层叠基板、发光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够抑制外光的反光从而得到良好的视觉辨认度的发光装置。发光装置具有：透光性基板；发光设备元件，其形成在透光性基板的一个主面的上方，包括上部电极、发光层以及下部电极；和多孔质层，其形成在透光性基板的另一个主面上，且是具有多个空孔的有机材料层。在多孔质层的与透光性基板呈相反侧的主面上，一部分多个空孔的内表面可以呈露出，在内表面呈露出的空孔内可以存在气体，另一部分多个空孔的内面未露出。

【技术实现步骤摘要】
层叠基板、发光装置本申请是申请日为2014年12月9日、申请号为201410746129.7的专利技术申请的分案申请，该申请的专利技术创造名称为层叠基板、发光装置以及发光装置的制造方法。
本专利技术涉及层叠基板、发光装置。
技术介绍
LCD(LiquidCrystalDisplay：液晶显示器)或有机EL(Electroluminescence：电致发光)显示器这样的显示装置，一般在玻璃基板或塑料基板等基板上具有：例如，将由金属薄膜构成的电极层、TFT(ThinFilmTransistor：薄膜晶体管)层、绝缘层、发光层、用于防止来自外部的水分或氧的侵入的密封层、彩色滤光片、偏光板、用于防止由于来自外部的机械性应力而导致的损伤的保护层等各种层进行层叠而成的结构(例如，专利文献1)。通过在塑料膜(塑料基板)上形成电子设备元件，能够实现具有轻、薄、不易破裂、可弯曲这些特点的电子设备。这种电子设备被统称为挠性电子设备，近年来，正在活跃地进行开发。作为电子设备的例子，举例有显示器、光电传感器、RF标签等。使用这种塑料基板的电子设备的制造方法大致分类为3种方法。第1种方法是：将塑料膜临时固定在玻璃支撑基板上，在形成电子设备元件之后分离支撑基板的方法。第2个方法是：在不使用支撑基板的情况下，在塑料膜上形成电子设备元件的方法。第3个方法是：在支撑基板上形成电子设备元件之后，转印到塑料膜的方法。第2种方法，要通过辊对辊法等来直接形成在膜上，但由于没有支撑基板，因此膜的尺寸容易变化，在图案加工的尺寸和图案化的重合的精度方面存在问题。第3种方法，当将在玻璃支撑基板上制造的电子设备元件转印到塑料膜时，由于即使是暂时性的但也会产生支撑电子设备元件的塑料基板不存在于电子设备元件的基底的状态，因此转印时的电子设备元件的机械性强度较弱，可能会破损。这在为了获得电连接而必须配置在转印的塑料膜的外侧的布线部分特别显著。关于第1种方法，由于能够使用现有的电子设备的制造装置，因此能够抑制设备投资等。此外，由于在制造工序中，是被固定在玻璃支撑基板，因此加工尺寸稳定性优异，在玻璃支撑基板分离后，由于具有塑料膜，因此机械强度得以保持。其结果，具有能够容易地进行设备制造的优点。另一方面，在通过第1种方法来制造电子设备的情况下，在形成电子设备元件之后需要分离玻璃支撑基板。但是，在该情况下，在最初将塑料膜临时固定在玻璃支撑基板上之后，由于在形成电子设备元件的过程中经过了高温加热工序等，因此塑料膜与玻璃支撑基板之间的紧贴性变高，存在无法容易地进行分离的情况。对于该问题，在专利文献1中，公开了：通过利用激光来将玻璃支撑基板与塑料膜的界面的紧贴部分切断，从而分离玻璃支撑基板的方法。此外，为了在专利文献1中公开的利用激光来分离玻璃支撑基板的方法中更稳定地进行分离，专利文献2中公开了：将非晶硅插入到玻璃支撑基板与塑料基板之间，通过激光照射来从非晶硅产生氢气，从而促进分离的方法。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特许第4870156号公报专利文献2：日本特许第3809681号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题在现有的发光装置中，希望抑制反光以得到良好的视觉辨认度。本专利技术的一个实施方式提供一种抑制反光以具有良好的视觉辨认度的发光装置。解决课题的手段本公开的一个实施方式涉及的发光装置具有：透光性基板；发光设备元件，其形成在所述透光性基板的一个主面的上方；和多孔质层，其形成在所述透光性基板的另一个主面上，且是具有多个空孔的有机材料层。另外，综合或者具体的实施方式既可以通过部件、系统或者方法来实现，也可以通过部件、装置、系统以及方法的任意组合来实现。专利技术效果本专利技术的一个实施方式涉及的发光装置能够抑制反光以得到良好的视觉辨认度。