支撑装置、投影装置和机柜制造方法及图纸

技术编号:25240526 阅读:32 留言:0更新日期:2020-08-11 23:30
本实用新型专利技术公开了支撑装置、投影装置和机柜。支撑装置中第三定位单元与第一定位单元和第二定位单元之间可通过磁力相互吸引,第三定位单元可与第二定位单元通过定位斜面接触,定位斜面的方向倾斜于平移组件与导向组件之间的平移方向。有益效果:第三定位单元与第一定位单元和第二定位单元之间可通过磁力相互吸引,使平移组件与导向组件之间可定位准确,且磁力根据第三定位单元与第一定位单元或第二定位单元之间的间距逐渐变化,有利于减小平移组件与导向组件之间相互定位时产生的冲击,从而实现平稳定位和准确定位。本实用新型专利技术涉及用于投影设备的支撑装置。

【技术实现步骤摘要】
支撑装置、投影装置和机柜
本技术涉及用于投影设备的支撑装置,特别涉及支撑装置、投影装置和机柜。
技术介绍
用于投影设备的支撑装置可为投影机提供导向和定位作用。常见的支撑装置的是滑轨式的,投影机可通过滑轨在预设的活动范围内往复运动。滑轨式的支撑装置使投影机滑移到预设的工作位置进行投影,并可通过滑轨平移回到收纳状态。支撑装置中滑轨的限位功能一般是通过滑轨自身运动到极限状态来实现的。用户通过手动推动投影机沿滑轨平移,使投影机运动到滑轨的极限状态,从而使投影机实现定位。现有技术中的支撑装置的技术缺陷在于:滑轨中缺少缓和的制动机制,当滑轨运动到极限状态时,滑轨中的限位机构会发生一定程度的碰撞,碰撞容易使投影机的定位精度变差,使投影机逐渐偏离预设的工作位置,从而使投影画面的位置出现偏移。
技术实现思路
本技术的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提供一种可实现平稳定位且定位准确的支撑装置、投影装置和机柜。为解决上述技术问题所采用的技术方案:支撑装置,包括:导向组件,导向组件上设有第一定位单元和第二定位单元;平移组件,平移组件上设有第三定位单元,第三定位单元与第一定位单元和第二定位单元之间可通过磁力相互吸引,第三定位单元与第二定位单元之间还设有定位斜面,平移组件可沿导向组件平移并带动第三定位单元在第一定位单元与第二定位单元之间运动,第三定位单元可与第二定位单元通过定位斜面接触,定位斜面的方向倾斜于平移组件与导向组件之间的平移方向。上述支撑装置至少具有以下有益效果:第三定位单元与第一定位单元和第二定位单元之间可通过磁力相互吸引,使平移组件与导向组件之间可定位准确,且磁力根据第三定位单元与第一定位单元或第二定位单元之间的间距逐渐变化,有利于减小平移组件与导向组件之间相互定位时产生的冲击,从而实现平稳定位和准确定位;在第三定位单元与第二定位单元相互接近时,第三定位单元和第二定位单元可通过定位斜面相互接触,定位斜面可为第三定位单元和第二定位单元提供缓和的限位作用,有利于进一步减小平移组件与导向组件之间相互定位时产生的冲击。在本技术的一种可能的实施例中,第一定位单元、第二定位单元和第三定位单元上分别设有永磁体,永磁体使第三定位单元与第一定位单元和第二定位单元之间可通过磁力相互吸引。永磁体使第一定位单元、第二定位单元和第三定位单元的磁性可保持稳定,有利于提高支撑装置的可靠性。在本技术的一种可能的实施例中,第二定位单元上还设有定位块,第三定位单元上还设有定位槽,定位块在第二定位单元的定位斜面上凸起,定位槽在第三定位单元的定位斜面上凹陷,定位块可嵌入到定位槽内。定位块与定位槽相互配合,可减小第三定位单元与第二定位单元之间错位的可能性。在本技术的一种可能的实施例中,定位斜面包括第一斜面和第二斜面,定位块和定位槽设在定位斜面的中部并将定位斜面分隔成第一斜面和第二斜面。定位块和定位槽布置在第一斜面和第二斜面之间,可减小第三定位单元与第二定位单元发生侧向错位的风险。投影装置,包括支撑装置。机柜,包括支撑装置。在本技术的一种可能的实施例中,机柜还包括柜体,导向组件设在柜体上,平移组件还包括平台,平台可通过导向组件在柜体上平移。投影机安装在平台上,柜体可为投影机提供收纳空间。当第三定位单元与第一定位单元通过磁力相互贴近时,投影机处于收纳状态,投影机此时可缩进到柜体内。在本技术的一种可能的实施例中,柜体上还设有若干线槽,线槽布置在机柜的表面。线槽可为投影机提供线缆收纳功能。