涂敷组合物、使该组合物固化的方法、阻挡膜及固化物的制造方法技术

本发明专利技术的课题在于提供涂布性良好、可得到耐湿性高的固化物的涂敷组合物。上述课题可以通过含有具有脂环结构的聚合物及溶剂(B)的涂敷组成来解决。具有脂环结构的聚合物优选为烯烃聚合物(A)。上述烯烃聚合物(A)优选具有下述通式(I)、(II)、(III)、(IIIA‑1)或(IIIA‑2)所表示的重复单元。优选进一步含有(甲基)丙烯酸类单体(C)。也优选进一步含有自由基聚合引发剂(D)。溶剂(B)也优选为芳香族系溶剂或氯系溶剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂敷组合物、使该组合物固化的方法、阻挡膜及固化物的制造方法
本专利技术涉及含有具有脂环结构的聚合物及溶剂的涂敷组合物、及由该涂敷组合物得到的阻挡膜。
技术介绍
一直以来，在光学材料、汽车、建筑材料、电子材料等各种用途中使用了涂敷组合物。近年来，在将涂敷组合物用于偏振片的保护膜或光学补偿膜等用途的情况下，要求可得到耐湿性优异的固化物的涂敷组合物。在专利文献1～4中，公开了各种涂敷组合物。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平7-066538号公报专利文献2：日本特开平10-147749号公报专利文献3：日本特开2006-307147号公报专利文献4：日本特开2002-38076号公报
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供涂布性良好、可得到耐湿性良好的固化物的涂敷组合物。本专利技术人反复进行了深入研究，结果认识到：含有具有脂环结构的聚合物及溶剂的涂敷组合物的涂布性高且其固化物的耐湿性高，从而完成本专利技术。本专利技术提供一种涂敷组合物，其含有具有脂环结构的聚合物及溶剂(B)。专利技术效果本专利技术的涂敷组合物成为涂布性良好、其固化物的耐湿性高的组合物。上述固化物作为阻挡膜是适宜的。具体实施方式以下，对本专利技术的涂敷组合物基于优选的实施方式进行说明。本专利技术的涂敷组合物含有具有脂环结构的聚合物及溶剂(B)。以下，对各成分依次进行说明。1.具有脂环结构的聚合物本专利技术的涂敷组合物含有具有脂环结构的聚合物。这里，作为脂环结构，可举出饱和环状烃(环烷烃)结构、不饱和环状烃(环烯烃)结构等。其中，从容易形成耐湿性优异的固化物的观点出发，优选环烷烃结构。构成脂环结构的碳原子数没有特别限定，通常可以设定为4～30个、优选5～20个、更优选5～15个的范围。这是由于，通过上述碳原子数为上述的范围，变得容易形成耐湿性优异的固化物。作为上述具有脂环结构的聚合物，只要是具有脂环结构即可，可以使用(1)含有主链上具有脂环结构的重复单元的聚合物(以下，有时称为环状烯烃聚合物(A))、(2)含有侧链上具有脂环结构的重复单元的聚合物(以下，有时称为乙烯基脂环式聚合物)、(3)含有主链及侧链这两者上具有脂环结构的重复单元的聚合物、即为环状烯烃聚合物(A)并且含有侧链上具有脂环结构的重复单元的聚合物(以下，有时称为聚合物(A2))中的任一者。在本专利技术中，从成为相对于环己烷、甲乙酮及醋酸丁酯等通用的有机溶剂的溶解性优异、溶剂选择的自由度优异的物质的观点出发，上述具有脂环结构的聚合物优选为至少含有侧链上具有脂环结构的重复单元的聚合物、即上述乙烯基脂环式聚合物或聚合物(A2)等。另外，上述具有脂环结构的聚合物为含有主链或侧链上具有脂环结构的重复单元的聚合物，通常为包含2个以上主链或侧链上具有脂环结构的重复单元的聚合物。(1)含有主链上具有脂环结构的重复单元的聚合物作为上述含有主链上具有脂环结构的重复单元的聚合物、即环状烯烃聚合物(A)，只要是含有主链上具有脂环结构的重复单元则没有特别限制，可以使用以往公知的聚合物。这里，所谓主链上具有脂环结构的重复单元是指脂环结构的一部分构成聚合物的主链的结构，例如是指通过环烯烃等环结构内的烯键式不饱和键彼此聚合而得到的结构等。作为这样的含有主链上具有脂环结构的重复单元的聚合物，例如具有下述通式(I)、(II)或(III)所表示的重复单元的聚合物由于耐湿性提高，因此优选。这里，所谓具有通式(I)、(II)或(III)所表示的重复单元，只要是具有通式(I)、(II)或(III)所表示的重复单元中的至少1种即可，根据需要也可以使用具有通式(I)、(II)及(III)以外的重复单元的聚合物。作为上述环状烯烃聚合物(A)，没有特别限制，可以使用以往公知的聚合物，例如具有下述通式(I)或(II)所表示的重复单元的聚合物(以下，有时称为环状烯烃聚合物(A1))由于耐湿性提高，因此优选。另外，作为上述环状烯烃聚合物(A)，从成为耐湿性优异的聚合物的方面出发，也可以优选使用后述的具有通式(III)所表示的重复单元的聚合物等。另外，作为上述环状烯烃聚合物(A)，从耐湿性及固化物的密合性提高的观点出发，也可以优选使用具有下述通式(IIIA-1)、(IIIA-2)所表示的重复单元的聚合物。(1-1)具有通式(I)或(II)所表示的重复单元的环状烯烃聚合物(A)在本专利技术中，所谓“烯烃聚合物(A)具有通式(I)或(II)所表示的重复单元”是指烯烃聚合物(A)为(a)通式(I)所表示的重复单元的均聚物、或(b)通式(II)所表示的重复单元的均聚物、或(c)通式(I)所表示的重复单元与通式(II)所表示的重复单元的共聚物、或(d)通式(I)所表示的重复单元与其他聚合性化合物的共聚物、或(e)通式(II)所表示的重复单元与其他聚合性化合物的共聚物、或(e)通式(I)所表示的重复单元与通式(II)所表示的重复单元与其他聚合性化合物的共聚物。关于与通式(I)或(II)所表示的重复单元进行聚合的其他聚合性化合物，在下文进行叙述。[化学式1](式中，R1～R4分别独立地表示氢原子、卤素原子或有时具有取代基的碳原子数为1～30的烃基，上述碳原子数为1～30的烃基有时具有包含氧原子、硫原子、氮原子或硅原子的连结基团，R1与R2、R3与R4有时彼此键合而形成环，m表示0或正的整数，*表示键合点。)[化学式2](式中，R5～R8分别独立地表示氢原子、卤素原子或有时具有取代基的碳原子数为1～30的烃基，上述碳原子数为1～30的烃基有时具有包含氧原子、硫原子、氮原子或硅原子的连结基团，R5与R6、R7与R8有时彼此键合而形成环，p及q分别独立地表示0或正的整数，*表示键合点。)在上述通式(I)及(II)中，作为R1～R8所表示的卤素原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子等。作为R1～R8所表示的有时具有取代基的碳原子数为1～30的烃基，例如可举出有时具有取代基的碳原子数为1～30的烷基、有时具有取代基的碳原子数为6～30的芳基及有时具有取代基的碳原子数为7～30的芳基烷基。作为有时具有取代基的碳原子数为1～30的烷基，例如可举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基、戊基、异戊基、叔戊基、己基、环己基、庚基、辛基、壬基、乙基辛基、2-甲氧基乙基、3-甲氧基丙基、4-甲氧基丁基、2-丁氧基乙基、甲氧基乙氧基乙基、甲氧基乙氧基乙氧基乙基、3-甲氧基丁基、2-甲基硫代乙基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、溴甲基、二溴甲基、三溴甲基、二氟乙基、三氯乙基、二氯二氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基、十氟戊基、十三氟己基、十五氟庚基、十七氟辛基、甲氧基甲基、1,2-环氧基乙基、甲氧基乙基、甲氧基乙氧基甲基、甲基硫代甲基、乙氧基乙基、丁氧基甲基、叔丁基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂敷组合物，其含有具有脂环结构的聚合物、及溶剂(B)。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180213 JP 2018-023301;20180727 JP 2018-1418191.一种涂敷组合物，其含有具有脂环结构的聚合物、及溶剂(B)。


