一种高频应用电介质材料及其制备方法技术

技术编号:25260080 阅读:64 留言:0更新日期:2020-08-14 22:55
一种高频低损耗的电介质材料,其包括以下质量百分比的组分:45‑60wt%的CBSZA玻璃粉和45‑55wt%的分子筛;其中,CBSZA玻璃粉包括以下质量百分比的组分:SiO

【技术实现步骤摘要】
一种高频应用电介质材料及其制备方法
本专利技术涉及电子陶瓷材料
,一种高频应用的电子陶瓷材料及其制备方法。
技术介绍
在5G高频通信应用中,具有高品质因数(Q)的介电材料能够有效降低能量损失率,对于高频应用的Q>1000的非常高的Q值的介电材料的具有非常大的需求。但是高Q的结晶氧化物材料,具有高的烧结温度,一般在高于1000℃的高温下烧结。在微波和高频通讯领域,低介电常数k材料具有较低的信号损耗或较低的延迟,能够减少导线之间的串扰。一般要求介电常数K≤6,优选<4。常见的高Q值、低K值的氧化物陶瓷材料,如二氧化硅(K=3.8)、LiAlSiO4(K=4.8)、Al2O3·SiO2(K=5.3),NaAlSi3O8(K=5.5),Mg2P2O7(K=6.1),堇青石(2MgO·2Al2O3·5SiO2)(K=6.2)和2ZnO·SiO2(K=6.6),但是这类材料具有非常高的烧结温度(≥高于1000℃),不能与银电极共烧。目前常用的低温共烧陶瓷(LTCC)材料,K=4-12。现有技术中,通常向低介电常数陶瓷材料中添加本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高频低损耗的电介质材料,其包括以下质量百分比的组分:45-60wt%的CBSZA玻璃粉和45-55wt%的分子筛;/n其中,CBSZA玻璃粉包括以下质量百分比的组分:SiO

【技术特征摘要】
1.一种高频低损耗的电介质材料,其包括以下质量百分比的组分:45-60wt%的CBSZA玻璃粉和45-55wt%的分子筛;
其中,CBSZA玻璃粉包括以下质量百分比的组分:SiO245-60%、B2O38-30%、Al2O35-20%、CaO10-30%、BaO5-10%、ZnO5-15%、Na2O0-5%;
其中,所述分子筛是CHA结构的分子筛。


2.如权利要求1所述的高频低损耗的电介质材料,其中,所述CHA结构的分子筛的硅铝比以质量比计为10-35。


3.如权利要求1所述的高频低损耗的电介质材料,其中,CBSZA玻璃粉的比表面积为0.2-2.0m2/g。


4.一种如权利要求1-3任一所述的高频低损耗的电介质材料的制备方法,包括:向CBSZA玻璃粉中添加分子筛粉体,经研磨分散,得到所述电介质材料。


5.如权利要求4所述的高频低损耗的电介质材料的制备方法,包括步骤:
(1)制备CBSZA玻璃粉:
按照配方称取CBSZA玻璃...

【专利技术属性】
技术研发人员:宋锡滨艾辽东奚洪亮
申请(专利权)人:山东国瓷功能材料股份有限公司
类型:发明
国别省市:山东;37

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