生更多的羟基自由基、纳米水离子、和富氧离子、带电粒子等有益物质；强制气流经集露杆的四周并从从第一电极与第二电极之间流出，第一电极与第二电极的阻隔影响较小，更有利于强制气流的流通，更快的于集露杆上汇集水露，补充水质覆盖层电离时所消耗的水质，从而能持继的产生羟基自由基、纳米水离子、和富氧离子、带电粒子，从而达到稳定长效的工作状态。通过以下的描述并结合附图，本专利技术将变得更加清晰，这些附图用于解释本专利技术的实施例。附图说明图1为现有的放电装置的结构原理图。图2为本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的结构原理图。图3为本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的集露杆第二实施例的结构图。图4为本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的集露杆第三实施例的结构图。图5为本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的集露杆第四实施例的结构图。图6为本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的集露杆第五实施例的结构图。图7为本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的电极第一实施例的结构图。图8为本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的电极第二实施例的结构图。图9为本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的电极第三实施例的结构图。图10为本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的电极第四实施例的结构图。图11为本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的电极第五实施例的结构图。图12为本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的电极第六实施例的结构图。图13本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的两电极组合的第一实施方式。图14本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的两电极组合的第二实施方式。图15本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的两电极组合的第三实施方式。图16本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的两电极组合的第四实施方式。图17本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置的两电极组合的第五实施方式。具体实施方式参考图2，本专利技术强制积露的纳米水离子发生的装置100包括外壳10、冷气流动力组件、集露杆30及两电极40。所述电极40包括电极主干41及连接于所述电极主干41内端的电极头42。两所述电极40分别为极性相反的第一电极401及第二电极402。所述外壳10内的下部水平安装有固定安装板50。所述冷气流动力组件固定安装于所述固定安装板50之上，所述固定安装板50的中部开设有第一进风口51。所述集露杆30包括杆底座31及杆主体32。所述杆底座31固定安装于所述冷气流动力组件的顶部，所述杆主体32的下端垂直固定于所述杆底座31之上，所述杆主体32的上端粘接有水质覆盖层33。所述第一电极401的电极主干41的外端固定于所述外壳10的内壁的上部，所述第一电极401的电极头42水平往内伸出，所述第二电极402的电极主干41的外端固定于所述外壳10的内壁的上部。所述第二电极402的电极头42水平往内伸出且与所述第一电极401的电极头42互相正对。所述杆主体32的顶部位于所述第一电极401的电极头42与所述第二电极402的电极头42之间且位于所述第一电极401的下方，所述外壳10正本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种强制积露的纳米水离子发生的装置，其特征在于：包括外壳、冷气流动力组件、集露杆及两电极，所述电极包括电极主干及连接于所述电极主干内端的电极头，两所述电极分别为极性相反的第一电极及第二电极，所述外壳内的下部水平安装有固定安装板，所述冷气流动力组件固定安装于所述固定安装板之上，所述固定安装板的中部开设有第一进风口，所述集露杆包括杆底座及杆主体，所述杆底座固定安装于所述冷气流动力组件的顶部，所述杆主体的下端垂直固定于所述杆底座之上，所述杆主体的上端粘接有水质覆盖层，所述第一电极的电极主干的外端固定于所述外壳的内壁的上部，所述第一电极的电极头水平往内伸出，所述第二电极的电极主干的外端固定于所述外壳的内壁的上部，所述第二电极的电极头水平往内伸出且与所述第一电极的电极头互相正对，所述杆主体的顶部位于所述第一电极的电极头与所述第二电极的电极头之间且位于所述第一电极的下方，所述外壳正对所述杆主体处开设有第二进风口。/n
【技术特征摘要】
1.一种强制积露的纳米水离子发生的装置，其特征在于：包括外壳、冷气流动力组件、集露杆及两电极，所述电极包括电极主干及连接于所述电极主干内端的电极头，两所述电极分别为极性相反的第一电极及第二电极，所述外壳内的下部水平安装有固定安装板，所述冷气流动力组件固定安装于所述固定安装板之上，所述固定安装板的中部开设有第一进风口，所述集露杆包括杆底座及杆主体，所述杆底座固定安装于所述冷气流动力组件的顶部，所述杆主体的下端垂直固定于所述杆底座之上，所述杆主体的上端粘接有水质覆盖层，所述第一电极的电极主干的外端固定于所述外壳的内壁的上部，所述第一电极的电极头水平往内伸出，所述第二电极的电极主干的外端固定于所述外壳的内壁的上部，所述第二电极的电极头水平往内伸出且与所述第一电极的电极头互相正对，所述杆主体的顶部位于所述第一电极的电极头与所述第二电极的电极头之间且位于所述第一电极的下方，所述外壳正对所述杆主体处开设有第二进风口。
2.如权利要求1所述的强制积露的纳米水离子发生的装置，其特征在于：所述冷气流动力组件包括风扇、散热片及制冷片，所述风扇固定安装于所述固定安装板之上，所述风扇的输入口正对所述第一进风口，所述散热片安装于所述风扇之上，所述散热片的输入口正对所述风扇的输出口，所述散热片的输出口设置于所述散热片的外侧壁，所述制冷片安装于所述散热片之上，所述杆底座安装于所述制冷片的顶部，所述制冷片的外侧壁及所述散热片的外侧壁与所述外壳的内壁之间形成输入风隙。
3.如权利要求1所述的强制积露的纳米水离子发生的装置，其特征在于：所述杆主体包括杆头座及杆头，所述杆头座的顶部开设有杆头插孔，所述杆头的下端插设于所述杆头插孔中，所述杆头的上端呈上小下大锥状。
【专利技术属性】
技术研发人员：邱庆彬，其他发明人请求不公开姓名，
申请(专利权)人：平流层复合水离子深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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