2.根据权利要求1所述的涂敷组合物，其中，所述具有脂环结构的聚合物为环状烯烃聚合物(A)。


3.根据权利要求2所述的涂敷组合物，其中，所述环状烯烃聚合物(A)具有下述通式(I)、(II)、(III)、(IIIA-1)或(IIIA-2)所表示的重复单元，



式中，R1～R4分别独立地表示氢原子、卤素原子或可具有取代基的碳原子数为1～30的烃基，所述碳原子数为1～30的烃基可具有包含氧原子、硫原子、氮原子或硅原子的连结基团，R1与R2、R3与R4可彼此键合而形成环，m表示0或正的整数，*表示键合点；



式中，R5～R8分别独立地表示氢原子、卤素原子或可具有取代基的碳原子数为1～30的烃基，所述碳原子数为1～30的烃基可具有包含氧原子、硫原子、氮原子或硅原子的连结基团，R5与R6、R7与R8可彼此键合而形成环，p及q分别独立地表示0或正的整数，*表示键合点；



式中，R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17及R18分别独立地表示氢原子、卤素原子或可具有取代基的碳原子数为1～30的烃基，所述碳原子数为1～30的烃基可具有包含氧原子、硫原子、氮原子或硅原子的连结基团，
R11与R12、R12与R13、R13与R14、R14与R15、R15与R16、R16与R17、R17与R18可彼此键合而形成环，
*表示键合点；



式中，R41、R42、R43、R44、R45及R46分别独立地表示氢原子、卤素原子或可具有取代基的碳原子数为1～30的烃基，
所述碳原子数为1～30的烃基可具有包含氧原子、硫原子、氮原子或硅原子的连结基团，
R41与R42、R42与R43、R43与R44、R44与R45、R45与R46可彼此键合而形成环，
*表示键合点；



式中，R51、R52、R53及R54分别独立地表示氢原子、卤素原子或可具有取代基的碳原子数为1～30的烃基，
所述碳原子数为1～30的烃基可具有包含氧原子、硫原子、氮原子或硅原子的连结基团，
R51与R52、R52与R53、R53与R54可彼此键合而形成环，
*表示键合点。


4....

【专利技术属性】
技术研发人员：岩岛智幸，原宪司，松土和彦，
申请(专利权)人：株式会社艾迪科，
类型：发明
国别省市：日本;JP