【技术实现步骤摘要】
一种太赫兹材料制作PET膜的制作方法
本专利技术涉及PET膜
，具体为一种太赫兹材料制作PET膜的制作方法。
技术介绍
PET膜又名耐高温聚酯薄膜。可广泛的应用于磁记录、感光材料、电子、电气绝缘、工业用膜、包装装饰、屏幕保护、光学级镜面表面保护等领域。太赫兹波指介于0.1-10THz频率范围的电磁波,其频谱介于无线电波和红外光之间。以近年来，随着太赫兹辐射产生和探测技术的发展，对太赫兹功能器件的需求逐步增多，深入研究太赫兹功能器件，实现对太赫兹波的有效控制，已成为当今国际太赫兹学术界公认的前沿性基础研究方向。2009年，有学者提出可通过制作浮雕结构来降低反射，他们在硅中刻蚀不同密度的空气柱，以此来调节空气与硅的比率，达到了阻抗匹配的要求，降低了反射。2014年又有学者提出利用石墨烯来制作太赫兹增透膜,石墨烯的阻抗值会随着堆叠层数而变化，当堆叠石墨烯的阻抗值与空气和硅的阻抗值相匹配时,即可达到降低反射的效果，通过上述两种方法制作太赫兹材料的PET膜，在降低反射方面性能不佳，同时制作成本较高，无法满足市场的
【技术保护点】
1.一种太赫兹材料制作PET膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1、灼烧：选择30×30cm
【技术特征摘要】
1.一种太赫兹材料制作PET膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、灼烧：选择30×30cm2的硅基，将选用的硅基置于燃烧炉中进行灼烧；
S2、化学清洗：对灼烧后的硅基置于清洗溶液内，进行化学清洗；
S3、物理清洗：将酸洗后的硅基置于平板擦洗机内，进行物理清洗；
S4、风干处理：对物理清洗后的硅基置于风干机中进行风干，得到待用的硅基；
S5、压印非金属介质薄膜：将待用的硅基置于热压机中，在150-200°C条件下，将非金属介质薄膜压印到硅基上；
S6、压印金-聚酰亚胺薄膜：在150-200°C条件下，将金-聚酰亚胺薄膜通过热压机压印到非金属介质薄膜上，在150-200°C条件下，将另一片金-聚酰亚胺薄膜通过热压机压印到前一个金-聚酰亚胺薄膜上，即可得到太赫兹超材料增透膜；
S7、压印PET膜：在250-280°C条件下，将S6中得到的太赫兹超材料增透膜通过热压机压印到PET膜上，即可得到太赫兹材料制作PET膜。
2.根据权利要求1所述的一种太赫兹材料制作PET膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：根据S1中的操作步骤，高温灼烧的温度为600-700°C，灼烧时间为2-3min。
3...
【专利技术属性】
技术研发人员：张晓，许荣，高林，
申请(专利权)人：沪本新材料科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。