附图说明图1是示意性地表示本专利技术的第1实施方式涉及的显示装置的结构的局部剖视图。图2是本实施方式涉及的显示装置中的多孔质层以及透光性基板的截面的显微镜照片。图3(a)是示意性地表示本实施方式涉及的显示装置的结构被应用到底部发光(bottomemission)型的显示装置的情况下的反光的情形的图。图3(b)是示意性地表示实施方式涉及的显示装置的结构被应用到顶部发光(topemission)型的显示装置的情况下的反光的情形的图。图4是示意性地表示本实施方式涉及的显示装置的制造过程的一部分的局部剖视图。图4(a)是支撑基板的局部剖视图。图4(b)是表示在支撑基板上形成多孔质层的状态的局部剖视图。图4(c)是表示在多孔质层上形成透光性基板的状态的局部剖视图。图4(d)是表示在透光性基板上形成密封层的状态的局部剖视图。图5是示意性地表示图4的后续的显示装置的制造过程的一部分的局部剖视图。图5(a)是表示在密封层上形成电极层的状态的局部剖视图。图5(b)是表示在电极层上形成TFT主体层的状态的局部剖视图。图5(c)是表示在TFT主体层上形成有机EL元件层的状态的局部剖视图。图6是示意性地表示图5的后续的显示装置的制造过程的一部分的局部剖视图。图6(a)是示意性地表示多孔质层被破坏且支撑基板被分离的状态的支撑基板以及显示装置的局部剖视图。图6(b)是示意性地表示实施方式涉及的显示装置完成了的状态的局部剖视图。图7是表示本实施方式涉及的显示装置的制造过程的示意工序图。图8(a)是示意性地表示本实施方式的变形例2涉及的显示装置形成在支撑基板上的状态的局部剖视图。图8(b)是示意性地表示变形例2涉及的显示装置的结构的局部剖视图。图9是示意性地表示变形例2涉及的显示装置的制造过程的一部分的局部剖视图。图9(a)是示意性地表示在支撑基板上形成第1多孔质层的状态的局部剖视图。图9(b)是表示在第1多孔质层上形成第2多孔质层的状态的局部剖视图。图9(c)是示意性地表示在第2多孔质层上形成透光性基板的状态的局部剖视图。图9(d)是支撑基板被分离之后的多孔质层220以及透光性基板30的局部剖视图。图10是示意性地表示本实施方式的变形例8涉及的显示装置的制造过程的一部分的局部剖视图。图10(a)是示意性地表示在支撑基板上形成多孔质层的状态的局部剖视图。图10(b)是示意性地表示在多孔质层上形成薄膜的状态的局部剖视图。图11是示意性地表示图10的后续的变形例8涉及的显示装置的制造过程的一部分的局部剖视图。图11(a)是示意性地表示在UV光被照射在薄膜的情形的局部剖视图。图11(b)是示意性地表示UV照射后的薄膜的情形的局部剖视图。图11(c)是示意性地表示在UV照射后的薄膜上形成透光性基板的状态的局部剖视图。图12是示意性地表示本专利技术的实施方式未涉及的显示装置的结构的局部剖视图。图13(a)是示意性地表示本专利技术的实施方式未涉及的底部发光型的显示装置中的反光的情形的图。图13(b)是示意性地表示本专利技术的实施方式未涉及的顶部发光型的显示装置中的反光的情形的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种发光装置，具有：/n透光性基板；/n发光设备元件，其形成在所述透光性基板的一个主面的上方，包括上部电极、发光层以及下部电极；和/n多孔质层，其形成在所述透光性基板的另一个主面上，且是具有多个空孔的有机材料层。/n

【技术特征摘要】
20140114 JP 2014-004451;20140114 JP 2014-0044521.一种发光装置，具有：
透光性基板；
发光设备元件，其形成在所述透光性基板的一个主面的上方，包括上部电极、发光层以及下部电极；和
多孔质层，其形成在所述透光性基板的另一个主面上，且是具有多个空孔的有机材料层。


2.根据权利要求1所述的发光装置，
在所述多孔质层的与所述透光性基板呈相反侧的主面上，一部分所述多个空孔的内表面呈露出，
在所述内表面呈露出的所述空孔内存在气体，另一部分所述多个空孔的内面未露出。


3.根据权利要求1所述的发光装置，
所述多孔质层的所述透光性基板侧的部分中的所述空孔的平均直径比所述多孔质层的与所述透光性基板呈相反侧的部分中的所述空孔的平均直径小。


4.根据权利要求1所述的发光装置，
在所述多孔质层中，包含与所述透光性基板呈相反侧的主面在内的第1多...

【专利技术属性】
技术研发人员：奥本健二，田中裕司，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP