阵列基板和显示装置制造方法及图纸

本申请提出一种阵列基板和一种显示装置，在封胶涂布区处上设计一种特殊设计的金属走线，并且运用光的衍射原理，增加所述封胶涂布区上的封胶被紫外光照射到的面积，使用本发明专利技术的阵列基板制作的显示装置，封胶涂布区处的开口率高，降低了未固化的封胶污染所述显示装置的液晶分子的风险，提升了所述显示装置的品质。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板和显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板和一种显示装置。
技术介绍
在液晶显示
中，液晶显示面板通常由一薄膜电晶体(thinfilmtransistor,TFT)基板、一彩色滤光片(colorfilter,CF)、封胶涂布区以及填充在两者之间的液晶分子所组成，所述封胶涂布区上有用于黏合所述TFT基板以及所述CF基板的封胶，目前市面上所使用的封胶多为热固型封胶和紫外线固化型封胶。若封胶未固化完全，未固化之封胶可能会对液晶分子造成污染，降低显示面板的品质，因此当使用紫外线固化型封胶时，液晶显示面板的封胶涂布区上的金属线需要被设计成能够让紫外光通过，也就是说，封胶涂布区的开口率越高越好，请参考图1和图2，现有技术中，金属走线1的宽度D1约为10μm，任两相邻的所述金属走线1之间的距离D2也约为10μm，封胶涂布区的开口率一般小于50％，所述封胶涂布区上的封胶2依然存在着未完全固化的风险，因此，需要一种新的阵列基板，用以解决现有液晶显示面板的封胶涂布区因开口率不足，从而导致未固化的封胶污染液晶分子的技术问题。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括：/n一液晶填充区；/n一封胶涂布区，所述封胶涂布区包围所述液晶填充区；以及/n一金属走线区，所述金属走线区设置在所述封胶涂布区之上；/n其中，所述金属走线区还包括多条间格设置的金属走线，所述金属走线的剖面宽度从远离所述封胶涂布区往接近所述封胶涂布区的方向递减。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括：
一液晶填充区；
一封胶涂布区，所述封胶涂布区包围所述液晶填充区；以及
一金属走线区，所述金属走线区设置在所述封胶涂布区之上；
其中，所述金属走线区还包括多条间格设置的金属走线，所述金属走线的剖面宽度从远离所述封胶涂布区往接近所述封胶涂布区的方向递减。


2.根据权利要求1的阵列基板，其中，所述金属走线的剖面形状为倒梯形、T形或倒金字塔形。


3.根据权利要求1的阵列基板，其中，所述金属走线的剖面形状为层状。


4.根据权利要求1的阵列基板，其中，任两相邻的所述金属走线顶部之间的距离介于360nm～400nm之间。


5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈仲天，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44