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:图1为本技术实施例的机柜的主视图;图2为本技术实施例的图1的俯视图;图3为本技术实施例的图1的左视图;图4为本技术实施例的机柜的立体图;图5为本技术实施例的图1的A截面的剖视图;图6为本技术实施例的第三定位单元与第二定位单元配合状态的顶面示意图;图7为本技术实施例的图6的B截面的剖视图;图8为本技术实施例的图7的C截面的剖视图;图9为本技术实施例的第三定位单元与第二定位单元配合状态的立体图;图10为本技术实施例的第三定位单元与第二定位单元分解状态的示意图;附图标记:第一定位单元1、第二定位单元2、第三定位单元3、定位斜面4、内轨5、外轨6、永磁体7、定位块8、定位槽9、第一斜面10、第二斜面11、柜体12、平台13、线槽14、投影机15、安装孔16。具体实施方式本部分将详细描述本技术的具体实施例,本技术之较佳实施例在附图中示出,附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述,使人能够直观地、形象地理解本技术的每个技术特征和整体技术方案,但其不能理解为对本技术保护范围的限制。在本技术的描述中,需要理解的是,涉及到方位描述,例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中,若干的含义是一个或者多个,多个的含义是两个以上,大于、小于、超过等理解为不包括本数,以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。本技术的描述中,除非另有明确的限定,设置、安装、连接等词语应做广义理解,所属
技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本技术中的具体含义。参照图1至10,支撑装置,包括:导向组件,导向组件上设有第一定位单元1和第二定位单元2;平移组件,平移组件上设有第三定位单元3,第三定位单元3与第一定位单元1和第二定位单元2之间可通过磁力相互吸引,第三定位单元3与第二定位单元2之间还设有定位斜面4,平移组件可沿导向组件平移并带动第三定位单元3在第一定位单元1与第二定位单元2之间运动,第三定位单元3可与第二定位单元2通过定位斜面4接触,定位斜面4的方向倾斜于平移组件与导向组件之间的平移方向。上述支撑装置至少具有以下有益效果:第三定位单元3与第一定位单元1和第二定位单元2之间可通过磁力相互吸引,使平移组件与导向组件之间可定位准确,且磁力根据第三定位单元3与第一定位单元1或第二定位单元2之间的间距逐渐变化,有利于减小平移组件与导向组件之间相互定位时产生的冲击,从而实现平稳定位和准确定位;在第三定位单元3与第二定位单元2相互接近时,第三定位单元3和第二定位单元2可通过定位斜面4相互接触,定位斜面4可为第三定位单元3和第二定位单元2提供缓和的限位作用,有利于进一步减小平移组件与导向组件之间相互定位本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.支撑装置,其特征在于,包括:/n导向组件,所述导向组件上设有第一定位单元和第二定位单元;/n平移组件,所述平移组件上设有第三定位单元,所述第三定位单元与所述第一定位单元和所述第二定位单元之间可通过磁力相互吸引,所述第三定位单元与所述第二定位单元之间还设有定位斜面,所述平移组件可沿所述导向组件平移并带动所述第三定位单元在所述第一定位单元与所述第二定位单元之间运动,所述第三定位单元可与所述第二定位单元通过所述定位斜面接触,所述定位斜面的方向倾斜于所述平移组件与所述导向组件之间的平移方向。/n

【技术特征摘要】
1.支撑装置,其特征在于,包括:
导向组件,所述导向组件上设有第一定位单元和第二定位单元;
平移组件,所述平移组件上设有第三定位单元,所述第三定位单元与所述第一定位单元和所述第二定位单元之间可通过磁力相互吸引,所述第三定位单元与所述第二定位单元之间还设有定位斜面,所述平移组件可沿所述导向组件平移并带动所述第三定位单元在所述第一定位单元与所述第二定位单元之间运动,所述第三定位单元可与所述第二定位单元通过所述定位斜面接触,所述定位斜面的方向倾斜于所述平移组件与所述导向组件之间的平移方向。


2.根据权利要求1所述的支撑装置,其特征在于:所述第一定位单元、所述第二定位单元和所述第三定位单元上分别设有永磁体,所述永磁体使所述第三定位单元与所述第一定位单元和所述第二定位单元之间可通过磁力相互吸引。


3.根据权利要求1所述的支撑装置,其特征在于:所述第二定位单元上还设有定位块,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:萧毅郭锦波秦文君
申请(专利权)人:广州市雄云视听设备有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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