一种匀胶显影设备使用的高精度胶泵制造技术

本发明专利技术公开了一种匀胶显影设备使用的高精度胶泵，半导体加工领域；匀胶显影设备使用的高精度胶泵包括：驱动气缸、连接杆、风囊、壳体、端盖、第一单向阀和第二单向阀；驱动气缸与连接杆的第一端固定连接，风囊与连接杆的第二端固定连接，壳体罩设于风囊外围，驱动气缸通过端盖与壳体固定连接；第一单向阀固定于壳体进料口，第二单向阀固定于壳体出料口；当驱动气缸驱动推动连接杆往复运动时，连接杆带动风囊在壳体运动；本发明专利技术的匀胶显影设备使用的高精度胶泵通过单向阀的设计，保证了胶水流动方向的准确性，使喷胶机每次喷胶都能达到一定了喷胶量，提高了喷胶量的精度，同时也避免了首次喷胶量不足需要二次喷胶的过程，减少了胶水的浪费。

【技术实现步骤摘要】
一种匀胶显影设备使用的高精度胶泵
本专利技术半导体加工领域，尤其涉及一种匀胶显影设备使用的高精度胶泵。
技术介绍
在半导体行业中，光刻工艺应用非常广泛。光刻的基本工艺是由光刻胶涂覆、曝光、显影等步骤构成。光刻胶本身能以液态的形式存在。设备在涂覆光刻胶时对光刻胶的均匀性非常重要。对胶泵的性能、精度要求都非常高。如中国专利技术专利CN105834069A所公开的一种电动喷胶装置及方法，所述电动喷胶装置包括施胶喷头、电动喷胶泵和盛胶瓶，所述施胶喷头与电动喷胶泵上的施胶喷头接口连接相通，所述盛胶瓶与电动喷胶泵上的输胶管接口连接相通；所述施胶喷头包括相互连接的喷头外罩、喷头内罩，所述喷头外罩与喷头内罩之间形成空腔，在喷头内罩上开设喷胶孔。上述现有技术的喷胶机结构无法完成对光刻胶使用量的准确控制。
技术实现思路
一、要解决的技术问题本专利技术的目的是针对现有技术所存在的上述问题，特提供一种匀胶显影设备使用的高精度胶泵，解决现有喷胶泵无法对光刻胶使用量的准确控制的问题。二、技术方案>为解决上述技术问题本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种匀胶显影设备使用的高精度胶泵，其特征在于，所述匀胶显影设备使用的高精度胶泵包括：驱动气缸(1)、连接杆(2)、风囊(3)、壳体(4)、端盖(5)、第一单向阀(6)和第二单向阀(7)/n所述驱动气缸(1)与所述连接杆(2)的第一端固定连接，所述风囊(3)与所述连接杆(2)的第二端固定连接，所述壳体(4)罩设于所述风囊(3)外围，所述驱动气缸(1)通过所述端盖(5)与所述壳体(4)固定连接；/n所述第一单向阀(6)固定于所述壳体(4)的进料口，所述第二单向阀(7)固定于所述壳体(4)的出料口/n当所述驱动气缸(1)驱动推动所述连接杆(2)往复运动时，所述连接杆(2)带动所述风囊(3)在所述...

【技术特征摘要】
1.一种匀胶显影设备使用的高精度胶泵，其特征在于，所述匀胶显影设备使用的高精度胶泵包括：驱动气缸(1)、连接杆(2)、风囊(3)、壳体(4)、端盖(5)、第一单向阀(6)和第二单向阀(7)
所述驱动气缸(1)与所述连接杆(2)的第一端固定连接，所述风囊(3)与所述连接杆(2)的第二端固定连接，所述壳体(4)罩设于所述风囊(3)外围，所述驱动气缸(1)通过所述端盖(5)与所述壳体(4)固定连接；
所述第一单向阀(6)固定于所述壳体(4)的进料口，所述第二单向阀(7)固定于所述壳体(4)的出料口
当所述驱动气缸(1)驱动推动所述连接杆(2)往复运动时，所述连接杆(2)带动所述风囊(3)在所述壳体(4)运动。


2.如权利要求1所述的匀胶显影设备使用的高精度胶泵，其特征在于，所述所述驱动气缸(1)与所述端盖(5)之间设有第一密封圈(8)。


3.如权利要求2所述的匀胶显影设备使用的高精度胶泵，其特征在于，所述所述第一单向阀(6)或所述第二单向阀(7)与所述壳体(4)的连接处设有第二密封圈(9)。


4.如权利要求3所述的匀胶显影设备使用的高精度胶泵，其特征在于，所述第一单向阀(6)和第二单向阀(7)均包括阀体(101)、球体(102)、球座(103)和挡圈(104)；
所述球体(10...

【专利技术属性】
技术研发人员：施科科，王冲，
申请(专利权)人：宁波润华全芯微电子设备有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33